原子物理研究室
A1076189 鈴木 貴統
研究背景と目的
当研究室では低温におけるイオン-極性分子反 応の反応速度測定を行っている。
目的:REMPI法の導入を目指し(2R+2)-REMPIによる N 2 分子のイオン化を実証
【分子イオン生成法】
電子衝撃イオン化法○様々な分子のイオン化が容易
×フラグメントイオンが生じやすい
多光子共鳴イオン化法×分子ごとにレーザ‐波長を変える必要がある
○特定の分子イオンのみ選択的に生成できる
多光子共鳴イオン化(REMPI)法
2R+2 N
2REMPI 2
光子共鳴(Resonance)+2
光子イオン化(1) N 2 (X 1 ΣΣΣΣ g + ) + 2h νννν (283 nm) → N 2 (a 1 Π Π Π Π g )
(2) N 2 (a 1 Π Π Π Π g ) + 2h νννν (283 nm) → N 2 + (X 2 ΣΣΣΣ g + ) + e-
hν hν
hν hν
N2+
N2+
N2+
e
-ion signal
two-photon ionization
two-photon absorption photons ~4eV
N2+X2Σg+ (15.6eV)
a1Πg
(above 8.6eV)
X1Σg+
実験装置
【パルス色素レーザー】
線幅
: < 0.08cm
-1@283nm
出力: < 9mJ@283nm
パルス幅:5ns
繰返し:
10 Hz
【真空チャンバー】
到達真空度:
1.0 × × × × 10
-6Pa
実験時:10
-3~10
-2Pa
セラトロン
ドリフトチューブ(GND) 加速電極
(29.2V)
引出し電極
(0-数V)
N2+
REMPIレーザー (283-284 nm) ガスノズル
(上下方向)
[ガスノズル]
内径:0.5 mm 長さ:3 mm
245mm 10mm
Wiley-Mclaren TOF spectrometer
マッハ数
Ma=8.8
並進温度 ௧18.2
実験結果・考察 波長依存性の確認
0 10 20 30 40 50
io n s ig n al (a rb . u n it s)
time of flight ( µ s) (a) λ= 283.2nm
(b) λ= 283.0nm
N
2+ 100ns/ch
1000回
27.5µs
のピークに大きな差(シミュレーションでは23μs であるがノズルの影響で22V まで電圧低下。)
• V
ACC= 29.18V
• V
EX= 0V
• V
CEM= − 2.7kV
• Power = 4.85mJ/pulse
N 2 のREMPI信号が
確認できた!
1.5 2 2.5 3
0.2 0.4 0.6 0.8 1 1.2 1.4 1.6
lo g( Is )
Laser Energy(mJ)
Slope:1.83
Slope:0.83
レーザーのエネルギー依存性の確認
2次の依存性に近い
振る舞いを確認できた!
/
࢈ ࢚࢘→エネルギーEの特定の量子状態にある相対確立を表す
核スピン縮退度′′
→ 反対称化波動関数の要請で、回転準位に依存した縮退度をもつ
N
2分子(I = 1)
の場合:6(J-even) : 3(J-odd)
2光子ヘンル・ロンドン因子′, ′′
※→ 回転遷移モーメントの角運動量部分の期待値
フランク・コンドン因子F
→ 振動量子数に依存し、回転準位に無関係
回転量子数に独立な定数C→ レーザー強度、分子数密度に比例
ᇲ,
ᇲᇲO(∆ = -2) M(O) ′′(′′- 2)/15/(2′′ - 1)
※ J. Chen, E.S. Yeung, JCP69, 43(1978)
2光子ヘンル・ロンドン因子′, ′′
回転温度の決定
0 5 10 15 20 25 30 35
283 283.2 283.4 283.6 283.8 284 284.2
io n s ig n al ( a rb . u n it s)
wavelength(nm)
T rot =300K
REMPIスペクトルのシミュレーション
0 5 10 15 20 25 30 O 35 P Q R S
J' '
O(14)
0 1 10
22 10
23 10
24 10
25 10
26 10
2283.6 283.7 283.8 283.9 284
io n s ig n al ( ar b . u n it s)
wavelength(nm)
O(12)
O(13)
O(14) O(11)
O(10)
チャンバー内N 2 圧力
回転温度の決定
0 2 10
24 10
26 10
28 10
21 10
3283.6 283.7 283.8 283.9 284
io n s ig n al ( ar b . u n it s)
wavelength(nm)
O(12)
O(14) O(13)
O(11) O(10)
8.8e − 3Pa 6.8e − 3Pa
-0.5 0 0.5 1
300 350 400 450 500 550 600 650
ln (I /g S )
E rot /k b Slope: − 0.0035
ボルツマンプロット
真空層の圧力(Pa)
8.8e 8.8e 8.8e 8.8e- - - -3 3 3 3 6.7e 6.7e 6.7e 6.7e- - -3 - 3 3 3
回転温度[K]192(31) 286(78)
回転温度の決定
/
࢚࢘/
࢈/
ࡲ ࢚࢘/
࢈ ࢚࢘/
࢚࢘ としてとしてとしてとしてまとめ
•
異なる波長においてREMPIスペクトルの測定を行い波長依存性 を確認した。•
イオン強度とレーザーのエネルギーに2次の依存性を確認した•
ボルツマンプロットを行い回転温度を求めたところ、回転温度 の変化は、窒素ガス圧力による影響が大きく、高い圧力である ほど回転温度が低くなることがわかった。•窒素ガス圧力の測定限界の確認
•エネルギー依存性の測定限界の確認
•回転温度の圧力依存性とアライメントによる依存性の確認