• 検索結果がありません。

金属錯体修飾

N/A
N/A
Protected

Academic year: 2021

シェア "金属錯体修飾"

Copied!
1
0
0

読み込み中.... (全文を見る)

全文

(1)

19

― ―

理工学研究所 共同研究第 2 類

金属錯体修飾 DNA プローブを用いた 新規 SNP 解析法の開発

研究代表者 千喜良 誠 研究員

研究目的と背景 高い確率(人口の1 %以上)で見られる遺伝子内での一塩基の個体差を一塩基多型(SNP: Single Nucleotide Polymorphism)という。SNPは個人の身体的特徴、体質、疾病易罹患性、薬剤感受性等を識別する重要な遺伝子 マーカーとして考えられており、現在、溶液ハイプリダイゼーション法をベースにした様々なSNPのスクリーニング戦略が 試みられている。本研究では、膨大な遺伝情報を簡便かつ迅速に解析するために、「高選択的で高感度、ハイスループット でかつ酵素フリーなSNP解析」システムの確立を目的とする。ルテニウム及び白金が有する特徴的な同位体存在比を質量タ グとして利用することで、目的の遺伝情報を錯体の質量とその同位体パターンに変換し、質量分析法よるアウトプットを目 指す。

プローブ設計 ルテニウム白金ヘテロ二核錯体 の協同的形成を利用したSNPタイピング法の模式図 を右に示す。酵素フリーで簡便な検出系を達成する 為に、自発的に進行するプロテインスプライシング 反応に着目した。設計した2種のオリゴヌクレオチ ド(ODN)プローブ(ルテニウム錯体ラベル化プロ ーブ、白金錯体ラベル化プローブ)の錯体部位と ODNを結ぶリンカーは同反応に必須なオリゴペプチ ドユニットによって構成されている。よって、両プ ローブが標的遺伝子に結合した際のみに修飾末端が 互いに隣接する様に設計さえすれば、後は二核錯体 が自発的に形成されると期待される。得られた錯体 は両金属の同位体パターンが混合した特徴的なマス スペクトルを示すため、様々な生体由来物質が混在 するサンプルからも煩雑な分離操作を行うことなく 標的の情報のみを簡便に得ることが期待される。

今後の課題と展望 現在、白金錯体ラベル 化プローブ合成の最終段階の反応収率の向上を 図るため、合成条件の改良を試みている。作成 したプローブは、がん抑制遺伝子 (p53) を標的 遺伝子とし、質量分析法による遺伝子検出につ いての検討を行う。質量分析の対象をDNAでは なく,より良好なイオン化効率を有する金属錯 体にしたことで、高感度化が期待される。

合成 (i) ルテニウム錯体ラベル化プローブ:N 末端保護システインのカルボン酸活性エステルと、

5’末端アミノ化ODNとのカップリング反応を行っ た。N末端の脱保護後、ルテニウム錯体のカルボ ン酸活性エステルとのカップリング反応により目 的とするプローブの合成を行った。

(ii) 白金錯体ラベル化プローブ:Alloc基保護ジ エチルアミンをC末端に修飾したシステイン-アス パラギン-ジペプチドユニットをODN3’末端に 導入した。Alloc基の脱保護後、白金錯体のカルボ ン酸活性エステルとのカップリング反応により目 的とするプローブの合成を行う。

得られたこれらのプローブはHPLCにより単離 し、MALDI -TOFMSにより同定した。

謝辞 上記の研究は、2008 年度から芳賀正明教授、北村裕介助教、準研究員(三田聡司、富森 岳、海原喜彦、村田逸人)

との共同研究として行われ、引き続き2009 年度も継続している。

理工学研究所 共同研究第2類

参照

関連したドキュメント

         カ  ぬ

NPAH は,化学試薬による方法,電気化学反応,ある

実験は,試料金属として融点の比較的低い亜鉛金属(99.99%)を,また不活性ガ

Effective Cooling and Accuracy Improvement in Injection Molding Using a Metal Mold with Cooling Channels Composed by Laser Sinteringlst Report -Fabrication.. of a Mold

peak height of Pt in flameless atomic absorption spectrophotometry... Influence height

租税協定によって、配当金、利息、ロイヤリティと言った項目の税率の軽減、あるいは、恒久 的施設 (PE) が無い、もしくは

個別財務諸表において計上した繰延税金資産又は繰延

駅周辺の公園や比較的規模の大きい公園のトイレでは、機能性の 充実を図り、より多くの方々の利用に配慮したトイレ設備を設置 全