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GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, 添付公開類 NO, PL., RO, SE, SI, SK, TR), キロ I (BF, 品 CG, CI, GA, GN, GQ, GW, MI, NE, 甜活国際調査報告 ( 約第, 条い

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(1)

(12)特許協力条約に基づ て公開さ

れた国際出

(19)世界 知的所有 権機関 国際事務局 (10)国際公開番号 (43)国際公開日 2009年 10月 1 日(01.10.2009)

WO 2009/119681 A l

(51) 国際特 許 分類 足 1丁目1 0 番 1 号 株 式 会 社 村 田製作所内 HOlC7/04(2006.01) H OC17/22 (2006.01) Kyoto (JP). (21) 国際 出願 番 号 PCT/JP2009/055989 (74) 理人: 國 安 (KUNIHIRO, Yutoshi); 〒 5320011 大 阪府 大 阪市 淀 川 区 西 中島5 T 目1 4 (22) 国際 出願日 2009 年 3 月25日(25.03.2009) — 1 O 新 大 阪ル 1 0 階 Osaka(JP). (25) 国際 出願の言語 日木語 (81) (Λの国 内

(26) 国際公開の言語 日木語 H が可 ) :AE,AG, AL, AM, Aの, AT, AU, AZ, BA, BB,BG, BH, BR,BW, BY, BZ, CA, CH,CN,Cの, CR, (30) 優先権データ CU,CZ, DE, DK,DM, D,DZ, EC,EE,EG,ES,FI,GB,

特願 2008-086480 2008 年 3 月28日(28.03.2008) JP GD,GE, GH, GM,GT, HN, HR,HU, ID, IL, IN, IS,JP, (71) 出願人 米国を除 全ての指定国につ て 株 KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, 式 会 社 村田製作所 (Murata Manu ぬcturing Co, LT,LU,LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, Nの, NZ, OM, PG, PH, PL, PT,

Ltd.) [JP/JP]; 〒6178555京都府 長岡京市東神足 1

丁目1 O 番 1 号 Kyoto(JP). RO, RS, RU,SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM,ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT,TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, (72) 発明者 および ZA, ZM,ZW.

(75) 発明者/ 願人 (米国につΛてのみ) :古戸 聖浩

(84) 指定国(表示のなΛ限り

(KOTO, Kiyo iro) [JP/JP]; 〒6178555 京 ] 長 . II ) :ARIPO (BW, GH, GM, KE,

LS,MW, MZ,

市東神足 1丁目1 0 番 1 号 株 式 会 社 村 田製

NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW), --L

作所内 Kyoto(JP)熊 取 谷 誠人 (KUMATORIYA, ーラシア (AM, AZ, BY, KG,KZ,MD,RU,TJ,TM), ヨーロ

〒 /

Makoto) [JP/JP]; 6178555 京都府 長岡京市東神 ツ

(AT,BE,BG, CH,CY, CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB, [続 葉 有] (54) Title:NTC THERMISTOR PORCELAIN, PROCESS FOR PRODUCING NTC THERMISTOR PORCELAIN, AND NTC THERMISTOR (54)発明の名 称: N T Cサー スタ磁器、及びN T Cサー スタ磁器の製造方法、並びにN T Cサー ス タ 図3] 瓜 亡

(57) Abstract: Disclosedisan NTC thermistor porcelain. Also disclosed are a process for producing the NTC thermistorporce lain and an NTC thermistor. The NTC thermistor porcelain comprises a porcelain body (1) formed of a ceramic material of (Mn, Ni)3θ4 type or (Mn, Co)θ4 type. The ceramic material constituting the porcelain body(1)has a first phase(2)having a spinel structure and a second phase(3)of a plate crystal having a high electric resistance. The second phase(3) ispresent in a dispersed statein the first phase(2). Thesurface of the porcelain body (1) hasa heat application path(4) with a predetermined pattern formed by applying heat generated by laser beam irradiation.Inthe heat application path(4),the second phase(3)disappears and hasbeen integrated in terms of crystal structure with the first phase (2).Theplate crystal in the second phase(3) isprecipitated in a temperature region of 8000C or below in a temperature falling process in a firingstep.The formation of the heat application path

(4) facilitates the regulation of the electric resistance value of the NTC thermistor. The above constitution can realize an NTC thermistor porcelain that can easily regulate the electric resistancetoa low value even after sintering.

