光技術に関する特許動向調査報告書

(1)

2004FY-003-3

光技術に関する特許動向調査報告書

2005( 平成 17) 年 3 月

財団法人光産業技術振興協会

(2)

この事業は、競輪の補助金を受けて実施したものです。

(3)

序文

光産業は先端技術の実用化により，新規事業を創造するハイテク産業であり，技術開発がきわめて重要となっている。新しい技術は特許の形で保護されるが，一つの基本特許が莫大な利益を企業にもたらすことがある反面，特許の抵触により事業継続に支障が起きる事態もある。近年、職務発明をはじめとする特許訴訟が相次ぎ、特許に対する世間の関心も高い。更には，米国のプロパテント政策の影響も大きく，企業において事業戦略・商品戦略を構築する上で特許情報の重要性が益々高まっている。

財団法人光産業技術振興協会（光協会）は，平成

8

年度に特許庁の要請に応じて，光産業界のコンタクト窓口として特許委員会を発足させ，以降，ユーザフレンドリーな特許審査を指向する特許庁の面接審査等の施策に協力すると共に，特許庁との懇談会や特許関連セミナーを開催し，特許庁との相互理解を深めつつ，

光産業界への知的所有権の普及活動に努めてきた。また、上述の状況を踏まえ，平成

13

年度から光技術に関する特許動向調査を行ってきた。この特許動向調査は光協会の光技術動向調査および光産業動向調査を補完して，光分野での新規事業の創造や新商品の開発を目指す企業に対して有用で実用的な情報を提供することを目的とする。

本報告書は，平成

16

年度に特許委員会で実施した光技術に関する特許動向調査の活動をまとめたものである。本年度は、これまでの継続テーマに加え、新たなテーマも取り上げ、調査・分析検討を行い、調査内容の充実を図った。

本報告書の作成にあたっては，八瀬清志委員長，委員各位，さらには関係官庁，諸機関，関係企業の各位の多大のご支援とご協力を賜ったことをここに特に記して，深く感謝の意を表す次第である。

2005

（平成

17

）年

3

月

財団法人光産業技術振興協会会長金杉明信

(4)

2004（平成 16）年度特許委員会名簿

（敬称略五十音順）

委員長八瀬清志独立行政法人産業技術総合研究所光技術研究部門副部門長副委員長阿部仁彦株式会社リコー法務・知財本部知的財産センター

ビシネスモデル特許ファクトリ副参与副委員長嶋本久寿弥太嶋本国際特許事務所所長

委員大阪啓司住友電気工業株式会社知的財産部主幹

委員小笠原松幸日本電信電話株式会社知的財産センタ権利化担当担当課長委員加藤達也昭和電線電纜株式会社知的財産部主任

委員川端充日本電気株式会社知的資産事業本部創造グループエキスパートパテントエンジニア

委員久保田昭伸株式会社フジクラ知的財産部主席部員

委員桑原恒男ＴＤＫ株式会社知的財産センター第３特許技術グループ主査委員小林善宏京セラ株式会社北海道北見工場光部品事業部特許標準推進課

責任者

委員椎名泰一古河電気工業株式会社知的財産部特許戦略ユニット主査委員高野豪並木精密宝石株式会社法務グループ

委員藤比登志富士通株式会社法務・知的財産権本部特許部特許第二部部長

委員船戸雅行沖電気工業株式会社シリコンソリューションカンパニー戦略企画室知的財産権部部長

委員矢嶋正人キヤノン株式会社知的財産法務本部知的財産第一技術センターＮＣＴ知的財産第二部ＮＣＴ知的財産２１課

委員箭内繁男三菱電機株式会社知的財産センター特許技術部ＩＰ第一グループ委員山下建日本板硝子株式会社技術企画室知財グループ主幹技師

委員山田秀夫日立電線株式会社技術開発本部技術開発推進センタエキスパート委員山田学住友大阪セメント株式会社知的財産情報部

委員吉本智史株式会社半導体エネルギー研究所知的財産部サブリーダー

事務局山岸長保財団法人光産業技術振興協会開発部主幹事務局外所哲郎財団法人光産業技術振興協会開発部主幹

(5)

2004

（平成

16

）年度特許委員会委員名簿

1

．はじめに

2

．光産業の特許動向

2.1

光通信

2.2

光メモリ

2.3

ディスプレイ

2.4

光センサ

2.5

太陽電池

2.6

ビジネスモデル

3

．光能動デバイスの特許動向分析

3.1

送信光源

3.2

光増幅器

3.3

光機能素子（光３

R

中継）

4

．光受動デバイスの特許動向分析

4.1

フォトニック結晶ファイバ

/

導波路

4.2

光アイソレータ

4.3

フェルール

5

．表示デバイスの特許動向分析

5.1

大面積，フレキシブルディスプレイ

5.2

平板マイクロレンズ

6

．将来光デバイスの特許動向分析

6.1

量子暗号通信

6.2

μ

TAS(

マイクロタス

)

による生体高分子の検出

6.3

カーボンナノチューブ

7

．特許出願動向に見る産業構造の分析

8

．おわりに

(6)

1．はじめに

光産業技術振興協会将来ビジョン策定専門委員会（委員長島田潤一）は，

2004

年

11

月に「光産業の将来ビジョン−ボーダレス化の中での進化と展開−」をまとめた。その中で，

2010

年および

2015

年の経済社会動向，世界市場，光技術動向，光産業国内生産額等を展望し，①少子高齢化社会，②環境調和型社会，および③ボーダレス社会の到来を支える光産業の貢献を指摘している。それぞれの社会を支える機器としては，

①高度入出力機器，医療機器，モーバイル機器等，②省エネルギー機器，環境モニタリング機器等，および

③個人認証機器，遠隔監視機器等があり，それらによる現在の

30

兆円の光産業が

2010

および

2015

年にはそれぞれ

60

兆円および

105

兆円と

2

〜

4

倍の発展を考えている。

より具体的な光機器には，情報通信分野では，光パケットスイッチ，光フリップフロップ，光量子暗号通信等，ディスプレイ・照明・光メモリ分野では，

3D

ディスプレイ，シートディスプレイ，白色

LED

，分子メモリ等，環境・エネルギー・生命分野では，ファイバ神経網，光触媒，太陽光発電，レーザ核融合，光ガン治療，光

CT

，光農業等，そしてナノフォトニクス・基盤技術分野では，量子ドット，フォトニック結晶，

ナノ光加工，フェムト秒レーザプロセシング等があげられている。

本特許委員会においても，

2001

年（平成

13

年）に開始した特許調査における定点観測的な光産業の調査に加えて，「光産業の特許動向：ディスプレイ」（第

2

章

3

節），「光能動デバイス：光機能素子（光３Ｒ中継）」

（第

3

章

3

節），「光受動デバイス：フォトニック結晶ファイバ／導波路」（第

4

章

1

節），「表示デバイス：

大画面，フレキシブルディスプレイ」（第

5

章

1

節），「将来光デバイス：量子暗号通信」（第

6

章

1

節）を新たに行った。

報告書の中でも記載されているが，当該分野における日本の特許出願は，国内はもとより，欧米での特許出願数の

9

割近くを占めている。このような日本発の特許は，

2004

年

5

月に策定された「知的財産推進計画

2004

」（知的財産戦略本部：小泉総理本部長）においても科学技術立国における産業技術政策の根幹と位置づけられている。将来ビジョンの実現のためにも，更なる知的財産の活用とそれによる戦略が重要であることは言をまたない。

