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真空蒸着法で作成したPVDF薄膜の電気伝導

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(1)

I

愛知工業大学研究報告 第 28号 平成 5年

真空蒸着法で作成した

PVDF

薄膜の電気伝導

E

l

e

c

t

r

i

c

a

i

C

o

n

d

u

c

t

i

o

n

i

n

The E

v

a

p

o

r

a

t

e

d

PVDF T

h

i

n

F

l

1

ms

前 田 昭 徳 落 合 鎮 壊 大 橋 朝 夫 小 嶋 憲 三

Aki

n

o

r

i

Maeda .

S

b

i

z

u

y

a

O

c

b

i

a

i

.

A

s

a

oObasbi

enzouKojima

abstract

Electrical conduction properties of the

vaccum-evaporated

polyvinylidene fluoride thin films were

investigated.

The conduction mechanism was discussed in terms

of the space-charge limited conduction model with a singl trap

levelo

The

rap density was estimated as 5. 7xl0

15

cm-

3

in

he

o

specimen deposited a

35

V

C as a substrate temperature Ts.

The trap density increased abou

one order and

he carrier

1 0

^

.

.

.

.

.

.

'

"

-13 2 I

mobili

y decreased from 10 2x 1

0

-

'

0

to 8. 6x 1

0

-

"

"

cm" /v

s

with

increasing the Ts from 35 to 80

o

c

.

According

o X-ray

diffraction analysis

,、

the crystalinity decreased also with

increasing the Ts.

This suggests that the traps in the

deposited PVDF

hin film originate from the amorphase part.

PVDF molecular arrangiment on a glass substrate was discussed

using a polarized FTIR

1.は じ め に 最 近 、 有 償 高 分 子 材 料 は 電 力 後 器 の み な ら ず エ レ ク ト ロ ニ ク ス 素 子 に お け る 絶 縁 材 料 、 電 子 デ バ イ ス に 広 く 使 用 さ れ る よ う に な っ て き た 。 し か し 高 分 子 薄 膜 の 性 質 、 特 に 絶 縁 破 墳 な ど の 電 気 的 特 性 は 、 用 い る 高 分 子 の 分 子 機 造 と そ の 高 次 構 造 ‘ 作 成 の 方 法 に よ り 大 き く 異 な っ て く る . 高 分 子 材 料 で あ る ポ リ フ ッ 化 ピ ニ リ デ ン

(PVDF) I

土 、 圧 電 性 ,I焦 電 性 . . と し て 注 目 を 集 め て き た が 、 さ ら に 積 極 的 に 記 録 材 料 ,Iと し て 用 い よ う と い う 考 え も あ る . こ の よ う な 材 料 を 用 い て 素 子 を 作 成 す る た め に は 材 料 を 薄 膜 に す る 技 術 が 必 要 と さ れ る . 高 分 子 を 薄 膜 化 す る 方 法 と し て は 、 キ ャ ス テ ィ ン グ 法 や ス ピ ン コ ー ト 法 に 代 表 さ れ る ウ エ ッ ト 法 と C V D法 や 真 空 蒸 着 法 な ど の ド ラ イ 法 が あ る 。 最 近 、 我 却 は、 分 子 配 列 な ど の 高 次 矯 造 を 比 較 的 簡 単 に 詰1]御 で き る 真 空 蒸 着 法 を 用 い て 、 種 骨 の 材 料 の 薄 膜 化 を 試 み て い る . し か し ‘

PV D F

の 蒸 着 膜 に お り る 基 本 的 な 電 気 特 性 に つ い て の 報 告 は ほ と ん ど な さ れ て い な い の が 現 状 で あ る 。 本 報 告 で は 、 真 空 蒸 着 法 に よ り 基 板 温 度 を 変 え て 作 成 さ れ た

