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※ IEC62321

電機・電子機器-6 種類の規制物質(鉛,水銀,カドミウム,六価クロム,ポリ臭化 ビフェニル,ポリ臭化ジフェニルエーテル)の濃度定量

2.分析方法の概要

禁止物質の分析方法(高精度分析)の概要について、下表に示す。

対象物質 分析方法 ( 前処理 → 測定 ) 備 考 カドミウム

鉛 分解 → ICP-OES、ICP-MS、AAS 5.1項 水銀 分解 → CV-AAS、CV-AFS、ICP-OES、ICP-MS 5.2項 六価クロム 抽出 → ジフェニルカルバジド吸光光度法(UV-VIS) 5.3項 臭素系難燃剤

PBB/PBDE 抽出 → GC-MS 5.4項

フタル酸エステル GC-MS or LC-MS 5.5項 ハロゲン

フリー/HF 対象物質

臭素

塩素 燃焼 → IC 5.6.2項

アンチモン

リン 分解 → ICP-OES/AES、AAS、ICP-MS 5.6.2項 AAS : 原子吸光分析法 (Atomic absorption spectrometry)

CV-AAS : 冷蒸気原子吸光分析法 (Cold vapour atomic absorption spectrometry) CV-AFS : 冷蒸気原子蛍光分析法 (Cold vapour atomic fluorescence spectrometry)

GC-MS : ガスクロマトグラフィー質量分析法 (Gas chromatography – mass spectrometry)

GC-HRMS : 高分解能ガスクロマトグラフィー質量分析法

(Gas chromatography – mass spectrometry / high-resolution mass spectrometer) ICP-OES : 誘導結合プラズマ発光分析法

(Inductively coupled plasma optical emission spectrometry)

ICP-MS : 誘導結合プラズマ質量分析法 (Inductively coupled plasma mass spectrometry)

UV-VIS : 紫外線-可視光線分光光度分析 (IEC62321 に定義無し)

別紙 2-2 3 .分析データに関する条件

分析データ・報告書には下記の情報が記載されていること 1)前処理方法、測定方法

2)上記が IEC62321 準拠の明示

3)測定者名、測定責任者名、分析機関名 4)測定日

5)測定結果及び単位 ( N.D.(not detectable)の場合は、定量下限値も記載 ) 6)測定フローチャート

7)カドミウム、鉛、水銀分析においては、前処理について完全に溶解して溶液化させた旨 を「完全溶解した」と明記

8)分析対象物の画像(写真)

9)言語:原則として英語

※ これらが分析データ・報告書に記載されていない場合は、漏れた事項をご記入の上、

再提出をお願いすることになります。

※ 上記のほか、分析データ・報告書には測定日を基準に 1 年又は 3 年の有効期限が あります。

当社製品に使用する「部品」「原材料」 「副資材」 1年 当社製品をお客様に納入する際に使用する「梱包材」 3年

※ 下記材料は、当社の製造過程で状態が液体から固体に変化するため、製品として 含まれる状態:固体状態での分析実施を推奨します。

固体状態で分析できない場合、顧客要望により液体状態の分析データが固体状態に おいても、分析物質の閾値を超えない旨の証明書の提出をお願い致します。

接着剤、インク、固定用樹脂、はんだペースト

( いずれも当社の製造過程で液体->固体に変化(硬化)するもの )

※ めっき皮膜は皮膜状態で分析して下さい。めっき液(薬品)状態の分析データは、

めっき皮膜としての非含有保証としては不適切です。

4.分析機関に関する条件

分析機関(または試験所)に関する条件を下記に示す。

1)試験所認定機関から ISO17025 認証を取得した分析機関であること

2)取引会社で保有する分析装置を利用して有害物質分析を実施する場合、ISO17025 認証 を取得した試験所であること

※ 分析データ・報告書の信頼性確保の為の条件

※ ISO17025 認定証の付属書/認定範囲に、 IEC62321 による分析が含まれていることを

確認して下さい

※ 分析データ・報告書に併せて、ISO17025 認証(控)の提出をお願いします

環境関連化学物質管理基準書 DHE-0204-1 別紙 2

別紙 2-3 5.分析方法の詳細

※ 前処理、測定方法には IEC62321:2008 の箇条を参照記載していますが、最新版の IEC62321 に基づき実施して下さい

5.1 カドミウム/Cd、及び鉛/Pb の分析方法

材 質 高分子材料 金属材料 電子機器

(PWB

/構成部品) 前処理

(試料調製)