(57) :

(2)

-GR,HR,HU,IE,IS, IT,LT, LU,LV,MC,MK,MT, NL, 添付公開 類・ ・

NO,PL.

,RO, SE, SI, SK, TR),

I (BF,

CG,CI, GA, GN, GQ,GW,MI ,NE,

国際調 査 報告 ( 約第

)) TG). 磁器 本体 1は、 ( M n , N i ) 3O。系、又は ( M n C o ) 3O。系のセラ ク材料からなる 。第 1 の相2はス ピネル構 造 を有し、第2の相3 は高抵 抗の板状結晶からなる 。第 の相 は、第 の相中 2 に分散して存 在する 。磁器 本体 1の表面は、レーザ 照 射によりされて所 定パター ンの熱印加 路 4 を形成 して る 。 この熱印加 路 4 で は第 2相 3 が 消 滅第 1の相 と結晶構 造的に一体 化 されて る 。第2の相3の板状結晶は、焼 成 エ程の降温 過程で 8 0 0C又はそれ以下の温 度域で析出する 。熱印 加 路4 を形成する ことによりN T C 抵 抗 値調 整 が容 易る 。 こ焼 結 後にお ても抵 抗 値を容 易に低<調 整する ことが可能 なN T Cサー スタ磁器、その製造方法、及びN T Cサー スタ実現する。

(3)

C

C

サー

磁器 の

C

サー

術分野

0001 本発明は、負の抵抗 温度 特性 を有

C

ザーミの素材に好適 な

C

その製 造方法

C

を使用 して製 造

C

ザーミに関

る。

0002 負の抵抗 温度 特性 を有

C

ザーミ温度 補償

電流抑用 の 抵抗体として広使

る。 0003 この種 の

C

ザーミに使 用

るセラミ材 料して、従来より を主成 分と器組

る。 0004 例えば、特許文献 には、 及

3

種の元素 を含

酸化物より 物であ

て、こ

ら元素の割合が

:

2

8 5モル 。、 :5

70モル 。、 :0

9

の範囲内にあり

かつ

その合 計 00 となるよぅにしたザーミ用 組成物が提案さ

る。 0005 また、特許文献

2

には、金 属だけの比率が、

:

5 0

9

0モル 。、 : 0

5 0モ でその合 計が 00モ

らなる金 属 酸化物に、

Co

2

0 。、

C

:5

2

0 。

e

O

2

0 。

Z O

5 O を添ザーミ 2 3 2 スタ用組成物が提案さ

る。 0006 さら

3

には、 酸化物、 酸化物、

酸化物及

Z

酸化物を含

ザーミ用組成物であ

換 算でa モ (但 し

4 5

a

g5)

物と 換 算で ( 00 モ の 酸化物とを主成分、この主成分を 00重呈 と したとの各成分 の

e

:

e

O

換 算

5 5 (ただし、0重呈 と5 5 く)、

Z

酸化物:

Z

O

換 算で0

5重呈 (ただし、0重呈 と 5 重呈 を除く) で成物

る。 0007

方、非特許文献 には、

O

を高温

ら徐冷 (冷却速 度 :6

C

)

ると

(4)

析出物が生成

ること

中で高温

ら急冷した場合は、板状析 出物は生成 しな

が、ラメラ構 造( a m e a S uc u :

じ状コントラス ト)が現

ること が報告さ

る。 0008 また、この非特許文献 では、 を高温

ら徐冷(冷却速 度:6

C

)

7 2 2 4

るとスピネ単相と状析出物又メラ構 造は観 察さ

が、空気中で 高温

ら急冷した場合は、板状析出物が生成さ

もののラメラ構 造が現

ること が報告さ

る。 0009

なわち、非特許文献 では、 3 O 及

つい

て、高温

らの冷 47 2 2 4 却速 度を変 えること構 造の典

ること

る。 また、この非特許文献 では、 O の場合、板状析出物を得るためには高温

ら6 で 程度で徐 冷

る必要のあること

る。 0010 特許文献1 :特開昭6 2 202号公報 特許文献2 :特許第343 002 3号公報 特許文献3 :特開2005 50289 号公報 非特許文献 : C oude c,MB eu sch an d A Rousse 著 D o m a n M c o s uc u e n ausmann e Mn3 4 an d n N ck e Mangan e」 T h dE u o C e am cs V O (1993) P 763