報告書の内容としては昨年度に比べてさらに充実していると自負している。利用価値の高い報告書になっていると考えられるので，関係の皆様に広く活用して頂ければ幸いである。最後に，当特許委員会の活動にあたり種々ご支援・ご協力を頂いた関係各位に厚くお礼申し上げたい。

(7)

2. 光産業の特許動向

2.1 光通信

2.1.1 はじめに (1) 光通信の概要

光通信は概念として基幹伝送システム，海底伝送システム，アクセス系システム，

CATV

システム，光

LAN

システムと送受信光増幅多重化等のサブシステム並びに発光素子，受光素子，光変調器等のデバイスによって構成された技術であり，一連の技術の組合せによって成り立っている。

本特許調査にあたっては，基幹伝送システム，海底伝送システム，アクセス系システム，

CATV

システム，

光

LAN

システムと無線

LAN

システムについて特許出願動向調査を行った。なお，サブシステムおよびデバイスについては調査対象外とした。また，前回と同様に最近急成長を遂げているインターネット関連の出願動向および世の中の関心が高い省エネ関連についても調査を加えることにした。さらに，特許出願動向の調査結果を，光装置・機器の国内生産額推移に現れた

IT

バブル崩壊現象との関連について考察を行った。

(2) 特許データベースと検索式

使用したデータベースは，日本の公開特許は自社の特許情報システムを用い，米国，欧州は

Micro Patent

を用いた。また，検索式として日本の場合は，光＊（通信＋伝送＋ネットワーク＋

LAN

＋

CATV

＋無線）＊

（システム＋方式）＊

H04

＊（

19940101

：

20020930

），米国，欧州は，

Optical AND

（

Communication OR transmission OR network OR local area network OR LAN OR Cable television OR CATV

）

AND System

＊

OR Infrared communication system* AND H04 AND

（

19930101

：

20030930

）とした。

調査期間は

1995

年

1

月

1

日から

2004

年

9

月

30

日までの特許公開日としたが，米国については特許登録日を用いている点が異なっている。なお，

2004

年は

1

月１日ら

9

月

30

日までの

9

ケ月間の集計データであり，あくまでも参考データと考えて頂きたい。

2.1.2 年次推移と日米欧比較 (1) 日米欧の特許件数の年次推移

表

2.1.2.1

および図

2.1.2.1

に，日本公開特許，米国登録特許，欧州公開特許の年次推移を示す。

出願件数は日本が圧倒的に多く，次いで米国，欧州の順となる。また，日，米，欧ともに出願件数は年々増加傾向にあることが分かる。

表 2.1.2.1 出願件数年次推移 (調査期間 1995/1/1〜2004/9/30)

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004

日本公開特許

4392 4907 5355 6277 6997 8075 9658 11173 12531 10503

米国登録特許

895 1226 1097 1770 1853 1962 2204 2402 2934 2601

欧州公開特許

550 579 604 857 899 1089 1380 1483 1676 1383

(8)

0 2000 4000 6000 8000 10000 12000 14000

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 公開年

件数

日本米国欧州

図 2.1.2.1 出願件数年次推移 (調査期間 1995/1/1〜2004/9/30)

(2) 日本公開特許の出願人所在地別比較

表

2.1.2.2

および図

2.1.2.2

は，日本公開特許の出願人所在地別の件数およびその割合を示したものである。

欧米からの出願は

10

％以下と少なく

90

％近くは国内からの出願が占めている。昨年の調査と比べると国内が

5%

減り，米国が

4%

増加，その他中国・韓国が

1%

増加した。

表 2.1.2.2 日本公開特許の出願人所在地別件数

国籍日本出願人米国出願人欧州出願人その他

件数 69757 7649 1612 850

日本公開特許の出願人所在地別件数

87%

10% 2% 1%

日本出願人米国出願人欧州出願人その他

図 2.1.2.2 日本公開特許の出願人所在地別件数

(3) 米国登録特許の特許権者所在地別比較

表

2.1.2.3

および図

2.1.2.3

は，米国登録特許の特許権者所在地別の件数およびその割合を示したものであ

(9)

る。米国特許権者が

68

％，日本特許権者が

25

％となっており，両者で

90

％以上を占めている。昨年の調査と比べると米国が

3%

増加，日本が

2%

減少，欧州が

1%

減少した。

表 2.1.2.3 米国登録特許の特許権者所在地別件数

国籍日本特許権者米国特許権者欧州特許権者その他

件数 4776 12837 1028 303

米国登録特許の特許権者所在別件数

25%

68%

5% 2%

日本特許権者米国特許権者欧州特許権者その他

図 2.1.2.3 米国登録特許の特許権者所在地別件数

(4) 欧州公開特許の出願人所在地別比較

表

2.1.2.4

および図

2.1.2.4

は，欧州公開特許の出願人所在地別の件数およびその割合を示したものである。

日本出願人が

40

％，米国出願人

35

％，欧州出願人は

22

％となっており分散傾向にある。昨年の調査と比べると欧州が

3%

増加，日本が

2%

減少，米国が

2%

減少，その他中国・韓国が

1%

増加した。

表 2.1.2.4 欧州公開特許の出願人所在地別件数

国籍日本出願人米国出願人欧州出願人その他

件数 4166 3727 2319 288

欧州公開特許の出願人所在地別件数

40%

35%

22% 3%

日本出願人米国出願人欧州出願人その他

図 2.1.2.4 欧州公開特許の出願人所在地別件数

(10)

2.1.3 企業別出願動向比較

(1) 日本公開特許の出願人ランキング

表

2.1.3.1

および図

2.1.3.1

は，日本公開特許件数上位

10

社の年次推移を示したものである。

例年どおりキヤノンの出願件数は他社に比べて著しく多く増加していることが分かる。一方，他社は

2002

年までは増加傾向にあったが，

2003

年には減少傾向に転ずる会社があることが特徴である。

表 2.1.3.1 日本公開特許の件数上位 10 社の年次推移 (調査期間 1995/1/1〜2004/9/30) 順位出願人 1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 合計