乾式灰化 酸分解法

密閉系の酸分解(マイクロ 波加熱分解)

(IEC62321:2008 8.4)

酸分解法

密閉系の酸分解(マイクロ 波加熱分解)

(IEC62321:2008 9.4)

酸分解法

密閉系の酸分解(マイクロ 波加熱分解)

(IEC62321:2008 10.4)

測定方法 1)誘導結合プラズマ発光分析法(ICP-OES)

2)誘導結合プラズマ質量分析法(ICP-MS)

3)原子吸光分析法(AAS)

備 考 試料残渣が有る場合、それ を遠心分離機又はフィル タで分離する。残渣を適切 な測定法(XRF など)でチ ェックし、対象元素がない ことを確認する。

全ての残渣は対象元素が 含まれていないか、別の方 法でチェックする。

又は、酸溶解後に残渣を更 に別の溶解方法(アルカリ 融解、気密加圧容器の使用 など)で完全に溶解する。

全ての残渣は対象元素が 含まれていないか、別の方 法でチェックする。

又は、酸溶解後に残渣を更 に別の溶解方法(アルカリ 融解、気密加圧容器の使用 など)で完全に溶解する。

※ PWB:プリント配線板(Printed wiring board)

5.2 水銀/Hg の分析方法

材 質 高分子材料 金属材料 電子機器

(PWB

/構成部品) 前処理

(試料調製)

酸分解法

密閉系の酸分解(マイクロ波加熱分解)

(IEC62321:2008 7.4)

測定方法 1)冷蒸気原子吸光分析法 (CV-AAS) 2)冷蒸気原子蛍光分析法 (CV-AFS )

3)誘導結合プラズマ発光分析法(ICP-OES)

4)誘導結合プラズマ質量分析法(ICP-MS)

備 考 試料残渣が有る場合、それを遠心分離機又はフィルタで分離する。残渣を適切な測 定法(XRF など)でチェックし、対象元素がないことを確認する。

※ PWB:プリント配線板(Printed wiring board)

(1) いずれの方法においても、水銀が揮散しないように注意を払うこと。また、沈殿物

(不溶物)が生じた場合は、何らかの方法(アルカリ溶融など)で完全に溶解して

溶液化することが必要。

別紙 2-4 5.3 六価クロム/Cr

6+

の分析方法

材 質 高分子材料 金属試料の無色及び着色 皮膜

電子機器

(PWB

/構成部品) 前処理

(試料調製)

アルカリ分解

(IEC62321:2008 Annex C.5.1)

沸騰水抽出法

(IEC62321:2008 Annex B.5.2)

アルカリ分解

(IEC62321:2008 Annex C.5.1)

測定方法 ジフェニルカルバジド吸光光度法(UV-VIS:紫外線-可視光線分光光度分析法)

備 考 「Spot test 法」を除く ※ PWB:プリント配線板(Printed wiring board)

(1)除外する測定方法

「Spot test 法」 (IEC62321:2008 Annex B.5.1)

1) 「Spot test 法」の対象は、金属試料の無色及び着色皮膜のみ。分析する試料は、

大気条件で保管し、皮膜形成後、30 日以内に試験されなければならない。この 要求事項を満たせない場合、分析結果は、六価クロムが最初から存在していた か確認することができない。

2) 「Spot test 法」は、試料を溶解した後に含有量を測定するのではなく、試料 表面に試験溶液を直接滴下した後に、滴下液の赤紫色の発色を目視で判定する 方法。

分析結果も数値ではなく、「Negative」「Positive」のみの判定で定量下限値も明確 でないことから、六価クロムの分析方法として適切でない。

5.4 臭素系難燃剤(PBB、PBDE)の分析方法

材 質 高分子材料 金属材料 電子機器

(PWB

/構成部品) 前処理

(試料調製)

ソックスレー抽出法

(IEC62321:2008 Annex A.5.3)

適用外 ソックスレー抽出法

(IEC62321:2008 Annex A.5.3)

測定方法 ガスクロマトグラフィー 質量分析法 (GC-MS)

適用外 ガスクロマトグラフィー

質量分析法 (GC-MS) ※ PWB:プリント配線板(Printed wiring board)

5.5 フタル酸エステル類(DEHP、DBP、BBP、DIBP 等)の分析方法

材 質 非金属材 金属材料

接着剤、ペイント、インク、エポキシ樹脂、

モールド化合物、PCB (Printed circuit board )、

ガラス、セラミック

金属、金属めっき

前処理

(試料調製)

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