768

明の開

解決

よう

課題

001 1 し

しなが ら、上記 特許文献

3に記載さ

れた

ザーミ用組成物を使用 して Cザーミを製 造場合その製 造でセ原料の分散

分の は、焼 結後のセラミ粒子の分散均一とで抵抗値に バラ"ソキが生じるおそ

がある。また、セラミク原料の粒径にバラ"ソキがある場合も、 上述と同様、個のザーミスタ間で抵抗値にバラ"ソキが生じるおそ

がある。 0012 し

も、ザーミの抵抗材 料

抵抗

電極 距離等に大きく

ら、常は焼 結階で概

る。ため 、焼 結後に抵抗値を調整

のは困難 であに抵抗を低調

困難 な状 況にあ

た。

(5)

0013

なわち、ザーミでの抵抗ソキ調

方法しては ラミ端 部に形成

れた

外 部電極 の被部 (セの端 面

ら側面 に延

る部分)の距離を調整

ることより焼 結に抵抗調

方法 考えら

る。し

しなが ら、このよう方法では抵抗の微 調はで調 整は困難 であ

た。 0014 このため従来は、焼 結体であるセラミの抵抗抵抗より 定しておき、例えば、ーザ光でトリミしてセを削

抵抗 を高く

間での抵抗値のラソキを調整

ること行 わ

0015 し

しなが ら、近年の

C

ザーミ

低抵抗 化に伴

、セラミ 抵抗値を目標値より予め

には限界る。

C

ミ スタ間での抵抗値のバラソキを抑制

るためには、焼 結後に抵抗値を低く調 るよう

0016

方、上記非特許文献 では、

O

つい

て、高温

らの冷却速 度を変 えること により構 造の典

ること

るものの、絶縁体である ため

C

ザーミとしては利用で

C

ーミの抵抗値を調整

る点に

つい

ては何ら触

。し

も、板状析出物を得るためには高温 (例えば、

2

00o

C

)

ら6

C

程度の冷却速 度で徐 冷しなけ

ばなら、降温に長時間を要

るため生産性 にも欠ける。 0017 本発明はこのように鑑

れた

のであ

焼 結

抵抗 容易に低く調

能 な

C

C

の製 造方法、並に前記

C

ザーミを使用 して製 造

C

を提供

ること

る。

題 を

解決

ための

0018 本発明者ら、 酸化物を含

複数の金 属 酸化物

たセラミ成形

て、所 定の焼成プロフアイに即 して焼 成処理 を行

たところ、焼成プロフアイの 全過程で、 を主成分と

る第 の相が形成さ

方で、焼成プロフ アイの降温過程が所 定 温度以下になると、第 の相と構 造の典

2

の相

(6)

が析出

るとレぢ知 見をの第

2

の相 は第 の相高抵抗 であ

た。 0019 そして、焼成プロファイの降温過程が所 定 温度以下になると第

2

の相が析出

る こと

ら、

ぅと所 定 温度の高温 では高抵抗 を有

2

の相 の相

体化して消滅しぅ

る。 0020 本発明者らはこのよぅな点に着目し、前記第 の相と記第

2

の相 本体に対 し、レーザ光を照射 (熱

印加

) しなが ら走査して熱

加領城 を形成 した。

ると記熱

印加

に位

高抵抗の第

2

の相射熱

し低抵 抗の第 の相と構 造

とレぢ知 見をそして

焼 結 後であ

ても抵抗値を容易

かつ

大きく調整

ることる。 0021 本発明はこのよぅな知 見に某きなさ

れた

ものであ

て、本発明に係る

C

ザーミ スタ磁器は、磁器本体が、 を主成分と

の相 の相より高抵抗

2

の相と記磁の表 面 は

印加

て熱

印加

領城形成

ると共に、該熱

加領城は、第

2

の相が第 の相と構 造

ィヒ

るこ とを特して

る。 002 2 本発明における「結品構 造的に

体化」と

2

の相 の相 になることして

2

の相 の相 であ構 造及 子に変化

ること

002 3 また、前記第

2

の相 は、板状結品の場合に特に効果的であり の相 中に分散 し て析して

ることも分

た。そして、この第

2

の相 は第 の相に比て の含有 呈が多く の相より高抵抗 であ

0024 本発明の

C

ザーミ記第

2

の相 を主成分

る板状結品

らなり

かつ

の相 中に分散

て析して

を特して

る。 002 5 また、本発明者ら、更に鋭意研究を重ねたところ(

)

