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明細書 発明の名称 : ケイ素濃度測定装置 技術分野 000 この発明は 被検液中に含まれる微量のケイ素を 簡易な手段で検出する ケイ素濃度測定装置に関するものである 背景技術 000 シリコン半導体ウェハ上に (Lo x da on O con) 法による素子分離酸化 (s o, 膜 ) を形成す

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(1)

(12)

力条

た国際出

(19)

世界 知

有 権

国際

(10)

国際

開番

(43)

国際

2010 年

2

4

(04.02.2010)

WO 2010/013586 Al

(51)

国際特 許 分

類 絵屋町2 6 7 番地 鳥丸二条 ビル3 階 Kyoto GOlN21/64(2006 0 1) GOlN21/49(2006 0 1) (JP) (21)

国際 出願 番 号

PCT/JP2009/062321 (81) 定

(表示のな 限り

、全

ての種

の国 内保

) AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, (22)

国際 出願

2009年7月6

(06 07 2009) BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, C, (25)

国際 出願

の言語

語 CR, CU, CZ, DE, DK, DM, Dの, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, (26)

国際

開の言語

JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR,

(30) 優先権データ LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW,

特願2008-196092 2008 年7月30

(3007 2008) JP MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, のM, PE, PG, PH,

PL, PT, Rの, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, (71) 出願人 (米

を除< 全ての指定

につ

)

株 SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC,

式 会 社堀 場ア

バ ンス

テ クノ(HORIBA Ad¬ VN, ZA, ZM, ZW vanced Techno,Co.,Ltd.) [JP/JP], 〒6018306 京

府 (84) ( 3 1 Kyoto(JP) 指定 京

都市南 区吉祥 院 宮

の西町

番地

表示のな 限り

、全

ての種類

の広

域保 護

) ARIPO (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, (72) 発

明者

よび NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW), --Lーラシア

(75) 発

明者

/出願人

につ

ての

)

内村

(AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM), ヨーロ ツパ

(Uchimura, Koji) [JP/JP], 〒6018306 京

府京

市 (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB,

南 区吉祥 院 宮

の西

町3 1 番地 株 式 会 社堀 場 GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, ア

バ ンス

テ クノ

Kyoto (JP)

・俣

芳朗 NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR), OAPI (BF, BJ, (Matano, Yoshiro) [JP/JP], 〒6018306 京

府京

都市

CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN,

南 区吉祥 院 宮

の西

町3 1 番地 株 式 会 社堀 場 TD, TG)

バ ンス

テ クノ

Kyoto (JP)

添付公

開書

(74) 理人 西 村 竜平(NISHIMURA, Ryuhei),_

国際調 査 報

2 1条 (3)) 6040857 京

都府

市 中京区烏丸 通二条上る蒔

(54) Title APPARATUS FOR MEASUREMENT OF SILICON CONCENTRATION (54)発

明の名 称 ケ イ

素濃度測定装

(57) Abstract The object aims to detect a trace

[1] quantity of silicon contained in a solution of inter

est by a simple means Thus, disclosed is an appa ratus (1) for measuring the concentration of silicon in a solution of interest, which comprises anexci tation I

t irradiation unit (2) for irradiat面g the solution with an excitation light for silicon, a light detection unit (3) for detecting a fluorescent light and/or a scattered light emitted from silicon in the solution upon the irradiation with the excitation light, and a calculation unit (41) for calculating the concentration of silicon in the solution based on the intensity of the fluorescent light and/or the scattered h

t

(57)要 約 本 発

は、被 検 液中

含ま

る微 量 素 を

る も

ので

のケ

、被 検 液

簡易 な中のケ

手段

イ素で検出す 測定

る装

て、前記 被 検 液

42 CONCENTRATION DISPLAY UNIT ケイ素

る励起 光 を照 射する励起 光

4 1 CALCULATION UNIT 照射 部 と、前記励起 光 が 照 射さ

た前

3 1 LIGHT RECEIVER

2 1 LIGHTSOURCE 記 被 検 液中のケイ素

ら発

る蛍 光及び

32 SPECTROSCOPE

は散 乱 光 を検 出する光 検出部 と、

T CHEMICAL SOLUTIONTANK

前記

蛍光及び

又は散 乱 光

の強 度

記 被 検 液中のケイ素濃度を算出する演算

(2)