1 キヤノン 583 638 848 745 1101 1314 1466 1413 1605 1229 10942 2 ソニー 304 437 424 491 520 632 825 817 858 672 5980 3 松下電器産業 207 160 181 263 288 364 553 637 587 650 3890 4 リコー 247 274 315 287 270 312 403 553 467 597 3725 5 日本電気 206 202 285 416 393 526 442 406 277 170 3323 6 東芝 226 232 247 324 365 400 379 467 323 281 3244 7 日本電信電話 226 272 252 230 280 317 349 520 349 313 3108 8 富士通 236 248 275 256 322 269 247 270 334 284 2741 9 日立製作所 218 290 214 258 252 255 261 289 245 174 2456 10 シャープ 74 98 128 90 150 174 208 296 292 338 1848 その他 2752 3131 3458 4153 4677 5458 6816 5505 7194 5795 48939 合計 4392 4907 5355 6277 6997 8075 9658 11173 12531 10503 79868

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004

シャープ日立製作所

富士通

日本電信電話東芝

日本電気リコー

松下電器産業ソニーキヤノン 0

200 400 600 800 1000 1200 1400 1600 1800

件数

公開年

シャープ日立製作所富士通日本電信電話東芝

日本電気リコー松下電器産業ソニーキヤノン

図 2.1.3.1 日本公開特許上位 10 社の年次推移 (調査期間 1994/1/1〜2003/9/30)

(11)

(2) 米国登録特許の特許権者ランキング

表

2.1.3.2

および図

2.1.3.2

は，米国登録特許件数上位

10

例年どおり米国特許においてもキヤノンの出願件数が多く，上位

10

社のうち

5

社を日本企業が占めている。特徴的なところは，日本企業が概して

2002

年と比べ

2003

年に出願を減らしていることである。

表 2.1.3.2 米国登録特許の件数上位 10 社の年次推移 (調査期間 1995/1/1〜2004/9/30) 順位特許権者 1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 合計

1 キヤノン 48 56 46 82 88 91 91 124 112 99 834

2 ソニー 18 13 27 44 50 78 100 118 108 74 630

3 富士通 15 34 39 76 49 86 81 93 81 66 620

4

ﾙｰｾﾝﾄﾃｸﾉﾛｼﾞｰｽﾞ

29 22 27 57 48 48 71 65 99 61 527

5 IBM 24 66 76 47 4 22 62 53 82 77 513

6 日本電気 17 25 30 36 42 61 48 49 60 34 402

7 アルカテル 0 0 0 23 62 85 61 49 42 48 370

8 松下電器産業 16 13 17 33 17 36 43 49 70 48 342

9 ATT 18 38 25 29 13 30 35 38 59 46 331

10 モトローラ 9 29 26 23 24 47 42 39 25 31 295

その他 597 820 733 1231 1287 1358 1570 1725 2196 2017 14080

合計 895 1226 1097 1770 1853 1962 2204 2402 2934 2601 18944

19951996

19971998

19992000

20012002

20032004

モトローラ ATT

松下電器産業アルカテル日本電気

IBM

ﾙｰｾﾝﾄﾃｸﾉﾛｼﾞｰｽﾞ富士通

ソニーキヤノン

0 20 40 60 80 100 120 140

登録年件数

モトローラ ATT 松下電器産業アルカテル日本電気 IBM

ﾙｰｾﾝﾄﾃｸﾉﾛｼﾞｰｽﾞ富士通

ソニーキヤノン

(12)

(3) 欧州公開特許の出願人ランキング

表

2.1.3.3

および図

2.1.3.3

は，欧州公開特許件数上位

10

欧州特許についても上位

10

社のうち

6

社を日本企業が占めている。

表 2.1.3.3 欧州公開特許の件数上位 10 社の年次推移 (調査期間 1995/1/1〜2004/9/30) 順位出願人 1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 合計

1 ソニー 30 53 31 61 75 90 148 121 95 124 828 2 アルカテル 20 23 29 49 46 65 82 107 149 96 666

3 キヤノン 66 60 50 61 77 70 60 72 66 51 633

4 松下電器産業 14 11 21 44 53 42 93 61 61 74 474 5 ﾙｰｾﾝﾄﾃｸﾉﾛｼﾞｰｽﾞ 1 0 29 41 70 90 97 55 32 9 424

6 富士通 28 11 23 27 64 38 34 46 75 55 401

7 ATT 86 83 49 40 12 11 14 15 7 1 318

8 日本電気 10 17 34 34 52 44 49 30 17 16 303

9 ﾉｰﾃﾙﾈｯﾄﾜｰｸｽ 0 0 0 0 12 71 90 26 31 15 245

10 東芝 9 23 25 33 11 32 18 24 26 30 231

その他 316 351 344 528 502 626 843 926 1117 913 5977 合計 550 579 604 857 899 1089 1380 1483 1676 1383 10500

19951996199719981999

20002001

200220032004 東芝

ﾉｰﾃﾙﾈｯﾄﾜｰｸｽ日本電気

ATT 富士通

ﾙｰｾﾝﾄﾃｸﾉﾛｼﾞｰｽﾞ松下電器産業

キヤノンアルカテル

ソニー

0 20 40 60 80 100 120 140 160

件数

公開年

東芝

ﾉｰﾃﾙﾈｯﾄﾜｰｸｽ日本電気 ATT 富士通

ﾙｰｾﾝﾄﾃｸﾉﾛｼﾞｰｽﾞ松下電器産業キヤノンアルカテルソニー

図 2.1.3.3 欧州公開特許上位 10 社の年次推移 (調査期間 1995/1/1〜2004/9/30)

(13)

2.1.4 分野別の特許出願動向比較

(1) 注目技術分野の出願人別出願動向

光通信の分野において最近急成長を遂げているインターネット関連について，前回同様に国内出願件数上位

3

社のソニー，松下電器産業，東芝に注目して出願件数の推移を調べてみることにした。その結果を図

2.1.4.1

に示す。

3

社の出願件数は

2002

年までは増加傾向であったが，

2003

年は各社の特徴が現れる結果となった。すなわち，

2003

年はソニーが相変わらず増加傾向を示したが，松下と東芝は減少に転じたことが分かる。

0 50 100 150 200 250 300 350 400 450 500

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 公開年

件数

ソニー松下電器産業東芝

図 2.1.4.1 インターネット関連国内上位 3 社の出願件数推移 (調査期間 1995/1/1〜2004/9/30)

(2) 注目出願人の注目分野別出願動向

今回も光通信分野でインターネット関連について

IPC

分類のサブクラスのうち，デジタル情報の伝送

（

H04L

）と画像通信（

H04N

）分野の出願件数について分析を行なうことにした。

前回同様に

H04L

と

H04N

の分野について，先の国内上位

3

社の特許出願動向を調査した。図

2.1.4.2

に画像通信（

H04N

），図

2.1.4.3

にデジタル情報の伝達（

H04L

）の出願件数推移を示す。先のインターネット関連の出願傾向と同様に，

2003

年はソニーが相変わらず増加傾向を示したが松下と東芝は減少に転じていることが特徴的である。

(14)