系セラミ材 料 の場合、第

2

の相 の析出は、磁器本体中の 含有呈aと

b

a

b

依存し、比a

b

が、原子比率で8 7

3

9 6

4

の範囲が第

2

の相 の析出に効果的 であること

0026

なわち、本発明の

C

ザーミ記磁

(7)

ると共に、前記第 の相 はスピネ構 造を有し、磁器全体としての 有 呈aと

b

a

b

8 7

3

9 6

4

であ好 ま 、。 002 7 また、(

Co)

系セラミ材 料の場合

2

の相 の析中の 含有呈aと

Co

a

a

6 0

4

9

0が第

2

の相 の析出に効果的であること

0028

なわち、本発明の

C

ザーミ磁器磁器が 、

Co

を含 有

ると共に、前記第 の相はスピネ構 造を有し、磁器全体としての 有 呈aと

Co

a

6 0

4

9

であ 好ま 、。 0029 さらに、

C

酸化物を添加したところ、比a

b

比a

が上述の範囲内であ

C

添加は第

2

の相 の析に殆ど影響

、したが

て必要に応じて

C

を添加

るのも好ま

0030

なわち、本発明の

C

ザーミ記磁には

C

酸化 有さ

ること 0031 また、本発明に係る

C

ザーミの製 造方法 は

金 属 酸化物を混 合、粉

、仮焼して原料粉 末 を作製

原料粉 末 作製工程と 原料粉 末に成形加工を施し成形体を作製

成形作製工程と記成形を焼 成 し磁器本体を生成

る焼成工程と

C

ザーミの製 造方法

て、前記焼成工程後に前記磁器本体の表 面に対 し熱

印加

処理 を施し、熱

印加

領城 を形成

印加

を有記焼高温保 持降温 過程とを有

る焼成プロファイに某づいて前記成形体を焼成 し、前記焼成プロファ イの全過程で、母相と の相 を析

方、前記焼成プロファイの所 定温度以下の前記 降温過程で、前記第 の相より高抵抗の第

2

の相 を形成 し 記熱

印加

工程は、前記熱

印加

領城 では前記第

2

の相 を前記第 の相と構 造

体ィヒ

を特して

る。 003 2 また、本発明の

C

ザーミ磁器の製 造

加工記焼 における記所 定 温度を超る温度で前記熱

印加

処理 を行ぅを特

(8)

