Annual Report
東京電機大学 The Research Institute for Science and Technology 総合研究所年報 Tokyo Denki University
課題番号 Q18K-02
課題名（和文） マイクロ波水熱法を利用したスピネル型酸化物薄膜の低温合成とその電子状態
課題名（英文） Low temperature growth of spinel-type oxide thin films by microwave assisted
hydrothermal method: structural characteristics and electric states
研究代表者 所属（学部、学科・学系・系列、職位） 理工学部・理学系・助教A 氏名 石井 聡 共同研究者 所属（学部、学科・学系・系列、職位） 放射線医学総合研究所・放射線障害治療部・主任研究員 氏名 小西 輝昭 所属（学部、学科・学系・系列、職位） 理工学研究科・理学専攻・修士課程 氏名 楠田 浩樹 所属（学部、学科・学系・系列、職位） 氏名 所属（学部、学科・学系・系列、職位） 氏名 研究成果の概要（和文） 水熱法にマイクロ波照射を組み合わせた合成法により，スピネル型酸化物ZnGa2O4を合成した．その結果， 合成温度を129 °C に低減し，合成時間は 90 s に短縮することができた．ZnGa2O4はワイドバンドギャップ を有することから，本手法の薄膜成長技術への展開により新規の光・電子デバイスの開発が期待できる． 研究成果の概要（英文）
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東京電機大学 The Research Institute for Science and Technology 総合研究所年報 Tokyo Denki University
