総 括
I‑‑m
を踏まえ、本プロジェクトを総合的に評価して下さい。本プロジェクトは(1 )集積回路用配線， (II)高精彩平面デ、イスプレイ用配線， (皿)電力変換用 SiC パワーモジュール用配線，(IV)太陽電池用 Cuペースト配線，と材料やスケールが大きく異なる4つ のサブ、テーマの配線技術の開発を同時並行に行ったものである。このうち， (IV)太陽電池用 Cuペ ースト配線の成果が，最も高く評価できる結果を得ている。それらは， (槻マテりアル ・コンセプト 社を設立し実用化を目指すとのことである。しかし，他のサブテーマは，おそらくは研究者のエフ
オート も小さく 相対的に進捗が芳しくないものも見受けられた。
今後は，サブテーマを取捨選択し， (IV)のテーマを中心として本プロジェクトを推進されること を望む。その際，新たな共同研究先として，他大学や他専攻，あるいは国立研究所の研究者などを 加えて多方面から検討をお願いしたい。一方，中断あるいは休止するテーマについても，その課題 や理由を明確にし 将来のロイヤリティ収入や，今後の技術移転に備えておくことが必要である。
当該分野は，それぞれのスケールで、企業や研究者が異なるため，これまで研究者間の交流が十分 でなく，研究開発も試行錯誤に頼ってきた。このプロジェクトの終了後には「配線材料学Ji配線法J
といった学聞が整理 ・体系化されるとともに，関連研究者の人的ネットワークが構築されることも 期待する。
具体的な評価として下記の指摘がある。
I 集積回路用配線、 11 フラッ トパネル用配線、 111 パワーデ、バイス用配線、 1V 太陽電池用配 線の四つの分野に共通する 配線'としづ課題に挑戦し、 I 集積回路用配線ではCu‑Mn合金を用い た微細化、 11 フラットパネル用配線ではその応用、 111 パワーデバイス用配線では Ni‑Nb合金、
1V 太陽電池用配線ではCuベーストでコスト削減に挑戦するとしづ素晴らしい構想である。研究分 担もデバイスでは世界トップレベルの IBMを始め業界トップレベルを集めた共同開発なので期待も 膨らんだ。残念ながらこの 4つの業界に共通する市況悪化としづ状況変化により、主として企業側 の理由により 11と111に関しては中断したもの、注力した残り 2テーマでは素晴らしい結果を残し ている。
I 集積回路用配線では、現在の 14nm世代で、既に微細化は止まってしまったかのように見える多 層配線で、 7 n m以降を見据えた新材料 Cu‑Mn合金はエレクトロマイグレーション耐性に優れるば かりではなく、自己バリア性を併せ持つという微細化開発には最適なインテグレーション材料(プ ロセス)のひとつである。課題は7 n m以降の世代で、の微細化寸法で、埋め込み性能の良い成膜方 法を同時に開発することであり、今後ブ。ロジェクトもしくは参加企業の努力に期待する。
1V 太陽電池用配線に関してはとにかくコスト削減が第一課題だが、それを Cuベーストで解決しよ うというものだ。これに関しては既に特許もあり、プロジェクトリーダー自ら起業しているので今 後起業団体に期待する。
まとめると、
1 進捗状況に係る評価も、市況悪化の影響から 2テーマの中断はあったものの、重要2テーマに 注力し、想定以上の進捗である。
2 成果還元に関しでも、半導体デ、バイス用配線に関しては既に止まってしまったかに見える多層 配線の微細化将来に明るさをもたらし、太陽電池用配線に関しては自ら起業するという成果をあげ ている。
3 プロジェクト研究費も国プロを十分に活用している。
以上の評価を総括すると、本プロジェクトの 4つのテーマの進捗状況を真塾に評価し、今後の発 展を見据えて、 2つのテーマに絞るという決断を評価し、今後の更なる研究成果の獲得を期待した
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(全体に対するコメントがありましたら、記載して下さい。)
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研究プロジェクト評価書面審査表(まとめ)
(研究プロジェクト評価書面審査委員氏名:。伊藤弘昌、井口泰孝、飯塚尚和)
プ 口 ジ エ ク ト 名 ￨半導体レーザの極限機能開発とナノイメージング応用 プロジェクトリーダー名￨横 山 弘 之
1 .プロジェクトの開発研究計画に照らした開発研究の進捗状況に係る評価等
1.開発研究の進捗状況(当初 の開発研究計画に照らした 開 発 研 究 の 進 捗 状 況 )
(優れている点)
超高機能光源開発においては利得スイッチング動作に基づく半 導体レーザ
( LD)
の開発により製品化可能な水準を達成し、深部 バイオイメージングの実証に貢献し、バイオメデイカルオフォト ニクスの産業化への道を開いた。固体の超解像イメージングでは空間的組成揺らぎに関して重要 な知見を得ている。
InGaN系青紫色L Dではピークパワー100W超を達成した。
NEDOの 「イノベーション実用化開発助成」により小型実装 ・低 コスト化への進展が見られた。