名称

:

イ素

分野

000

被 検

中に

微 量

で検

景技

000

リ コ

体 ウ

ェハ上 に

(

Lo

x da

on

O

con)

離 酸 化

(

s

o

)

際の

には

化 膜

(

s

N

)

が用

化 膜

除去

には

、一

ン酸

を用

いた、いわゆ

グ法 が

使

000

3

グ法

行 な

ン酸

循 環

せた

洗 浄

化 膜 と酸 化 膜

リ コ

体 ウ

ェハ を

浸 し

化 膜

除去

000

な ウ

置の

洗 浄

化 膜

ェハ を

る と

ン酸

化 膜

グが

の際

化 膜

s

i

は熱

ン酸

中に

化 合

(

リカ

)

000

リカ

は熱

ン酸

中に

ま ま

ン酸

返 し

化 膜

除去

に用

リカ

状 態

な る と

る と

ン酸

中に析

リカ

ン プ

ン酸

循 環 系

循 環

る と

000

のた

ン酸

リカ

(

許 文

許 文

2

)

ン酸

中に

リカ

P

と極

微 量

000

な微 量

分 を

感 度

に測

には

(3)

分析 法

結 合 プ ラ ズ

マ (

C

P

)

分光分析

C

分析 法 が 用

分析

は大

には

た、

微 量

学分析 法

法 が 知

ン酸

リカ

を測

しよ

る と

ン酸

質 と

な る

適 当

000

8

ン酸

8

6

C

ン酸

リカ

を直

場 合

ン酸

取 し

常温

要 が

のた

度 条

件 が

際の

は大 き

、かつ、

かか

題 点

000

ン酸

リカ

に測

場 合

、一

に導

電率 が 測

定 さ

象 で あ

リカ

結 果

な情

報 が

ず、

が 要

場 合

には不 向 きで あ

術 文

00 0

許 文

:

2 006

2 09 7

許 文

:

2

00

3

8

「 「

6

明が解決

しよ

00

被 検

中に

微 量

で検

提 供

った

課 題

を解決

ための

00

わち

係 る ケ イ

被 検

を測

、前

被 検

射 部

、前

光 が

た前

被 検

又 は散 乱 光 を検

光検

、前

又 は散 乱 光

(4)

被 検

を算

る演

算 部

備 え

特 徴

お、

明の

象 で あ

被 検

中で

と酸

化 合

て存 在

る と

酸 化 ケ

酸 化

て存 在

場 合

00

3

リカ

ン状

又 は

コ ロ

いず

状 態

おい

領 域

で蛍光

た、

ン酸

使

には

又 は

循 環

管 と し

、一

可視 光

光透 過 性

の高

使

00

係 る ケ イ

を用

内部 を

ン酸

リカ

又 は

散 乱

散 乱

光等

散 乱

る よ

な 波

を励

ン酸

リカ

発 し

を測

ン酸

中に存 在

リカ

00

のた

ン酸

リカ

に被

液 と し

て熱

ン酸

要 が

結 果

、高

かつ

ン酸

危 険 を

る と と

消 費

ン酸

に伴

を低 減

置の

中を

を被 検

液 と

際の

件 (温

等 ) で測

可能

かつ

迅 速

可能

な る

ム で

ン酸

度 管

可能

な る

な運

ン酸

再 生 管 理

可能

な る

00

空間

確 保

場 合

置の

を可能

には

、前

射 部

X

光検

光 フ

波 管 と

ム等

備 え

ま し

に直

は光

だ けで

(5)