PV D F

薄 膜 の 物 理 化 学 機 造 と 直 流 電 界 下 の 電 気 伝 導 性 に つ い て 検 討 を 行 な っ

T

こ. 2.試 料 お よ び 実 験 方 法 試 料 は 市 販 の 呉 羽 化 学 工 業 ( 株 ) の α 型 ポ リ フ ッ 化 ピ ニ リ デ ン (

K F

ー 1

0 0 0

) ポ リ マ ー を 用 い た 。 ま ず 、 こ の

PV D

F

ポ リ マ ー を パ イ レ ッ ク ス ガ ラ ス の 試 験 管 に 入 れ るo d ¥ に 、 こ れ ら を 円 筒 状 の 遠 赤 外 線 セ ラ ミ ッ ク ヒ ー タ に 持 入 し、 1 0 - 4 P a台 の 真 空 中 で 加 熱 蒸 着 し た . 加 熱 温 度 は 4 3 O. Cと し た . 蒸 着 用 基 板 に は

3 0 X 3 0 m m

2 の カ バ ー ガ ラ ス を 用 い 、 蒸 発 援 か ら の 距 離 を 1 0 C mに 配 し た . 基 飯 ガ ラ ス は 、 ま ず 中 性 洗 剤 、 つ づ い て 蒸 留 水 、 メ タ ノ ー ル 、 ア セ ト ン の 頗 に 超 音 波 洗 浄 を 行 な っ た . 基 板 温 度 は 図 1に 示 す 赤 外 線 ラ ン プ と 温 度 制 御 器 に よ り 一 定 温 度 に 保 た れ 、 P V D Fの 蒸 着 条 件 は 表 1に 示 す よ う に 、 蒸 着 温 度 (T d)を 4 3 O. C一 定 と し 、 基 仮 温 度 (T

s

) は 3 5、6 0お よ び8 0

Cの3種 類 と し た 。 蒸 着 速 度 と フ ィ ル ム 厚 は 水 品 娠 動 式 膜 厚 詰Il!淘器

(INFICON. X T C

型 ) に よ り モ ニ タ さ れ . 各 基 板 温 度 に た い し て 膜 厚 (d ) が 約

(2)

Ma

r.

1

9

9

3

3-1. P V D F

蒸 着 膜 の キ ャ ラ ク タ リ ゼ ー シ ョ ン

VoI

.28-B

3.結 果 と 考 察 平 成

5

年, 第

2

8

B

, 図

2

,こ作成された

PV D

F

蒸 着 膜 の 反 射 型

(RAS-I) F T I R

ス ペ ク ト ル を 、 波 数

1 5 0 0

- 4 0 0 c

回 日 の 範 囲 で 示 す 。 こ れ ら の 主 な 吸 収 ピ ー ク は

R.E.Belke

ら 刊 に よ り 表 2 に 示 す よ う な 帰 属 が 明 ら か に さ れ て い る 。 ま た 、 高 配 向 性

PV D F

延 伸 フ ィ ル ム に つ いて、

w

.

K a u f m a

口 口 ら 5)が

α

抱 の

1R

吸 収 バ ン ド と し て

9 7 6

8 5 5

796

765

612

お よ び

530cm-

1を 、 ま た

0

掲 の 吸 収 と し て

510cm-

1を 観 測 し て い る 。

350

日 間 に な る よ う に 蒸 着 時 閣 を 変 化 さ せ たa こ の と き の 蒸 着 速 度 (V d ) は 約 6

-llnm/min

と 基 板 温 度 が 高 い ほ ど 大 き か っ た ロ ま た 、 実 際 の 膜 厚 は 蒸 着 後 に 表 面 祖 さ 計

(DEKTAK IIA)

に よ り 計 測 さ れ た 。 電 気 伝 導 測 定 用 の 試 料 は 、 カ バ ー ガ ラ ス 上 に 下 部 電 極 と し て 鏑 形 状 に 金 を 真 空 蒸 着 し 、 さ ら に 上 部 電 極 と し て

