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MEMS マイクロフォンの高性能化

Zhe (Wily) Wang, Quanbo Zou, Qinglin Song, and Jifang Tao, GoerTek Inc., China, Transducers 2015, 375-378

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高性能化のための技術的選択肢例

• 音響ノイズは,バックプレートのパーフォレーション・ホールでの流体抵抗,静電ギャップ でのスクイーズド・フィルム・ダンピング,およびベンチレーション・ホールでの流体抵抗に 起因する。→ バックプレートなしの構造:圧電検出(例:Vesper MEMS),ピエゾ抵抗検 出,ダイヤフラムの周囲に検出部など

• 寄生容量やワイヤボンディングからの電磁ノイズの排除 → MEMSとASICのモノリシック 集積化(例:Akustica)

• 差動検出(両面バックプレート,ダブルダイヤフラム)

• パッケージングの小形化(一部,ウェハレベルパッケージング)

バックプレートなしの MEMS マイクロフォン

Sung-Cheng Lo1, ... Chuanwei Wang2, Mingsian R. Bai1, Weileun Fang1, National Tsing Hua University, 2MotionsTek Inc., Transducers 2015, 1085-1088

バックプレートがなく,周囲の櫛歯電極で検出(以前

,著者らが発表したものの改良版)

主に櫛歯は面外方向に動く

バックプレートなしの MEMS マイクロフォン

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SOI基板で作製

ダイヤフラムの直径600 μm,静電ギャップは1.6 μm

感度(感度の定義は,1V/1Paを基準にし て,何Vの出力が出るか)

SN比は不明だが,性能は低い。

ちなみに,ADI ADMP504の感度は-38 dBV(100 Hz~20 kHz),SN比は65 dB Sung-Cheng Lo1, ... Chuanwei Wang2, Mingsian R. Bai1, Weileun Fang1, National Tsing Hua University, 2MotionsTek Inc., Transducers 2015, 1085-1088

ピエゾ抵抗式 MEMS マイクロフォン

Z. J. Zhou et al.(香港科学技術大), Transducers ’09, 1916

ZnO 圧電 MEMS マイクロフォン

R. P. Ried, R. S. Muller (U.C. Berkeley), J. Microelectromech. Syst., 2 (1993) 111

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AlN 圧電 MEMS マイクロフォン

Vesper Technologies

CEOのMatthew CrowleyはSand 9出身

CTOのRobert John Littrellの博士論文(2010,ミシガン大)の技 術に基づく(US 2010 0254547 A1)

SNR ~68 dBの 圧電マイクロフォン

EE Times 2014.9.22

デュアルバックプレート・マイクロフォン( Infineon

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Christian Lillelund (Infineon Technologies), EETimes (2016)

SNR 70 dB ← 65 dB AOP 130-135 dB ← 120 dB 位相ばらつき ±2°

感度ばらつき ±1 dB 4×3×1.2 mm3

2018 1Qに量産予定

Infineon 2017.7.25プレスリリース

(従来典型値)

おそらく,差動化 にともなって機械 感度を下げ,その 分,ノイズを低減 フィードバックも可 能か?

自動車・家電関係の MEMS

圧力センサ 加速度センサ ジャイロスコープ 磁気センサ

マイクロフォン

マイクロデバイスの研究開発,お手伝いします。

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研究室

クリーンルーム

マイクロ・ナノセンター

(MNC)

マイクロシステム

融合研究開発センター

小片ウェハ

4インチウェハ

6インチウェハ

田中(秀)研究室が一貫してお世話

基礎研究から製品開発まで

小片ウェハから 6 インチウェハまで

企業単独での開発より短時間・低コストで成果が得られるように支援します。

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Takashiro Tsukamoto Michio Kadota

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Masanori Muroyama Assoc. Prof.

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Shuji Tanaka

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Hideki Hirano Sr Res Fellow

S. Tanaka Laboratory

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