画像通信（Ｈ０４Ｎ）の公開公報件数

0 50 100 150 200 250 300 350

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 公開年

件数

ソニー松下電器産業東芝

図 2.1.4.2 画像通信（H04N）の出願件数推移

(調査期間 1994/1/1〜2003/9/30)

デジタル情報の伝達（Ｈ０４Ｌ）の公開公報件数

0 20 40 60 80 100 120 140

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 公開年

件数

ソニー

松下電器産業東芝

図 2.1.4.3 デジタル情報の伝達（H04L）の出願件数推移

(調査期間 1994/1/1〜2003/9/30)

(3) 注目技術分野の省エネに関する出願動向

光通信分野全般について省エネに関する国内の出願動向を調査した。キーワードとしては「環境負荷低減」

「省エネルギー」「地球温暖化」「効率化」「低減率」「耐久率」「ペーパーレス」を使い年次推移を示したのが図

2.1.4.4

である。「効率化」に関する出願が他に比べて格段に多く，しかも相変わらず増加傾向が顕著であることが分かる。

(15)

「省エネ」に関する出願件数推移

0 100 200 300 400 500 600

公開年

件数

地球温暖化高耐久性ＣＯ２削減低減率環境負荷低減ペーパーレス省エネルギー効率化

地球温暖化 0 0 1 0 1 1 6 1 4 2

高耐久性 4 0 0 1 1 0 1 10 5 4

ＣＯ２削減 3 3 2 1 4 3 10 9 7 1

低減率 7 25 4 4 3 6 7 16 14 7

環境負荷低減 0 18 6 5 3 7 16 16 21 12

ペーパーレス 8 13 12 11 7 19 11 13 27 10

省エネルギー 14 36 9 24 29 52 72 90 72 49

効率化 93 142 120 140 166 220 269 327 387 265

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004

図 2.1.4.4 省エネに関する国内の出願件数推移 (調査期間 1995/1/1〜2004/9/30)

(4) 光通信分野の特許出願件数と光機器・装置の生産額の相関性

光通信技術の根幹となる光機器・装置の生産額を図

2.1.4.5

に示す。この図から国内生産額は

2001

年に

IT

バブル崩壊の影響を受け大幅に減少したことが分かっている。この経済的な変動が特許出願件数にどのように影響を及ぼすか興味が引かれるところである。特許公開日が出願日から

1

年半後になることから考えて，

2003

年の出願件数に注目した。先に示した図

2.1.2.1

の出願件数年次推移を見てみると光機器・装置の生産額とは全体的には特に相関性が無いことがわかる。しかし，各企業の出願件数を表

2.1.3.1

日本公開特許の件数について見てみると明らかに

2002

年から

2003

年にかけて公開件数が変動している企業が現れていることがわかる。これらの傾向は特にインターネット関連の調査でも顕著になっている。それらの企業は，

IT

バブルの崩壊を機会に特許戦略の方針を変更したのではないかと推測される。

(16)

光機器・装置の国内生産額推移

0 0.5 1 1.5 2 2.5 3 3.5 4 4.5 5

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003見込 2004予想

年次

生産金額（兆円）

図 2.1.4.5 光機器・装置の国内生産額推移 ^１）

2.1.5 まとめ

本調査の結果，光通信に関する全体的な特許出願は年々増加傾向にある。日本企業は相変わらず日米欧の特許出願件数上位

10

社のうち上位を占めている。光通信の省エネに関する調査では，「効率化」に関する出願件数が最も多く増加傾向が顕著である。光通信に関する全体的な出願件数と光機器・装置の国内生産額の関係を調べたところ相関性は一見して無いように思われるが，個々の企業について見ていくと

2002

年から

2003

年にかけて公開件数の変動が現れている。これらの特徴はインターネット関連の調査でも顕著になっている。それらの企業は，

IT

バブルの崩壊によって特許戦略の方針変更を行なったのではないかと推測される。

参考文献

(1)

2004(

平成

16)

年度光産業の動向，（財）光産業技術振興協会，

15-002-2(2004)

(17)

2.2 光メモリ

2.2.1 はじめに (1) 光メモリの動向

光メモリは，ハードディスクと並んで，コンピュータ周辺のデータ保存などに利用されている。また，光メモリは，音楽用

CD

，

MD

，

DVD

等としても大きな需要をもっている。更に，今後も

DVD

レコーダー，

デジタルビデオカメラ用の記録メディアなど利用分野が拡がっていくものと予測される。本調査では，光メモリに関する地域別，出願人別の特許動向をまとめた。また，エコロジーの観点及び光ディスク関連の生産額との対比の観点からも調査を行った。

日本特許は，

JPO

発行の

CD-ROM

を基にキヤノン株式会社内の検索システムを用いて検索を行った。米国特許は，

DERWENT

社のデータを基にキヤノン株式会社内の検索システムを用いて検索を行った。また，

欧州特許は，

Questel-Orbit

を用いて検索を行った。検索対象は，日本及び欧州は公開特許，米国は登録特許とした。検索の範囲は，日本特許が

2004

年

9

月

30

日公開分まで，欧州特許が

2004

年

11

月

24

日公開分まで，米国特許が

2004

年

10

月

19

日登録分までであった。検索には

IPC

による下記の検索式を用いた。

(G11B7)+(G11B11/10)

2.2.2 年次推移と日米欧比較 (1) 日米欧の特許件数の年次推移

表

2.2.2.1

に，日本公開特許，米国登録特許，欧州公開特許の年次推移を示す。また，図

2.2.2.1

にこれをグラフ化したものを示す。日本及び欧州は公開年，米国は登録年でそれぞれカウントした。日本公開特許は，

1995

年に一時的に約

3300

件に減少したが，その後は微増し，

2000

年以降は

4000

件以上で推移している。

一方，米国登録特許は，

1998

年に一時的に増加した後，

1999

年以降は

600

件代で推移している。また，欧州公開特許は，

1995

年を底とした後，増加に転じ，

2000

年以降は

500

件代で推移している。日米欧を比較すると，米国が登録件数であるという違いはあるが，日本の公開件数は米欧の

7

〜

8

倍に達しており，日本の特許出願数が飛びぬけて多いことがわかる。

表 2.2.2.1 日米欧の特許件数の年次推移

公開（登録）年 1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004

日本公開特許 3336 3585 3516 3522 3652 3982 4029 4683 4409 3016

米国登録特許 487 583 571 759 627 620 648 633 651 676

欧州公開特許 216 286 345 412 387 573 520 514 514 583

(18)