1m m

幅 で 金 を 蒸 着 し て

1m m '

の 面 積 を 有 す る

A U / P V D F / A u /

ガ ラ ス の サ ン ド イ ツ チ 形 セ ル を 作 成 し た 。 F T 1 R 測 定 用 試 料 は 、 あ ら か じ め

A 1

が 蒸 着 さ れ た ガ ラ ス 基 板 上 に P V D F を 蒸 着 し た . 図 1 に 薄 膜 作 成 用 装 置 の ベ ル ジ ャ ー 内 の 各 配 置 を 示 す 。 愛知工業大学研究報告,

2

PVDF

Td=430

0

C d=350nm

Ts=3S

0

C

(

)

薄膜作成用装置内の各配置図

試 料 の キ ャ ラ ク タ リ ゼ ー シ ョ ン と し て

F T 1 R

( 島 津 製 作 所

FTIR-43001

X

線 回 折 ( 島 津 製 作 所

X D - 3 A

形 ) を 用 い て 行 な っ た 。

l

P

V D F

の 蒸 着 条 件 蒸 着 時 間 { 囲

in)

6 0 4 0 3 0

基麗孟亙

(0

C

)

3 5 6 0 8 0 表 1 .

革主温度

(0C)

4 3 0

4 3 0

4 3 0

1000

500

波 数

t

c

m

.

1)

1500

PVDF

蒸着臆肘rI

R

スベクトル

有 機 高 分 子 物 質 を 加 熱 蒸 着 す る と 、 低 分 子 量 化 や フ ッ 素 の 離 脱 な ど の 指 摘 が あ る が 、 P V D F キ ャ ス テ ィ ン グ 膜 ・3や 蒸 着 膜 に つ い て の 田 所 ら 引 の 結 果 と 主 要 な 吸 収 ピ ー ク は ほ と ん ど 一 致

図2

電 涼 一 電 圧 特 性 は 、 直 流 電 圧 を 低 電 圧 よ り l 秒 間 印 加 し な が ら 頗 次 昇 圧 し . そ の と き の 電 流 を エ レ ク ト ロ ピ コ ア ン メ ー タ ( ア ド パ ン テ ス ト

TR8641)

で 測 定 し た , な お 、 電 気 特 性 の 測 定 は 、 部 分 放 電 な ど を 防 ぐ た め に す べ て 1 0→P aの 真 空 中 で 行 な っ た . ま た 、 測 定 温 度 は 全 て 室 温 と し た .

(3)

3

_ Q

f _

FO

3

γ

か -

c

0

0

〈)

H 0 ぶぶ substrat~~ P-pol紅ization S-polむlz拡lOn 真空蒸着法で作成したPVDF薄膜の電気伝導

(

}

)

し て い る 点 か ら 、 我 々 の 作 成 し た P V D F 蒸 着 膜 の 化 学 矯 造 は 変 化 せ ず に 維 持 さ れ て い る こ と が 判 か る 。 さ ら に 、 そ の 結 品 構 造 は 、 使 用 し た 原 料 と 同 援 な α型 の 結 晶 を 主 と す る も の と 考 え ら れ る 。 基 緩 温 度 を 高 く す る と 吸 収 ピ ー ク の 位 置 は 変 化 せ ず 吸 収 ピ ー ク の み が 大 き く な る 結 果 が 得 ら れ た 。 こ の 結 果 は ほ ぼ 一 定 膜 厚 に も か か わ ら ず 吸 収 が 増 加 し て い る こ と 、 お よ び 反 射 型 1 Rで は 基 板 に 垂 直 な ダ イ ポ ー ル の 吸 収 を 銭 測 し て い る 特 徴 を 考 慮 す る と 、 基 板 温 度 の 上 昇 に つ れ て 配 向 性 が 向 上 し て い る こ と 、 お よ び 今 回 用 い た 基 板 温 度 の 範 囲 内 で は 、 P V D F分 子 の 主 た る 化 学 機 造 は 維 持 さ れ て い る こ と を 示 唆 し て い る . P V D Fの I R吸 収 バ ン ド 表 2

PVDP

Td=4300C d=500nm Ts=80oC

1

! ! ! !