こ れ ら の 成 果 を 複 数 の プ ロ ジ ェ ク ト で シ ー ム レ ス に 進 め て お り、それぞれの目的が有機的に互いに成果を高めている点評価で きる。リーダーの努力により研究者および企業の枠が拡大された ことにより均衡の取れた進展が見られたと考える。
(不十分な点)
半導体L Dの実用化への問題点として、「特性の再現性の確保j
「周辺エレクトロニクスや光デノミイスとの統合JI高ピークパワー の光パルスに適した光増幅器の開発」を挙げているが、これら開 発のための具体的課題が明示されていなし10
(改善のポイント)
事業化を指向しての NICHeのフロジェク トとして、 NICHeのみ をベースに長く活動している先生である。研究者に事業化までを すべて任せるのではなく、大学、センターも組織として専門的な 支 援 を す る こ と が 事 業化 の 成 功 に 向 か わ せ る た め に は 必要であ
る
2.研 究 者 の 育 成 状 況 (優れている点)
(各種研究員の受入れ・ NICHeのみをコアに活動されている教授としては、修士 ・博士 国際交流の状況等を含む。)I学位取得者の25年度5人、 26年 度4人の受け入れは大変努力
され、成果を挙げていると評価できる。
台湾の大学との交流が強まりつつあり、今後期待が持てる。
総 括I
(不十分な点)
共同研究企業からの研究者の受け入れはもっと多く必要ではな かろうか。これは企業側の問題ではあるが要検討事項と思われる。
(改善のポイント)
更なる研究員の採用と養成を期待する。
(優れている点)
上 記1.‑‑3.までの評価に基￨ 高度な光制御を実現し、これまでにない光源を実現している。 づ き 当 初 の 開 発 研 究 計 画 の 進 ￨特に半導体レーザは、国内で研究用に試作するコストは高く、製 捗 状 況 を 中 心 に 評 価 し て 下 さ ￨造できるファブも限られる。その中で研究用としてのレーザを基
￨礎から考察して開発してきた努力とその成果は評価に値する。 またその展開のため多方面からの資金導入が行われ、研究の多 面化と応用の拡大が図られ、着実に成果につながっていることは 大変評価できる。
応用面においても試作機レベルの実証を終えており、本格的な 事業化が期待できる。
(不十分な点)
企業側の事業化のための体制づくりが十分ではないように見て とれる。
(改善 の ポイント)
デバイスの開発と応用分野の事業化は大学の研究者と企業の担 当者レベノレの話し合いだけで十分進むものではない。企業本体の 覚悟のほどとコミットメントが必要不可欠である。先端分野で且 つリスクの高い事業化であればますます重要である。これが有る と無いとでは研究遂行における課題抽出と解決の速度が異なると 考えられる。
大学がまともな組織体であるならば重要分野の研究の事業化に ついては、企業と協定を結んで事業化を推進するなどの努力が不 可欠と考える。東北大学も、かつて実学の大学を名乗ったように、
実行する大学になってもらいたい。
評 価 : の 大変良い
2.良い 3.普通
4.や や 不 十 分 5.不 十 分
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E.プロジェクトの開発研究成果の社会(地域・日本・世界)、経済、産業への還元状況
1.民間企業への技術移転進捗
I
(優れている点)状況について ￨ 本プロジェクトの技術移転では、半導体レーザの極限機能追及 を共同して行った企業がその応用システム展開の事業化を行って おり、今後の展開が期待される。また、大学発新産業創出拠点プ ロジェクトによる開発を継続し、バイオメデイカル応用を目指し てベンチャー企業を設立し、事業化を目指している点評価できる。
技術移転が一部実際に行われ、製品レベルの機器に使用されて いることは素晴らしい。
(不十分な点) (改善のポイント)
実用化、産業化については厳しいベンチャーキャピタルなどの 評価に対応できるレベルに是非、達してほしい。
2 発明、特許権その他の知的 I (優れている点)
財産権の状況について ￨ 特許申請は特にはじめの 2年活発におこなわれており、 着々と
3 論文・著書・学会等発表の状 況
出願、登録が行われてきている 内容は不詳であるが、基本的な 部分をしっかり押さえていることと思う。
(不十分な点)
絞り込んだ上で特許出願しているものと思うが、研究や実用化 に向けての課題が多いにもかかわらず、発明件数が少ないように 見える。企業と合同のブレーンストーム等を頻繁に行って、造出 に努めるなどし、件数もさることながら、請求項目の充実に心掛 ける必要がある。
(改善のポイント)
バイオイメージング機器の分野に進出するためには、新しい商 標や意匠についても十分準備する必要があると思う。企業側と入 念な打ち合わせを持つことを提案したい。
生産技術分野も含め、戦略特許、重要特許の倉Ij出に努めてほし い。このためにはブレーンストームの頻度向上とともに、特許の 芽を見逃さない日常的なQ]Tが有効と思う。
(優れている点)
国際学会等で多数の招待講演を行っており、研究が高く評価さ れているものと思う。
(不十分な点)
学生や若手研究員の国内学会 ・研究会での発表がもっとあって いいように思う。