0 500 1000 1500 2000 2500 3000 3500 4000 4500 5000

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004

日本米国欧州

図 2.2.2.1 日米欧の特許件数の年次推移

(2) 日本公開特許の出願人所在地別比較

表

2.2.2.2

は，日本公開特許の内，国外出願人の所在地別の件数年次推移を示す。また，図

2.2.2.2

にこれをグラフ化したものを示す。日本公開特許における国外出願人の割合は数％に留まり，国内出願人の出願数が圧倒的多数を占めている。韓国出願人の件数は年々増加し，

2003

年には

100

件を越えている。米国・欧州出願人の件数は，緩やかな減少傾向にある。ただ，データを示していないが，

PCT

出願で日本を指定する件数は増加しており，全体的には光メモリに関する国外出願人の日本への出願は増加傾向にあるということができる。

表 2.2.2.2 日本公開特許の出願人所在地別件数（国外出願人）

公開年 1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004

米国出願人 52 50 36 46 51 25 38 49 28 23

欧州出願人 23 20 22 31 27 16 20 12 3 4

韓国出願人 47 54 53 86 74 73 69 84 114 88

0 20 40 60 80 100 120

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004

米国欧州韓国

図 2.2.2.2 日本公開特許の出願人所在地別件数（国外出願人）

(3) 米国登録特許の出願人所在地別比較

表

2.2.2.3

は，米国登録特許における出願人の所在地別の件数年次推移を示す。また，図

2.2.2.3

にこれを

(19)

グラフ化したものを示す。日本の出願人の件数が

70

〜

80

％の割合を占めているのに対し，米国内の出願人の件数は

10

数％〜

20

％弱に留まっている。欧州出願人の件数は

10

％に達していない。調査期間を通して各区分の割合は大きくは変わっていないが，

1997

年以降，ほとんどの年で韓国出願人の件数が欧州出願人の件数を上回っていることが注目される。

表 2.2.2.3 米国登録特許の出願人所在地別件数

登録年 1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 日本出願人 370 424 417 541 436 417 456 437 445 458

米国出願人 76 106 86 124 96 105 94 82 96 69

欧州出願人 23 16 23 24 39 45 38 32 34 45

韓国出願人 16 32 44 60 51 44 48 58 57 72

0 100 200 300 400 500 600 700 800

'95 '96 '97 '98 '99 '00 '01 '02 '03 '04

韓国欧州米国日本

図 2.2.2.3 米国登録特許の出願人所在地別件数図 2.2.2.4 欧州公開特許の出願人所在地別件数

(4) 欧州公開特許の出願人所在地別比較

表

2.2.2.4

は，欧州公開特許における出願人の所在地別の件数年次推移を示す。また，図

2.2.2.4

にこれをグラフ化したものを示す。日本の出願人の件数が

60

〜

70

％の割合を占めているのに対し，欧州の出願人の件数は

15

〜

25

％に留まっている。米国出願人の件数は

1998

年に

20

％弱であった他は，

10

〜

15

％で推移している。米国登録特許と同様に，韓国出願人の件数が着実に伸びてきていることがわかる。

表 2.2.2.4 欧州公開特許の出願人所在地別件数

公開年 1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 日本出願人 152 177 228 244 199 340 328 340 331 349

米国出願人 22 34 33 78 49 52 25 56 40 42

欧州出願人 32 52 52 61 72 102 76 69 59 147

韓国出願人 9 8 18 12 17 41 38 25 38 48

表

2.2.3.1

は，日本公開特許の件数上位

10

社の年次推移を示す。また，図

2.2.3.1

は出願人

1

〜

5

位の件数年次推移をグラフにしたもの，図

2.2.3.2

は出願人

6

〜

10

位の件数年次推移をグラフにしたものである。件数は公開年で区分している。ランキングは，

1995

年〜

2004

年の公開件の総数から決定した。リコーは，

1998

0 100 200 300 400 500 600

'95 '96 '97 '98 '99 '00 '01 '02 '03 '04

韓国欧州米国日本

(20)

表 2.2.3.1 日本公開特許の件数上位 10 社の年次推移

公開年 1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 計 1 ソニー 453 549 729 650 634 510 547 538 517 288 5415 2 松下電器産業 261 331 298 279 303 470 433 469 400 266 3510 3 リコー 291 203 179 146 174 311 342 738 677 406 3467 4 東芝 142 168 176 204 184 154 164 197 163 119 1671 5 日立製作所 162 190 146 154 135 124 164 149 138 114 1476 6 三洋電機 115 114 102 105 120 144 205 220 165 115 1405 7 シャープ 136 107 103 116 99 146 130 158 163 168 1326 8 キヤノン 217 266 108 85 103 86 61 55 60 60 1101 9 パイオニア 76 78 95 82 101 123 127 154 102 85 1023

# 日本電気 116 136 132 127 98 98 53 55 61 35 911

0 100 200 300 400 500 600 700 800

'95 '96 '97 '98 '99 '00 '01 '02 '03 '04

ソニー松下電産リコー東芝日立製作所

0 50 100 150 200 250 300

'95 '96 '97 '98 '99 '00 '01 '02 '03 '04

三洋電機シヤープキヤノンパイオニア日本電気

図 2.2.3.1 日本公開特許 1〜5 位の件数図 2.2.3.2 日本公開特許 6〜10 位の件数

(2) 米国登録特許の出願人ランキング

表

2.2.3.2

は，米国登録特許の件数上位

10

2.2.3.3

及び図

2.2.3.4

はこれをグラフにしたものである。ランキングは，

1995

年〜

2004

年の登録件の総数から決定した。

表

2.2.3.3

は，欧州公開特許の件数上位

10

2.2.3.5

及び図

2.2.3.6

はこれをグラフにしたものである。ランキングは，

1995

年〜

2004

年の公開件の総数から決定した。

表 2.2.3.2 米国登録特許の件数上位 10 社の年次推移

登録年 1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 計

1 ソニー 51 106 75 129 82 98 95 86 74 67 863

2 松下電器産業 42 41 46 53 49 56 69 58 65 75 554

3 パイオニア 48 33 41 45 45 41 57 46 65 31 452

4 日立製作所 23 29 24 26 23 19 38 47 45 34 308

5 SamSung 13 15 22 36 31 24 34 35 31 49 290

6 東芝 11 17 21 42 44 28 20 21 20 20 244

8 富士通 11 7 21 29 24 20 23 17 22 27 201

9 日本電気 6 18 26 40 36 19 15 9 7 11 187

7 キヤノン 30 42 23 34 16 10 3 4 0 0 162

# シャープ 27 19 19 18 12 6 14 12 13 19 159

(21)