I

!_J_ J !

I

! 1500 1000 500

技 数

(αn-I) P邑ak assign皿ent CH, bend - CH, 日ag CH, bend

+

CH, 日a宮-anti回 sy四 C-C stretch CH

bend

+

CH

wag asym C1", stretch - CF, PVDF peak(αn-I ) 1424 1405 1384 1294 rock 光 で は 平 行 偏 光 と 比 較 し て 4 8 9 c m→ (C1", b号nd+ C1",国ag)、 6 1 5 c m -I (C1"2

bend-ske1邑tal CH-C1"-CH bend )、 10 7 0

c

m -

I (sym C-C str邑tcb) 1 4 0 5 c

m

司 I (

CH

bend+CH

,回

a宮-antisy圃 C-C stretch ) が 顕 著 に 減 少 し た 結 果 が 得 ら れ た . P V D F の α 栂 の 結 晶 は 、 挿 入 図 に 示 す 分 子 配 列vを と っ て い る の で 実 験 結 果 を よ り 満 た す た め に は 、 P V D Fの 分 子 軸l土 、 基 板 に た い し て や や 角 度 を も っ て 平 行 に 配 列 し て い る と 考 え ら れ る 。 図4 に

c

u _ Kα 線 に よ る X 線 問 折 ス ベ ク ト ル を 示 す. 2 e = 3 8 _ 5 'に 主 た る ピ ー ク が 観 測 さ れ た 。 こ の ピ ー ク は 蒸 着 膜 が 2. 3 4 A の 周 期 性 を 有 す る こ と を 示 し て い る も の と 思 わ れ る 。 し か し 、 C. N a k a f u k uら7)や H . H o r i b eら 引 が 述 べ て い る α型 結 晶 特 有 の 回 折 ピ ー ク ( 2 8 = 2 0 '付 近 ) は 認 め ら れ な か っ た 。 一 方 、 基 板 温 度 の 上 昇 に と も な い 回 折 ピ ー ク が 小 さ く な る こ と か ら T s = 8 00 Cで 作 成 し た 簿 膜 は 大 部 分 が 無 秩 序 な 状 態 で ス タ ッ キ ン グ し て い る と 思 わ れ る 。

PV D F

蒸着膜の僻I(;rn.スベクトル

3

.

asym CF

str邑tch

+

CH

wag sym CH

stretch twist asym C-C stretch - CF

rock sy四 C-C stretch sym C-C stretch

+

skeletal CF-CH-CF bend

+

CH

1212 1183 1151 107自 875 CH

rock C1", bend

+

skeletal C1"-CH-C1"b邑nd C1", bend - skeletal CH-C1"-CH bend CF, bend

+

C1", wa宮 I'i¥に、

PV D F

蒸 着 膜 の 配 向 を 調 べ る た め に 偏 光 F T 1 R ス ベ ク ト ル を 測 定 し た 。 図 3 は 蒸 着 膜 ( T s = 8 0 . C )の 基 板 に た い し て ‘ 平 行 (P ) 偏 光 (11) と 垂 直 (

s

) 偏 光 ( 上 ) 1 Rを 入 射 し た と き の ス ベ ク ト ル を 示 す 。 垂 直 偏 796 763 615 48雪

(4)

Mar

.

1

993 Vo

.