又 は

波 管

を用

て光

を伝

光源

又 は

光器 (分光器 を

) は配

場 所

光源

又 は

光器

場 所

由に選

00

かつ

際の

件 (温

等 ) で

かつ

迅 速

リカ

を測

可能

な る

00

8

明の一

形態

係 る シ

リカ

形態

る情

理 装

形態

リカ

を示

明 を

ための

形 態

00

明の一

形態

照 し

て説

00 0

形態

係 る シ

リカ

ン酸

蓄液

る薬

光透 過 性

な る

ン酸

リカ

を測

、図

に示

ン酸

に励

射 部

2

ン酸

リカ

発 し

光検

3

ン酸

リカ

を算

る演

算 部

て機 能

る情

理 装

備 え

00

を説

射 部

2

ン ラ ン プ

D

な る

光源

2

1

光 フ

2

3

備 え

光源

2

1

光 フ

介 し

て配

で伝

送 し

2

3

内 を

流 通

ン酸

1

8

1

2

光 で

ま し

は 1

8

6

光 で

00

光検

3

光器

3

1

分光器

3

光 フ

3 3

3

備 え

ン酸

発 し

各種

散 乱

3

光 フ

3 3

介 し

て伝

送 し

(6)

光器

3

で分光

た、

8

7

ま し

8

00

光器

3

を検

お、

散 乱

を検

定 さ

ず、

に依 存

00

3

理 装

、図

2

に示

C

U

2

カ チ

ンネ

3

ド等

備 え

用乃

至専 用

カ チ

3

には

A

D

6

D

A

7

幅器

(

しな

) 等

アナ

00

理 装

納 し

C

U

周 辺

を協働 動

算 部

度 表

示部

発 揮

る よ

00

算 部

リカ

発 し

8

7

を施

ン酸

リカ

を算

00

度 表

示部

算 部

で算

リカ

得 し

字又 は画像

00

リカ

を用

て熱

ン酸

リカ

を測

3

照 し

て説

00

ず、

光源

2

を射

る と

光 が 光 フ

内に導 入

光 フ

2

3

で伝

(

)

00

2

3

で伝

2

3

向 を

光透 過 性

を透 過

てそ

内部 を

流 通

ン酸

(

S

2

)

00

3

内 を

流 通

ン酸

に励

光 が

る と

ン酸

散 乱

散 乱

光等

散 乱

光 が

(

(7)

s

3

)

00

3

散 乱

は配

を透 過

3

光 フ

3 3

内に導 入

て分光器

3

で伝

分光器

3

で分光

(

s

)

o

00

3

光器

3

1 が 分光

散 乱

号 を

発 信

(

s

)

o

0033

算 部

は、

光器

3

号 を

受信

号 デ

い、

ン酸

リカ

を算

(

s

6

)

o

00

3

度 表

示部

算 部

1

リカ

得 し

又 は画像

(

s

7

)

00

3

形態

係 る シ

リカ

ン酸

リカ

に被 検

液 と し

て熱

る必

要 が

結 果

、高

かつ

ン酸

危 険 を

る と と

のた

消 費

ン酸

に伴

を低 減

た、

形態

中を

ン酸

を被 検

液 と

際の

件 (温

等 ) で測

が可能

かつ

迅 速

が可能

とな る

形態

ム で

ン酸

度 管

が可能

な る

な運

管理

ン酸

再 生 管 理

が可能

とな る

00

3

た、

形態

に直

2

3

けで

2

3

又 は

3

光 フ

2

3

3

を用

て光

を伝

光源

2

1 又 は受

光器

3

1

場 所

由に選

確 保

場 合

リカ

が可能

とな る

003

本発

明は前

に限

00

3

被 検

は熱

ン酸

定 さ

ず、

適 宜

(8)

00

3

た、

波 管

は光 フ

定 さ

ず、

定 さ

00 0

リカ

又 は

散 乱

極 端

場 合

や、

光源

2

1

光器

3

1

る と

き等

光 フ

2

3

3

な場 合

には

光源

2

1

光器

3

1

(分光器

3

)

いず

か一

又 は

光 フ

3 3

2

3

せず

に配

00

使

可能 で あ

光 フ

3 3

な場 合

光 フ

3 3

光源

2

1

光器

3

1

(分光器

3

)

の間

00

、前

述 し

の一

X

適 宜

しな

可能 で あ

は言

00

3

被 検

中に

微 量

で検

号の

00

・・・

素 (

リカ

)

2

・・・

射 部

3

・・・

光検

・・・

理 装

(9)

被 検

を測

被 検

射 部

光 が

た前

被 検

又 は散 乱 光 を検

光検

又 は散 乱 光

被 検

る演

算 部

備 え

被 検

ン酸 溶

項 3

射 部

X

光検

波 管 と

射器

備 え

(10)
(11)
(12)

INTERNATIONAL

SEARCH REPORT

International application No.