図 2.2.3.3 米国特許 1〜5 位の件数図 2.2.3.4 米国特許 6〜10 位の件数

表 2.2.3.3 欧州公開特許の件数上位 10 社の年次推移

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 計

1 ソニー 29 53 51 42 30 52 84 30 43 68 482

2 松下電器産業 11 19 31 26 35 112 36 41 53 57 421

3 パイオニア 8 7 19 10 13 28 63 81 26 41 296

4 Koninklijke Philips 2 2 5 15 25 34 34 17 37 74 245

5 ＳａｍＳｕｎｇ 5 0 15 12 17 32 34 22 29 33 199

6 リコー 1 5 5 11 6 8 6 25 31 27 125

7 Deutsche Thomso 3 7 4 11 20 15 14 2 17 22 115

8 富士通 7 4 9 11 18 24 6 10 6 7 102

8 東芝 8 13 24 16 4 0 7 10 3 14 99

10 キヤノン 28 16 7 7 4 2 0 2 1 0 67

図 2.2.3.5 欧州特許 1〜5 位の件数図 2.2.3.6 欧州特許 6〜10 位の件数

2.2.4 分野別の特許出願動向

光メモリの将来技術であるホログラムメモリと近接場光メモリの出願動向について調査を行った。検索は下記条件に基づきキヤノン株式会社内の検索システムを用いて行った。

期間：

1995

年

1

月

1

日〜

2004

年

9

月

30

日ホログラムメモリ：

(G11B7/0065){IPC}

0 20 40 60 80 100 120 140

'95 '96 '97 '98 '99 '00 '01 '02 '03 '04

ソニー松下電産パイオニア日立製作所 SamSung

0 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50

'95 '96 '97 '98 '99 '00 '01 '02 '03 '04

東芝キヤノン富士通日本電気シャープ

0 20 40 60 80 100 120

'95 '96 '97 '98 '99 '00 '01 '02 '03 '04

ソニー松下電産パイオニア Philips Samsung

0 5 10 15 20 25 30 35

'95 '96 '97 '98 '99 '00 '01 '02 '03 '04

リコー Thomson 富士通東芝キヤノン

(22)

推移を示す。オプトウエアの件数は漸増傾向にあるが，全体的には

2001

〜

2002

年をピークに沈静化している様子が伺える。

表 2.2.4.1 ホログラムメモリの日本公開特許件数上位 10 社の年次推移

公開年 1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 計

1 オプトウエア 0 0 0 0 0 0 2 5 18 11 36

2 日本電信電話 0 0 0 0 0 1 10 5 8 8 32

3 日本ビクター 0 0 0 0 0 7 13 1 1 0 22

4 ソニー 0 0 0 0 0 2 1 3 1 6 13

5 富士ゼロックス 0 0 0 0 0 2 8 2 1 0 13

6 東芝 0 0 0 0 0 0 1 3 1 1 6

7 パイオニア 0 0 0 0 0 2 2 4 3 2 13

8 大宇エレクトロニクス 0 0 0 0 0 0 0 0 3 0 3

9 松下電器 0 0 0 0 0 0 0 1 1 3 5

10 TDK 0 0 0 0 0 0 0 0 0 3 3

0 2 4 6 8 10 12 14 16 18 20

'95 '96 '97 '98 '99 '00 '01 '02 '03 '04

オプトウエア日本電信電話日本ビクターソニー富士ゼロックス東芝パイオニア大宇エレクトロニクス松下電器 TDK

図 2.2.4.1 ホログラムメモリの日本公開特許件数上位 10 社の年次推移

表

2.2.4.2

及び図

2.2.4.2

は，過去

10

年間における近接場光メモリの日本公開特許件数上位

10

社の年次推移を示す。ホログラムメモリと同様に

2001

〜

2002

年をピークに沈静化している様子が伺える。

表 2.2.4.2 近接場光メモリの日本公開特許件数上位 10 社の年次推移

公開年 1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 計

1 リコー 4 0 2 0 0 16 19 40 19 15 115

2 ミノルタ 0 0 0 0 0 41 45 15 5 3 109

3 旭光学工業 0 0 0 0 66 9 0 0 0 0 75

4 ソニー 0 0 1 1 1 10 18 45 5 11 92

5 東ソー 0 0 0 0 2 9 23 7 5 0 46

6 日立製作所 3 0 4 6 6 4 2 10 3 3 41

7 東芝 0 0 0 1 6 6 12 9 4 3 41

8 富士ゼロックス 0 0 0 0 1 10 11 4 9 4 39

9 日立マクセル 0 0 1 3 4 7 5 0 3 4 27

10 キヤノン 0 0 1 2 2 8 2 7 1 4 27

(23)

0 10 20 30 40 50 60 70

'95 '96 '97 '98 '99 '00 '01 '02 '03 '04

リコーミノルタ旭光学工業ソニー東ソー日立製作所東芝富士ゼロックス日立マクセルキヤノン

図 2.2.4.2 近接場光メモリの日本公開特許件数上位 10 社の年次推移

(2) エコロジーに関するキーワードが記載された出願の動向

キーワードとして「リサイクル」，「環境保護」，「高耐久」，「省エネ」，「省資源」を選択し，下記の検索式を用いて日本公開特許の全文検索を行った。

(G11B7)+(G11B11/10)

＊キーワード

図

2.2.4.3

に，キーワード別の公開件数の年次推移を示す。上記キーワードが明細書中に記載された公開件数の総数は

1994

年以来増加傾向にある。キーワード別では高耐久のキーワードが記載された日本公開特許件数が

2000

年以降漸増している。

0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 100

'95 '96 '97 '98 '99 '00 '01 '02 '03 '04

リサイクル環境保護高耐久省エネ省資源総数

(24)

(3) 光ディスク関連の生産額と出願動向

表

2.2.4.3

は光ディスク関連の年間生産額

[

2004(平成 16)年度光産業の動向，（財）光産業技術振興協会から引用

]

と特許公開件数の推移を示す。図

2.2.4.4

はこれをグラフ化したものである。光ディスク媒体の生産額は漸増しているが，光ディスク装置の生産額は減少傾向にある。光ディスク媒体の生産額の増加は，追記型の

CD-R

，

DVD-R

及び書換型の

DVD-RAM

，

DVD+RW

，

DVD-RW

の生産量増加の寄与が大きいものと考えられる。また，公開特許件数は

4000

件代で推移しており，ほぼ横ばいである。

表 2.2.4.3 光ディスク関連の生産額推移と公開特許件数の推移 2002（実績） 2003（見込） 2004（予測）

870,027 838,362 857,531

再生専用 547,588 511,621 522,950

記録型 314,851 318,768 326,730

71,544 79,196 88,648

追記型 (C D -R /D V D -R 等 ) 33,901 37,962 40,997 書換型 (M O /M D /D V D -R A M 等 37,643 41,234 47,651

全体 (百万円 ) 994,435 962,506 993,354

日本公開特許件数 4,683 4,409 3,016

光ディスク装置 (百万円 ) 光ディスク媒体 (百万円 )