I

28-B, 平成

5

年, I

0

-

2 第28号B, 膜 の 表 面 は 、 表 面 組 さ 計 か ら の 観 測 結 果 よ り 基 板温度の変化にたいして 10~20nm 程度の 変 化 し か 見 ら れ ず 、 な め ら か な 蒸 着 膜 で あ る こ と が わ か っ た 。 愛知工業大学研究報告,

4

Au[PVDF/Au Td=l

3

0

'

C

d

=

3

5

0

n

m

1

0

-

3

T

s

=

8

0

0

C

1

0

-

4

1

0

-

5

1

0

・9

1

0

-

6

1

0

-

8

1

0

-

7 ( N g u ¥ ︿ ) 同

'

-

'

-

ιムよ...u.ムムl, ,包目白目" , 目1金ι,白I

1

0

2

0

3

0

4

4

.

( d

e

g)

蒸着膜の{錦町庁スベクトル

T

s

=

3

5

0

C

Td=430

0C

3

5

0

日田 PVDF

(

}

)

1

0

2 PVDF

蒸着膜の電流密度ー電圧特性

嘩板温度披存性)

1

0

1

v

(v)

1

0

0

i

0

-

1

0

1

0

-

1

図5

ック、

2.

6 V

ま で n -

2

を 、 そ の 後

5. 5 V

ま で は 急 増 ( 口 =4 ~ 5 ) し 再 度 目 =2に 戻 っ た の ち 高 電 界 特 性 に 移 行 す る . た だ し 、 図 5 中 の

TS=80. C

で 作 成 さ れ た 試 料 の

V- 1

特 性 で は 、 2乗員JIは 必 ず し も 明 確 で は な く 、 L a m p e r t引 の 指 数 関 数 分 布 を し た ト ラ ッ プ モ デ ル で も 適 用 で き そ う で あ る 。 長 近 、 多 く の 有 機 蒸 着 膜 に お い て S C L C電 導 が 観 測 さ れ て い る が 、 特 に

T. S. Shafai

ら 』 引 が P b P cの 蒸 着 膜 で 指 数 関 数 分 布 の ト ラ ッ プ 準 位 を 考 慮 し た モ デ ル で 説 明 し て い る " こ こ で 、 図5に 示 さ れ た P V D F蒸 着 腹 の V - 1特 性 を 考 察 す る た め に 、 簡 単 な 単 一 エ ネ ル ギ ー ト ラ ヴ プ を 有 す る S C L Cの 伝 導 モ デ ル で 考 え て み S C L Cの 模 式 図 を 図 6に 示 す 。 iの 領 域 る。 ま た 、 基 板 度

T

sが 高 い ほ ど 蒸 蒜 速 度 が 増 え る 傾 向 が 認 め ら れ た の は ポ リ プ ロ ピ レ ン (P P ) 蒸 着 膜 で も 観 測 さ れ て い る が 、 一 般 に ポ リ マ ー を 加 熱 蒸 着 す る と - E ! 蒸 発 時 に 低 分 子 化 が お こ り 、 基 板 上 に 到 達 し た の ち 重 合 ( 高 分 子 量 化 ) が 進 む こ と が 推 測 さ れ る . こ の 際

Ts

が 高 い ほ ど 重 合 の 進 行 が 促 進 さ れ る こ と が 考 え ら れ る . こ の こ と は 逆 に 、

Ts

の 異 な る 膜 で は 分 子 量 が 異 な る 可 能 性 も 考 慮 す る 必 要 が あ る 。 即 ち 、

Ts

が 高 い ほ ど 分 子 量 が 大 き い 膜 が で き て い る 可 能 性 が あ る た め と 思 わ れ る @ 図 5こ T d ! = 4 3 0回 C 、 Ts = 3 5 、 6 0 お よ び

8 0

0

C

で 作 成 し た 蒸 着 膜 に お け る 議 電 電 涜 の 電 圧 依 存 性 を 示 す 。 こ の 電 流l立 、 空 間 電 荷 制 限 電 導

(SCLC)

を 示 唆 す る よ う な

1o

c

V

. の 関 係 が 認 め ら れ た

. T s = 3 5

0

C

で 蒸 着 し た 試 料 の 電 流l土 、 お よ そ 1 V ま で は 才 一 ミ P V D F蒸 着 膜 の 電 気 特 性

3 - 2

(5)

5

真 空 蒸 着 法 で 作 成 し た

PVDF

薄 膜 の 電 気 伝 導 d ' 8 e n

(

4 )

V

tr=

ε 9 d • e

V tr=

( 5 ) ハ b e目 。 d ' 9 ・ε 8 2

eN巳 V TFL = d r

N

/

/

0

.