徴として

る。 003 3 さらに、熱

加の方法としてブレーシ

2

の相 を

る観点

らは、パーザによるーザ照射が好まし

。 0034

なわち、本発明の

C

ザーミの製 造方法 は記熱

ーザを使用 して行ぅを特して

る。記パザにおけるー ザ光のエギー密 度は、

0

3

呵 c であることを特

るのも好まし

。 003 5 また、本発明に係る

C

ザーミ端 部に外 部 電極形成

C

ザーミであ

前記セラミク素体が、上記

C

ザーミ磁器で 形成さ

ると

印加

記外 部電極を結 ぶよぅに前記セラミ の表 面に線 状 に形成さ

ることを特して

る。 0036 また、本発明に係る

C

ザーミ端 部に外 部 電極形成

C

ザーミであ

前記セラミク素体が、上記

C

ザーミ磁器で 形成さ

ると

印加

記外 部電極平行に前記セラミの表 面 に線 状 に形成さ

ることを特して

る。 003 7 さらに、本発明の

C

ザーミ の素

2

の素 部と区分

ると共に、前記セラミ

の端 部に第 及

2

の外 部 極が形成さ

かつ

記セラミの他 方 の端 部第 及

2

の外 部 極とに第

3

4

の外 部電極

形成

記第 の外 部電極 前記第 の素体部、及び前記第

3

の外 部電極とで第

C

形成

かつ

前記第

2

の外 部電極、前記第

2

の素体部、及び前記第

4

の外 部電極とで第

2

C

ザーミ形成

C

記セ 上記

C

ザーミで形成

ると記第 及び前記第

2

C

ミ スタ部の

ずれか一方の表 面に、所 定パターンの熱

加傾城が線 状に形成さ

ることを特して

る。 0038 また、本発明の

C

ザーミ記熱

報を

よぅ前記 セラミの表 面に形成

を特して

る。 0039 さらに、本発明の

C

ザーミ

C

で形

ク素体を有

ると共に、該セラミ端 部の各には所 定間隔を有して複 数

(9)

の外 部電極が形成さ

端が前記外 部電極 に接 続さ

れた

金 属 導体が、前記外 部 電極 に対応 して前記セラミの表 面に複 数形成

かつ一

方の外 部電極 に 接 続さ

れた

金 属 導の外 部電極 に接 続

れた

金 属 導

印加

領城 を介 して接 続さ

記金 属 導同上を接 続

記熱

印加

領城記セラミ ック素体の

方の端 部

らの距離が典なる所 定位置に各形成さ

ることを特 徴として

る。

明の効果

0040 本発明の

C

ザーミ

主成分

る第 の相 と の相よりも高抵抗の第

2

の相記磁の表 面 は

印加

て熱

印加

領城形成

ると該熱

印加

2

の相 の相 構 造的に一体ィヒ

るので、高抵抗の第

2

の相は、熱

印加

領城 では第 の相と 同様の低抵抗とる。 0041 したが

て、焼 結後であ

ても熱

加領城のパターンを自在に変 更

ること 所望の抵抗値に調整可能 な

C

ザーミる。 004 2 また、前記第

2

の相 は、 を主成分と

らなり

かつ

の相 中 に分散さ

て析して

ので記 作用効果 を容に奏

きる。 004 3 また、前記磁器本体が、 及 を含有

ると共に、前記第 の相 はスピネ構 造を有し、磁器全体としての a

b

a

b

原子比率で8 7

3

9 6

4

であるので、(

)

の材 料系を焼成

ること よりピネ構 造

らなる第 の相 の他、第

2

の相 を磁器本体表面に確実に析出さ

ることきる。 0044 また、前記磁器本体が、 及

Co

を含有

ると共に、前記第 の相 はスピネ構 造を有し、磁器全体としての a

Co

a

原子比率で6 0

4

9

0 0であるので、(

Co)

の材 料系を焼成

ること により同様ピネ構 造

らなる第 の相 の他、第

2

の相 を磁器本体表面に 確実に析出さ

きる。 004 5 さらに、前記磁器本体には、

C

が含有さ

場合 であ

も、

C

の析出に影響を及 ぼさ

ら、明は (

C

)

は (

Co

(10)

C

)