0 200000 400000 600000 800000 1000000 1200000

'02（実績） '03（見込） '04（予測）

生産額（百万円）

0 1000 2000 3000 4000 5000

公開件数

全体(百万円)

光ディスク装置(百万円) 光ディスク媒体(百万円) 日本公開特許件数

図 2.2.4.4 光ディスク関連の生産額と公開特許件数の推移

2.2.5 まとめ

日米欧のいずれの地域においても，日本企業の出願が大きな割合を占めて入るのはここ

10

年変わらない傾向である。また，光メモリの将来技術であるホログラムメモリ，近接場光メモリの特許公開件数は

2001

〜

2002

年をピークに沈静化している。また，光ディスク関連の生産規模，日本公開特許件数はほぼ横ばいで推移している。

(25)

2.3 ディスプレイ

2.3.1 はじめに

(1) ディスプレイの産業範囲

「ディスプレイ」は，ディスプレイ全般（液晶ディスプレイ，プラズマディスプレイ，プロジェクションディスプレイ等）の日米欧の特許動向と，フラットディスプレイのうち

LCD

と

PDP

を調査した。

日本特許は日本特許庁発行の

CD-ROM

，米国特許および欧州特許は

MicroPatent

を用いて検索を行った。

検索対象は，日本および欧州は公開特許，米国は登録特許とした。検索の範囲は，日本特許および欧州特許は

1995

年

1

月

1

日から

2004

年

9

月

30

日までに公開されたもの，米国特許は

1995

年

1

月

1

日から

2004

年

9

月

30

日までに登録されたものとした。

検索は，二年前の調査に用いたものと同様，下記の

IPC

を用いた。即ち，ディスプレイの要素技術それ自体は含まない。

IPC

：（

G09F9?+G09G1?+G09G3?+G09G5?+H01J17/49

）なお，

IPC

に

?

を付したものは，いずれも下位分類を含む。

2.3.2 年次推移と日米欧比較

(1) 日米欧の特許件数の年次推移と出願人の所在地別比較

表

2.3.2.1

，図

2.3.2.1

に，日本公開特許，米国登録特許，欧州公開特許の件数の年次推移を示す。日本公開特許は

90

年代から

2003

年にかけて増加したが

2004

年に減少に転じた。一方，米国登録特許は

95

年に件数では日本の

1/10

だったのが

03

年に

1/3

まで順調に増加している。欧州公開特許はさらに少ないが，

95

年から

04

年に掛けて増加し，倍増している。

表 2.3.2.1 日米欧の特許件数の年次推移

公開年

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004

日本公開特許

4835 4925 5649 6376 7141 7369 7906 7665 6035 4200

米国登録特許

513 644 763 1183 1140 1292 1510 1723 2033 1758

欧州公開特許

226 285 281 334 337 434 471 529 587 596

0 1000 2000 3000 4000 5000 6000 7000 8000 9000

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 公開年

公開件数

日本公開特許

米国登録特許

欧州公開特許

(26)

(2) 日本公開特許の出願人所在地別件数

表

2.3.2.2

に，日本公開特許での外国の出願人所在地別の年次推移を，図

2.3.2.2

にグラフ化したものを示す。日本公開特許においては国内出願人が圧倒的多数を占めており，外国出願人による件数比率は

95

年には

5

％程度であったが，

04

年には

10

％まで増加している。

外国出願人の中では，

2000

年までは米国が多かったが，近年では韓国や台湾の出願人が件数を伸ばしてきており，欧州と米国は低落傾向にある。

表 2.3.2.2 日本公開特許の出願人所在地別件数（日本国内の出願人を除く）

公開年

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004

米国出願人

147 148 148 203 148 130 122 104 92 79

欧州出願人

40 44 46 70 73 78 72 54 39 27

韓国出願人

21 32 71 130 100 114 133 185 196 211

中国出願人

1 0 0 0 0 4 0 0 0 0

台湾出願人

8 6 9 8 11 15 29 80 40 88

その他

10 14 7 11 3 8 11 9 25 3

図 2.3.2.2 日本公開特許の出願人所在地別件数

(3) 米国登録特許の出願人所在地別件数

表

2.3.2.3

に，米国登録特許での外国の出願人所在地別の年次推移を，図

2.3.2.3

にグラフ化したものを示す。

米国登録特許においては米国出願人が約

50

％を占めており，この比率は

10

年間ほぼ一定である。次いで日本出願人による比率が

36

〜

42

％となっている。またここでも欧州と韓国の出願人が増加し拮抗してきた。台湾出願人がこれに続いて増加している。

表 2.3.2.3 米国登録特許の出願人所在地別件数

登録年

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004

日本出願人

190 251 322 472 430 459 538 645 776 631

米国出願人

266 342 366 575 549 638 723 752 944 813

欧州出願人

45 37 54 83 83 104 100 152 133 111

韓国出願人

8 11 16 43 67 72 122 128 126 122

中国出願人

3 0 2 0 0 1 1 1 0 2

台湾出願人

0 0 0 1 1 9 15 33 41 56

その他

1 3 3 9 10 9 11 11 11 23

0 100 200 300 400 500

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 公開年

公開件数

その他

台湾出願人

中国出願人

韓国出願人

欧州出願人

米国出願人

(27)

図 2.3.2.3 米国登録特許の出願人所在地別件数

(4) 欧州公開特許の出願人所在地別件数

表

2.3.2.4

に，欧州公開特許の出願人所在地別の年次推移を，図

2.3.2.4

にグラフ化したものを示す。欧州公開特許においては日本出願人の比率が多く，

90

年代後半から

2002

年にかけて増加していたが，

2003

年に減少に転じ，漸増している米国および欧州の出願人との差が縮まっている。ここ

5

，

6

年は欧州と米国は拮抗している。ここでも韓国の出願人が増加している。

表 2.3.2.4 欧州特許の出願人所在地別件数

公開年

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004

日本出願人

83 110 93 139 153 175 219 271 266 215

米国出願人

98 103 108 105 79 130 115 106 141 164

欧州出願人

41 61 67 82 99 120 119 118 136 169

韓国出願人

4 7 8 6 5 6 16 27 38 46

中国出願人

0 0 0 0 0 0 0 0 0 0

台湾出願人

0 0 0 0 0 0 0 0 0 0

その他

4 4 5 2 1 3 2 7 6 2

図 2.3.2.4 欧州特許の出願人所在地別件数 0

100 200 300 400 500 600 700

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 公開年

公開件数

その他台湾出願人中国出願人韓国出願人欧州出願人米国出願人日本出願人

0 500 1000 1500 2000 2500

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 登録年

登録件数

その他

台湾出願人

中国出願人

韓国出願人

欧州出願人

米国出願人

日本出願人

(28)