1 / i

/

1

:

n

:

V

ぽ〆

; 1

I

i

v

k

J

i

v

乱 阿国口 J ε 3

'

"

0は (4 )、 ( 5 ) 式 か ら 日 =V

tr/

V

tr

とな り グ ラ フ か ら 求 め る こ と が で き る " こ れ ら の 式 か ら

SC L C

に 関 す る パ ラ メ ー タ を 求 め 表

3

に ま と め た 。

LogV

SCLC

の模式図

6

.

は 、 熱 平 衡 電 子 (n 0 ) に よ る 低 電 界 オ ー ミ ッ ク 領 域 で あ る 固 P V D FのS C L Cパ ラ メ タ 60 自0 4.0.10" 5.6・10'

2 .2・10" 3.0・10'

0.38 0.43 9 . 6.10-" 8.6.10-

35 5.5・10'• 5.7.10"

18 1. 2.10

, ,

表 3. T

_

g

_

n 0 (cm

Nt(cm-' ) B μ {回 ' /y. s) )

-( V μ e目 。 ト ラ ッ プ 密 度Nt は 約 1 0 • 6 C田-,でTsが 高 く な る に つ れ て 増 加 す る 傾 向 が あ る 。 こ の こ と は 、 図4 で 示 し た よ う に Tsが 高 く な る に つ れ て 非 品 化 す る こ と に 関 係 す る ト ラ ッ プ で あ る こ と が 考 え ら れ る 。 ま た 、 熱 平 衡 キ ャ リ ヤ 日 。 は 1 0 ..~ 1 0 .. c田 → と な り 、 他 の S C L Cを 示 す 蒸 着 有 機 薄 膜 の 値 t引 と 極 端 な 差 は な く 、 妥 当 な 値 と い え る 。 さ ら に 、 オ ー ミ ッ ク 領 媛 I で 移 動 度 μを 求 め て み る と 1 0-.0 ~ 1 0 -< 3 C 血 2 / Y • Sの 範 囲 で 基 板 温 度 の 上 昇 に つ れ て 移 動 度 が 低 く な っ て い る 。 こ の 結 果 と 前 述 の T sの 上 昇 に よ り 試 料 が 非 品 化 す る こ と を 併 せ て 考 え る と 、 こ の 領 域 の 電 導 に お い て も 電 子 性 キ ャ リ ヤ が 主 役 で あ る こ と が 示 唆 さ れ る 。 た だ し 、 実 験 デ ー タ に お け る オ ー ミ ッ ク 領 域 は 、 電 子 性 キ ャ リ ヤ の 移 動 度 だ り と は 考 え ず ら く I-t特 性 も 時 間 と と も に 減 衰 す る こ と か ら 、 殴 服 電 流 、 さ ら に は イ オ ン 性 電 波 も 含 ま れ て い る 可 能 性 も あ る 。 し か し 、 P V D F フ ィ ル ム で 小 崎 ら, , ) は 、 極 性 反 転 法 を 用 い て 1 0 0 0 Cで お よそ 2x 1 0 - 8 C田2 / v . sの 移 動 度 を 得 て d こ こ で μは キ ャ リ ア 移 動 度 . d は 試 料 厚 で あ る 。 電 圧 を 上 昇 さ せ る と キ ャ リ ヤ 注 入 が 盛 ん に な り 、 ト ラ ッ プ 電 荷 は 空 間 電 荷 を 形 成 し 、 Hの 領 域 に 移 行 す るa そ の と き の 電 流 は 、 (

