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プレゼンテーション資料 RIETI BBLセミナー 2017年度

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Academic year: 2018

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(1)

製造領域

常温

常温衝撃固化現象

発見

AD

0./6年/ /.日

&国'産業技術総合研究所

先進コ

ン 技術 ン

(2)

2

先進コ

ン 技術 ン

設立

AD法の技術相談件数推移

第4期 ニッ ッシ ン

常温衝撃固化 現象 発見

研究体制

新た

提供

(3)

製造領域

(4)

4

ン&

AD

'法 特徴

(5)

製造領域

成膜速度: 3mm/min

成膜速度: 50mm/min 成膜-成形条件

基板加熱8無加熱 真空度8/Tmrr以

原料粒子 80μk以

高密度873%以 &相対密度' 高速成膜8

/.μk-kil以 高密着強度80.KPa以

汎用 &α+ '

電 &PXT'

常温

粒子

緻密 固

現象

&常温衝撃固化現象'を発見!

&約

20

年ほ 前'

AIST

?D法

材料

常温衝撃固化

実験中 &/772年頃'

汚 着目!

高透明 &5μm厚' α-Al2O3

見 た 粒子

表面 いた 機物

2..~3..℃ 低温 長時間焼い た!

PXT&500μm厚'

(6)

6

原料粒子 膜微細組織

観察

高密度 高い密着力

非常 安価

結晶組織を実現!

Deposition temperature : 25℃

Relative density : Over 95%

Joined force : Over 0.~1.MPa

Anchoring layer

100-200nm

高い密着力83.KPa以

(7)

製造領域

Pb(Z0.52,T0.48)O3 (PZT)

Oxide

AlN

(NiO,ZnO)Fe2O3 MgB2

Non-Oxide

Reduc

tion of crys

tallite si

ze is obse

rved !!

ン酸

コン酸鉛

窒化

AD

法 常温形成したセラミックス膜 微構造

(8)

8

Ft=0... 以 W=13.EPa

アルミナ原料粒子前処理による 膜体積抵抗率 低下

?D法

常温形成

電気 機械特性

4 mm thick film AL160SG on SUS

1000000 10000000 1E+08 1E+09 1E+10 1E+11 1E+12 1E+13 1E+14 1E+15 1E+16

0 500 1000 1500 2000 2500

Electrical field, kV/cm

B u lk R e s is ti v it y , W * c m Al160 fresh 5h milled 5h-1000-4h air 5h-800-1h vacuum Al160fresh#2 30h milled 30h mil 1000-4h ht in air

還元処理

調整前 調整後

#1

milled #2

milled #3

常温成膜アルミナ ビッカース硬度

常温

成膜体 透明

結体 同等

電気 機械特

性を得た

アルミナ常温成膜体 誘電特性

プ 基板 常温

形成さ た透明 膜

α-Al2O3

ホンリカーホワネイト

=9.8

(9)

製造領域

(10)

10

半導体チップ加工線幅のロ

ップ

出典:2013 ITRS 国際半導体技術ロードマップ 生産速度

の向上

ん ん微細化の傾向!

低消費電力化 高速動作

生産速度の向上

10年 5倍に!

(11)

製造領域

研究開発 実用化 例/

半導体製造装置用プ

耐食部材

TOTO() 共同研究'

NEDO 効利用基 技術先導研究開発

(12)

12

2012年度 市場需要 本格的 立ち 以降

年数倍 売 伸び 世界 最先端半

導体 プ製造を支え い

半導体製造装置以外 様々 答え く

多様 材質 形状 基材 大面積 製膜 対応可能

産装置を増設し 本格生産を開始

AD法 膜 販売実績 50cm角サ &Y2O3'コ ン 膜

TOTO社 中津第 工場

&AD法 産工場'

研究開発 実用化 例 /

(13)

製造領域

AD

色素増感型太陽電池

実用化

&積水化学工業㈱ 共同研究'

研究開発 実用化 例2

(14)

14

AIST

粒子 どうし く

い いる ?

運動

基板

衝突した

発生 融着す ?