系材 料にも適用

ることである。 0046 また、本発明の

C

ザーミの製 造方法

記磁器 本体の表 面に対 し熱

印加

処理 を施し、熱

印加

領城 を形成

を有 記焼成工程は、昇温過程と高温保 持を有

成プァイづいて前記成形体を焼成 し、前記焼成プロファイの全過程で、母相と 相を析出さ

方、前記焼成プロファイの所 定 温度以下の前記 降温過程で、前 記第 の相より

高抵抗の第

2

の相 を形成 し記熱

印加

前記熱

印加

領城 では前記第

2

の相 を前記第 の相と構 造

ィヒ

で、磁器本体には低抵抗 の第 の相と高抵抗の第

2

の相形成

れた

後、熱

印加

処理によ

て熱

印加

して

2

の相

ることと 容易に抵抗値を低減方向に調整

ることる。 004 7 また、前記熱

印加

工程は、前記焼成プロファイにおける前記所 定 温度を超える 温度で前記熱

印加

処理 を行ぅので高抵抗 を有

2

の相 は第 の相

て消滅し、熱

印加

領城 では第

2

の相 は第 の相と同様の低抵抗 効果 を容易に奏

ることきる。 0048 また、前記熱

加工程が、ーザ光の

ギー密 度は、

0

3

呵 c 2のパ ルスーザを使用 して行ぅのでブレーシンを生

となく

2

の相 を

ることる。 0049 また、本発明の

C

ザーミによ

ば、セラミク素体が、上記

C

ザーミ磁 器で形成さ

ると

印加

領城記外 部電極を結 ぶよぅ記セラミ 素体の表 面に線 状 に形成さ

ので焼 結であ

任 意

かつ

に抵抗 値を調整

ることる。

わち記外 部電極を結 ぶよぅ前記セラミ ク素体の表 面に熱

印加

領城 を形成

ることより

印加

領城は熱

印加

部分に比て低抵抗 化

る。したが

て、低抵抗 化した部分は、選 択的に電流が 通過し易く

より焼 結のセの抵抗より調

と が可能とる。 005 0 このよぅに本発 明の

C

ザーミ

抵抗であ

で抵 抗値のバラソキを極力抑制できる高品質な

C

ザーミ

きる。

(11)

0051 また、熱

印加

領城が、前記外 部電極と平行記セラミの表 面に線 状 に形 成さ

るので、該熱

印加

領城は低抵抗 化

る。したが

て、外 部電極と 形成さ

印加

領城の本 数 を調

けで簡単に抵抗値を可変でき、し

抗値の微 修正もる。 005 2 また、セラミ の素

2

の素区分

の素

る第 のザーミ

2

の素を有

2

備 え セラミ

C

で形成

ると共に、前記第 及び前記 第

2

C

ザーミ

ずれか一方の表 面に所 定パーンの熱

加領城 線 状に形成さ

るので、熱

加領城が形成さ

れた

C

ザーミ

印加

領城が形成さ

C

ザーミよりも抵抗値が低く

一つ

C

ーミ

数の抵抗る。 005 3 また、前記熱

印加

領城が、識別情報を含

よぅ記セラミの表 面に形成

るので、前記熱

印加

領城の識別情報をレーザ照射して読

み出

ことより 表面形 状に影響を与えること

C

固有得でき、模倣品等の識を容易に行きる。 005 4 このよぅに本発 明の

C

ザーミ抵抗を低抵抗に容に調きる ではなく、模倣品対策として有用である。 005 5 また、上記

C

ザーミで形成

れた

セラミを有

と共該セ端 部には所 定間隔を有して複 数 の外 部 電極数形成

記セ ラミの表 面には

記外 部電極 に接 続

れた

金 属 導記外 部 電極 に対応 して複 数形成さ

かつ一

の外 部電極 に接 続

れた

金 属 導 の外 部電極 に接 続さ

れた

金 属 導

印加

領城 を介して接 続

記金 属 導 体同上を接 続

る複数の前記熱

印加

領城は、前記セラミ

の端 部

ら の距離が典なる所 定位置に各形成さ

ので温度 布を有

る発熱体の温度 を検出した

場合 であ

ても、低抵抗である複数の熱

印加

領城 で各温度を検出

ることよりの温度 検を精度と なり高精度 で高品質 の

C

きる。

面の

単な

(12)

005 6 図 本発明に供さ

る磁器本体の平面図である。 図2 本発明で使用さ

る焼成プロフアイ

例 を示

図である。 図3 本発明に係る

c

ザーミ

の形

である。 図4 本発明に係る

c

ザーミ

の形(第 のの形) を示

斜 視 図である。 図5 本発明に係る

c

ザーミの第

2

の形

斜 視である。 図6 本発明に係る

c

ザーミの第

3

の形

斜 視である。 図7 本発明に係る

c

ザーミの第

4

の形

斜 視である。 図8 図7の縦断面図である。 図9 本発明に係る

c

ザーミの第5の形

斜 視である。 図10本発明に係る

c

ザーミの第6の形

斜 視である。 図12 第6の実施の形態の

適用例 を示

断面図である。 図13 第6の実施の形態の他 の適用例 を示

断面図である。 図14 実施例 のセラミのSである。 図15 実施例 のセラミのSである。 図16 実施例5のレーザ照射前のS 画像である。 図17 実施例5のレーザ照射後のS 画像である。 図18 (a) は実施例