2

) 式 に 従 っ て ( 2 ) ( 3 ) こ の 電 圧 ー 電 流 特 性 で 、 ( 1 ) 式 = (2) 式と お け ば そ の 境 界 電 圧

v'tr

が 求 め ら れ る 。 同 筏 に し て ト ラ ッ プ 充 満 電 圧 V TFL お よ び ト ラ ッ プ フ リ の 遷 移 電 圧 V

tr

は 、 そ れ ぞ れ 以 下 の 関 係 を 満 た す こ と に な る 。 V aに 比 例 し た 電 流 が 観 測 さ れ る 。 こ こ で 日 は 、 ト ラ ッ プ キ ャ リ ヤ 日 t に 対 す る 自 由 キ ャ リ ヤ の 割 合 を 示 す 。 さ ら に 電 圧 を 上 げ る と 、 ト ラ ッ プ が 全 部 満 た さ れ

e

=

1と な り 、 電 流 は 不 連 続 に

E

の 領 域 に 移 行 す る こ と に な り 、 電 読 は ( 3 ) 式 で 表 わ さ れ る 。 9 2 V ε μ θ -d '

, '

E μ -d 3 8 9 B

(6)

6

愛知工業大学研究報告, 第28号 B 平 成5 VoI.28-B M ar.1993 お り ‘ 我 骨 が 作 成 し た 蒸 着 膜 の 移 動 度 と は 2桁 程 度 の 差 が 認 め ら れ た 。

4.

ま と め

P

V D F

の 真 空 蒸 着 践 の 電 気 特 性 に つ い て 、 基 額 温 度 お よ び 膜 厚 を 変 化 さ せ て 実 験 し た 。 1 R畷lIllおよび X 線 回 析 の 樹 定 結 果 か ら 、 P V

D F

分 子 の 化 学 構 造 は 真 空 蒸 着 法 で 薄 膜 化 し て も 損 な わ れ な い こ と が 分 か っ た ー ま た 、 基 板 に た い し て や や 角 度 を も っ て 平 行 に C輔 が 配 向 し 、 面 間 隔 が2四 3 4 Aで 堆 積 し て お り 、 基 領 温 度 が 高 く な る に つ れ 非 品 質 化 す る こ と も や

l

明 し た 。 今 回 作 成 し た 蒸 着 膜 で の 電 気 伝 導 は 単 一 の 不 連 続 ト ラ ッ プ 準 位 を 考 慮 し た 空 間 電 荷 制 限 電 流 (

S C L C)

で 律 速 さ れ て い る こ と が 示 唆 された。 今 後 は 、 基 甑 温 度 を 低 混 化 し て 配 向 性 が 良 く 、 結 晶 化 し た 薄 膜 を 作 成 す る 技 術 ( 条 件 ) を 確 立 す る こ と , お よ び プ レ ン ド 蒸 着 膜 ." で の 結 果 を も と に し て 高 導 電 性 の 期 待 が あ るP型 有 機 半 導 体 材 料 と の 共 蒸 着 に よ り プ レ ン ド 薄 膜 を 作 成 し 、 有 機 太 陽 電 池 な ど へ の 応 用 を 研 究 対 象 と し た い . こ の 研 究 の 一 部 は . 内 藤 科 学 財 団 の 助 成 に よ っ て 行 な わ れ た . ま た 、 試 料 を 短 供 い た だ い た 呉 羽 化 学 工 業 ( 株 ) に お 礼 申 し 上 げ る ま た 、 本 研 究 で 用 い た 真 空 蒸 着 膜 は 昭 和

6 3年

度 私 大 設 備 『 超 薄 膜 作 成 装 置 』 に よ り 作 成 さ れ た 。 参 考 文 献

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Pr邑prints,Japan,vol.3B,目0.10(1989)

宮 ) 践 。A.La血pert;Volume-controlled

cmrrent inj畦ction io insulators.

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参照

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