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光エレクトロニクス半導体デバイス 利用統計を見る

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Academic year: 2021

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山梨大学工学部研究報告 第51号 2002年

光エレクトロニクス半導体デバイス

電気電子システム工学科

加藤孝正

 当研究室では光エレクトロニクス半導体デバイス

に関する研究を行っている.主な研究テーマ

は,1)有機ELデバイスの作成とその電気的特性 の評価,2)Cu−Ga−ln−S系半導体の成長・評価と光 デバイスへの応用,3)Si, GaAs基板上への(ln, Ga)−Se系M−・VI半導体のMBE成長と光デバイス への応用である.  有機ELデバイスは液晶とは異なり,それ自身で 発光し,しかも薄型であること,高速応答性を有す ることなどから注目されている.しかしながら,デ バイスの性質に関する研究はあまりなされていな い.本研究室では,電気的・光学的な性質を明らか にすることにより,現在問題となっているデバイス の劣化メカニズムを解明しようと研究を進めてい る.図1は低分子系ELの容量の印加直流バイアス 依存性である.素子容量がピークをもつこと,ピー ク位置やピーク容量値が測定周波数に依存すること などがわかる.この容量の変化は,有機層内の電荷 トラップへのキャリヤの捕獲と中和が原因と考えら れる.現在このトラップの性質や存在位置,素子劣 化との関係などを解明すべく,素子構造などを変え て実験を進めている.また,高分子系のEL素子の 開発も併せて行っている.  Cu(Gai 一。ln。、)orS。半導体は,青色発光材料の

CuGaS2と赤外発光,太陽電池材料のCulnS2を含

み,1Ky≦5(2〈z〈8),O≦x〈1の範囲でカ

ルコパイライト,欠損カルコパイライト,六方晶の 各構造をとる半導体である.これまでにCuGaS2を エンドメンバーとした0≦x≦0.25の結晶の硫黄蒸 気圧制御温度差法による成長条件,結晶学的性質, 光学的性質を明らかにしてきた.現在はこれに加

え,太陽電池材料としての可能性を探る目的で

CulnS2をエンドメンバーとして,結晶成長条件, 電気的,光学的性質を研究している.  発光デバイスや光通信用フォトダイオードなどの オプトエレクトロニクス用化合物半導体は,電子回 路を構成するIcやLSIの材料であるSi半導体とは 結晶構造や格子定数が異なる.このことがSi基板 上へのこれらの化合物半導体の成長を困難にしてい る.ヘテロ成長が可能となれば,一つのLSI内に 両者の機能を含めることができる.本研究は,弱い 力で基板との結合が可能なファン・デア・ワールス 璽 芭 5 4 3 2 50Hz 500Kz 5kHz 50kHz 鱒鱒騨醐翻輔欝        V(V) 図1 有機ELの容量一電圧特性 Io 8

菖6

竣4

2 ◎ ◎    至◎◎   2◎◎   30◎   400   5◎0       長さ[醐

図2 GaSe成長層表面のAFM像

一15一

(2)

山梨大学工学部研究報告 エピタキシイによって,基板の影響を受けないバッ ファ層を成長させ,その上に目的とする化合物半導 体を成長させようとするものである.図2は層状構

造をとるGaSeをGaAs基板上に成長させたときの

成長層表面の様子である.らせん状の成長模様が観 測され,点線上の表面でのステップ高さは層の厚さ に等しい1.6Aであり, c軸配向した層状結晶が成 長したことを示している. 一16一

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