PCT/JP2009/062321

A . CLASSIFICATION OF SUBJECT MATTER

G01N21/64

(2006

.

01) i ,

G01N21/49

(2006

.

01)

i

AccordingtoInternationalPatent Classi cation(IPC) ortoboth national classification andIPC B . FIELDSSEARCHED

Minimum documentation searched (classification system followed

by

classification symbols)

G01N2 1/0 0 -G01N2

1/01

,

G01N21/62

-G01N21/74

Documentationsearched other

than

minimum documentation totheextent

that

suchdocumentsareincludedin the fields searched

Jitsuyo

Shinan

Koho

1922-1996

Jitsuyo

Shinan

Toroku

Koho

1996-2009

Kokai

Jitsuyo

Shinan

Koho

1971-2009

Toroku

Jitsuyo

Shinan

Koho

1994-2009

Electronic data base consulted during the international search (name of data base and, where practicable, search terms used)

JSTPlus

(JDreamll

) ,

J

EDPlus

(JDreamll

) ,

JST7580

(JDreamll

)

C . DOCUMENTS CONSIDERED TO BE RELEVANT

Category Citation of document, with indication, where appropriate, of the relevant passages Relevant t o claim No.

X

J P 2004-61312

A

(Tohoku

Techno

Arch

Co.,

Ltd.),

1

Y

2 6

February,

2004

(26.02.04),

2 , 3

Claim

1

U S 2005/0208669

A l

W O 2004/011928

A l

CN

1672044

A

X

J P 2003-34520

A

(Dohkai

Chemical

Industry

Co.,

Ltd.)

,

0 7

February,

2003

(07.02.03),

Par.

Nos.

[0033]

to

[0035];

Fig.

1

(Family:

none)

J P 2003-158116

A

(Infineon

Technologies

AG.),

3 0

May,

2003

(30.05.03) ,

Claim

1 ;

Par . Nos .

[0021]

,

[0040]

U S 2003/0075272

A l

E P 1306886

A l

DE

60135128

D

Further documents are listed in the continuation of Box C . See patent family annex.

* Special categories of cited documents: "T" later document published after the international filing date or pπoπty

"A" document defining the general state of the art which is not considered to date and not in conflict with the application but cited to understand be of particular relevance the pπnciple or theory underlying the invention

"E" earlier application or patent but published on or after the international filing "X" document of particular relevance; the claimed invention cannot be date considered novel or cannot b e considered to involve an inventive

"L" document which may throw doubts on priority claim(s) or which is stepwhen the document is taken alone

cited to establish the publication date of another citation or other "Y" document of particular relevance; the claimed invention cannot be special reason (as specified) considered to involve an inventive step when the document is

"O" document referring to an oral disclosure, use, exhibition or other means combined with one or more other such documents, such combination

"P" document published pπor to the international filing date but later than the being obvious to a person skilled in the art pπoπty date claimed "&" document member of the same patent family Date of the actual completion of the international search Date of mailing of the international search report

3 1 July , 2 0 0 9 ( 3 1 . 0 7 . 0 9 )

1 1 August

,

2009

( 1 1 . 0 8 . 09)

Name and mailing address of the ISA/ A thonzed officer

Japanese

Patent

Office

Facsimile No. Telephone No.

(13)

INTERNATIONAL

SEARCH REPORT

International application No.

PCT/JP2009/062321

C (Continuation). DOCUMENTS CONSIDERED TO BERELEVANT

Category Citation of document, with indication, where appropriate, of the relevant passages Relevant to claim No.

J P 2000-88749

A

(Kurabo

Industries

Ltd.),

3 1

March,

2000

(31.03.00),

Par.

No.

[0015]

(Family:

none)

J P 2006-29880

A

(Kurita

Water

Industries

1-3

Ltd.

) ,

02

February,

2006

(02.02.06),

Claim

1 ;

Par.

Nos .

[0001],

[0015]

W O 2006/006370

A l

J P 2007-108156

A

(Mitsui

Chemical

Analysis

1-3

Consulting

Service

Inc.),

2 6

April,

2007

(26.04.07),

Claim

1

(Family:

none)

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