(15)

製造領域

(16)

16

200nm

PZT

Al2O3

衝撃力の加わる方向

PZT

&微粒子衝突時 '

粒子破砕

a

-Al

2

O

3 100nm

2種類の材料の 混合性膜

解析結果:ナノ

の粒子破砕

結晶粒の変形、微細化

緻密化を実現

断面観察像

透過電子顕微鏡像

微粒子

常温固化

J. Akedo:J. Am. Ceram. Soc., 89 (6) 1834–1839 (2006)

(17)

製造領域

AIST

(18)

18

(19)

製造領域 0.25 0.50 0.75 1.00 1.25 AD battery Normali zed Potenti al

AD

法によ

全固体薄膜

Li

イオン電池の開発

自動車㈱ 共同研究実績

酸化物系全固体薄膜電池動作を世界初 実証

極 正極

電解質&液状' 3.

極 正極 電解質&液状'

固体電解質

高容 化 薄膜コン 構造 必要!

(20)

20

酸化物単結晶電解質

AD

法を用いた全固体

Li

蓄電池

@25℃ 3mm

Cathode AD Layer

LLZO single crystal

charge discharge

10times higher than ceramics

回路 臓畜

電池

+

無線給電

Press release: 2017/2/1

http://www.aist.go.jp/aist_j/press_release/pr2017/pr20170201/pr20170201.html

IoT & 医療

(21)

製造領域

AD

SOFC

応用研究

AD

Li

電池応用研究

(22)

22

(23)

製造領域

粉 調整技術 や量産技術で

日 リ ド

研究機関 対す

世界 のAD法論文発表数

韓国 の

AD

の取り組み

AD法 基 特許

方法 構造

装置 産総

研 保有 世界 初 事業化 TOTO にも成功

し し...

世界 コ ン 市場8約6000億

国 市場8約400億

AD法 従来成膜法の比較

海外

新しい溶射技術 潮流!

(24)

24

ン 市場 サプ

課題

海外市場 拡大

高付加価値

or 消耗品ビ

成 立 ? 材料

本気

出 出口 い 困難! &複数部材 部 品

ン 構築'

(25)

製造領域

(26)

26

80

垂直統合

90

水 統合

2000

代以降

ネ トワ ク統合

(27)

製造領域

先進コ

Advanced Coating Aliance

40

社入会

?D用

粉体

製造

確立 部

材応用

製品

ン を

検討中

AD

法 装置

技術 いう

粉体技術

(28)

28

フ PETフ

AD 膜85μm厚

(29)

製造領域

大学 国研研究者の認識

民間企業 大手 の認識

萌芽研究段階

メイン

育成段階

開発

実用化フェ

研究フェーズ 立ち位置 の認識と相違

萌芽研究段階

育成段階

開発

実用化フェ

Larsre Science 招 講演多数

関連論文発表多数 サ ン

試作品 企業 共同研究

研究所 ベ

開発部 ベ

●資金面 ン ワ 食い違い

●大学 学生 い

&教育 いう意味 し 学費を払

も い '

時代背景や 研究分

(30)

30

産学連携

部門

研究者

企業

結局のところ

信頼関係

構築

信頼関係

構築

信頼関係

構築

信頼関係

構築

信頼関係

構築 プ 意識

プン

ン 向

産総研成果 価値評価8企業&顧客'目線 研究者目線

新しい技術 実用化 難しさや 大 さ

理解 深さ

企業 見た価値評価

論文発表 知 間

法務的視点 違い 企業接触 違い 評価指標 違い

市場動向 ビ 情報 無

(31)

製造領域

ご静聴あ

がとうご

いま

ン法

基礎

応用

―常温衝撃固化現象 新規 コ

ン 技術 す ―

Aerosol Deposition(AD) Process:The Basic and Applications

―Novel Ceramic Coating Technology with Room Temperature Impact Consolidation(RTIC)―

Yコ No.2008T624]

■ 修- 明渡純&& '産業技術総合研究所'

■体裁- @3判 055

参照

関連したドキュメント

建設関係 (32)

注)○のあるものを使用すること。

[r]

会長 各務 茂夫 (東京大学教授 産学協創推進本部イノベーション推進部長) 専務理事 牧原 宙哉(東京大学 法学部 4年). 副会長

2017 年度に認定(2017 年度から 5 カ年が対象) 2020 年度、2021 年度に「○」. その4-⑤

今年度は、一般競技部門(フリー部門)とジュニア部門に加え、最先端コンピュータ技術へのチ ャレンジを促進するため、新たに AI

2014年度 2015年度 2016年度 2017年度 2018年度 2019年度 2020年度

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