3

の試料番 号

2

の試料の平面図、( 、(c )は実施例6で作製さ

れた試

料番 号

3

3 2

の平面図である。 図19 実施例7で作製さ

れた試

料番 号

4

4 4

である。 図20実施例8で作製さ

れた試

料番 号5 の斜 視である。 図21 実施例

9

で作製さ

れた試

料番 号6 のS

P

である。 図2 2 実施例

9

で作製さ

れた試

料番 号6 2のS

P

である。 図2 3 実施例

9

で作製さ

れた試

料番 号6 3のS

P

である。

号の説 明

005 7 磁器本体

2

第 の相

(13)

3

2

の相

4

2 3 6

22

32a

32c

加領城 5 昇温過程 6 高温保 持過程 7 第 の降温過程 ( 降温過程 ) 8 第

2

の降温過程 ( 降温過程 )

9

4

5 7

23 29

セラミ 0a 0

b

外 部電極 7 a 第 の素体部 7

b

2

の素体部 8 a 第 の外 部電極 8

b

3

の外 部電極

g a

2

の外 部電極

gb

4

の外 部電極

24

第 の熱

印加

領城

2 5

2

の熱

印加

領城

明を

ための最

の形

005 8 次に、本発明の実施の形態を詳説

る。 005 9 本発明の

実施の形態としての

C

構 造の典 相と

2

の相含有した磁器本体の表 面に、所 定パターンを有

る線 状の熱

印加

領城が形成さ

る。 0060 以下、まず、磁器本体に

つい

て説 明

る。 0061 図 は、磁器本体の平面図であ

て、該磁器本体 は、 を主成分と

ク材 料の焼 結体でありには(

)

系材 料又は (

Co)

系 3 4 3 4 材 料を主成分として

る。 006 2 そして、磁器本体 は、母相と の相

2

の相

2

は結構 造の典 なる第

2

の相が分散 状に形成さ

る。 006 3 第 の相

2

は、具体的には、立方品のスピネ構 造 (

般式

O

) ・を有して

る。

(14)

また、第2の相3は、前記第 の相2より 抵抗の高

スピネ構 造を主と

状結(主成分 O )で形成

る。 006 4 次に、この磁器本体 の作製 方法に

て述る。 006 5 まず、 O 、又は O C o 、さら 3 には必要に応じて各 種金 属 酸化 4 3 4 3 4 物を所 定 最秤呈し、分散剤や純水と

の混合

に投入し、数時間湿式で混 合

る。次

で、この混合 粉 を乾燥した後、6 50

の温度 で仮 焼し、セラミ原料粉 末 を作製

る。 006 6 次

で、このセラミ原料粉 末ー樹脂湿潤剤消泡 剤等の添加剤を加えて、所 定の低真空圧 下で脱泡し、セラミーを作製

る。

で、該セラミクスラリーをドクターブレード法

法等を使用 して成形 加工し、所 定膜厚のセラミーンシーを作製

る。 006 7 そして、セラミーンシーを所 定に切所 定枚 数積層 て積層成形体を得る。 006 8 次

で、この積層成形体を焼成炉 に入れ、大気 雰囲気又は酸 素雰囲気中、300

0o

C

に加熱して約 時間、脱バインダ処理 を了 、

、その後、大気 雰囲気又は酸 素 雰囲気中で所 定 の焼成プロファイに即 して焼 成処理 を行ぅ 006 9 図2は焼成プロファイ

例 を示

図でありは焼成時間 (

)

、縦軸は焼 成温度 (

)

して

る。 007 の焼成プファイ5 と高温保 持6 と降温6 と

らなる。そし て、脱バインダ処理終

後の昇 温過程5では、温度 (例えば、300

600

C

)

ら 最 高焼成温度 a xまで

定の昇 温速 度(例えば、200

)

で焼成炉 の炉内温 度を昇 温さ

る。そして温度最 高焼成温度 a

に到達 した時間

ら時 間 2 までは高温保 持過程6 となり温度最 高焼成温度 maxに保 持 して焼 成 処理 を行ぅそして時間 2降温7に突温度 で降温

る。具体的には、降温過程7は第 の降温過程7 aと第2の降温過程7bと

らなる。 そして、第 の降温過程7 aでは、昇温過程5 と同

一又

は略同

の第 の降温速 度( えば、200

)

で温度

2

まで降温さ

温度

2

なると記第 の降温 速 度の 2程度に設定さ

れた

2の降温速 度 で炉

温度 で降温

る。

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