表

2.3.3.1

に日本公開特許の件数で上位

10

社の件数の年次推移を示す。上位

10

社は

2003

年での出願／

登録件数で決定した。また，図

2.3.3.1

日本公開特許の件数上位社の年次推移から，日本においては，年間

100

〜

400

件程度の出願を行う，比較的多数の企業の中から，

500

〜

800

件の出願を行う松下とセイコーエプソンが抜け出たことが分かる。上位

10

社の顔ぶれは

2

年前と変わらない。時期別に見ていくと，

90

年代中盤においては，上位

5

社の出願件数は拮抗しつつ増加していたが，

90

年代後半から

2000

年過ぎにかけて件数を減らす企業が相次ぎ，横這いないし増加しているのはセイコーエプソンのみである。

2000

年以降トップだった松下は

2002

年以降減少しており，

2004

年はセイコーエプソンに抜かれたようである。

(2) 米国登録特許の出願人ランキング

表

2.3.3.2

に米国登録特許の件数で上位

10

社は

2003

年での出願／登録件数で決定した。また図

2.3.3.2

米国登録特許の件数上位社のうち，日本企業が

6

社を占め優勢であるが，トップのＩＢＭのみならず，フィリップス・マイクロソフト・ＬＧといった外国企業も件数を伸ばしている。年次推移からは，

90

年代はこれらの企業が

20

〜

70

件の出願件数で集団を形成していたが，

2001

年以降ＩＢＭが急激に増加し

2003

年には

2

位の

3

倍近い

200

件弱の権利を獲得している。日本企業ではソニー，セイコーエプソン，キヤノンが健闘している。

表

2.3.3.3

に欧州公開特許の件数で上位

10

社は

2003

年での出願／登録件数で決定した。また図

2.3.3.3

欧州公開特許の件数上位社のうち，日本企業が

6

社を占めており，続いて欧州企業

2

社，韓国企業

2

社である。年次推移として，各社ともそれまでせいぜい

20

件だった出願数が，

2000

年を境に

30

〜

90

件まで増加しており，欧州の重要性が高まったことを窺わせる。特に松下，

Philips

が急激に増加している。

表 2.3.3.1 日本公開特許の件数上位社の年次推移

公開年

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004

松下電器産業

231 197 291 362 451 529 656 880 652 254

セイコーエプソン

97 80 104 172 260 401 564 579 548 607

ソニー

130 246 216 375 450 394 374 402 357 195

シャープ

238 194 210 218 256 230 397 397 313 269

東芝

225 189 248 262 333 243 295 314 242 136

日立製作所

241 217 262 278 303 322 341 275 211 79

三洋電気

94 122 155 130 191 147 204 184 205 109

キヤノン

241 298 335 289 381 488 254 238 201 131

半導体エネルギー研

14 30 39 30 38 112 192 231 142 100

日本電気

143 139 146 190 187 245 193 109 82 49

(29)

0 200 400 600 800 1000

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 公開年

公開件数

松下電器産業セイコーエプソンソニー

シャープ東芝日立製作所三洋電気キャノン

半導体エネルギー研日本電気

図 2.3.3.1 日本特許の件数上位社の年次推移

表 2.3.3.2 米国登録特許の件数上位社の年次推移

公開年

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004

ＩＢＭ

20 31 32 57 54 46 59 132 191 86

フィリップス

0 0 0 0 0 0 0 49 68 52

ソニー

11 20 23 33 34 47 56 72 67 47

4 4 9 14 25 13 33 47 66 55

キヤノン

15 36 56 75 54 53 57 63 64 56

日本電気

11 13 15 19 23 49 42 43 61 35

日立製作所

16 14 35 33 32 35 32 52 56 36

マイクロソフト

5 8 12 16 12 6 22 27 50 52

ＬＧ

3 5 20 18 36 44 43 25

富士通

11 19 16 27 26 37 35 32 42 29

0 50 100 150 200

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 登録年

登録件数

ＩＢＭフィリップスソニー

セイコーエプソンキャノン

日本電気日立製作所マイクロソフトＬＧ

富士通

図 2.3.3.2 米国特許の件数上位社の年次推移

(30)

表 2.3.3.3 欧州公開特許の件数上位社の年次推移

公開年

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004

ＰＨＩＬＩＰＳ

3 0 1 3 2 0 36 30 48 72

松下電器

1 4 11 13 17 6 37 89 40 37

0 5 7 12 15 10 20 25 34 21

富士通日立プラズマ

0 0 0 0 0 0 8 27 30 12

富士通

5 0 9 11 20 4 14 10 26 13

パイオニア

0 1 2 3 6 3 6 16 26 35

三星

5 3 5 2 5 2 9 13 20 29

ＬＧ

0 0 1 3 1 0 4 11 19 19

トムソン

0 0 0 0 0 1 2 16 19 26

ソニー

8 17 6 6 17 7 21 17 19 24

0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 100

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 公開年

公開件数

ＰＨＩＬＩＰＳ松下電器セイコーエプソン富士通日立プラズマ富士通

パイオニア三星ＬＧトムソンソニー

図 2.3.3.3 欧州公開特許の件数上位社の年次推移

2.3.4 分野別の特許出願動向

注目分野としてここでは

LCD（液晶）と PDP（プラズマ）を取り上げる。LCD，PDP

の

IPC

としては下記のものを用いた。

LCD：G09F9/35?+G09G3/36 PDP：H01J17/49?+G09G3/28?

(1) 注目技術分野別出願動向

表

2.3.4.1

に

LCD

の日米欧の件数推移を，表

2.3.4.2

に

PDP

の日米欧の件数推移を示す。また，図

2.3.4.1

および図

2.3.4.2

にそれぞれをグラフ化したものを示す。

LCD

関連出願は日本が圧倒的に多く，

03

年で比較して米国の

7

倍，欧州の

15

倍近い。年次推移では米国および欧州が徐々に増加させているのに対し，日本は

99

年，03年に小さなピークがあるが，日本の優位は変わらない。

PDP

95

年当時は

LCD

の

1/6

程度の

174

件であったが，03年には

1/4

程度の

667

件まで増加してきた。地域別では

95

年当時は日本がダントツに多かったが，徐々に欧米が件数を増し，

03

年では米国の

1.6

倍，欧州の

2

倍まで差を縮めている。年次推移では米国・欧州が徐々に増加させて

(31)

いるのに対し，日本は

99

年，

03

年に小さなピークがあって横這いか僅かに減少気味である。このままでは早晩，日本は米国・欧州に追いつかれるものと思われる。

表 2.3.4.1 LCD に関する日米欧の特許件数の年次推移

公開年

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004

日本公開特許

909 922 895 1262 1393 1210 1254 1608 2007 1162

米国登録特許

104 110 159 246 211 270 282 259 282 252

欧州公開特許

72 117 99 99 91 105 104 124 133 124

表 2.3.4.2 PDP に関する日米欧の特許件数の年次推移

公開年

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004

日本公開特許

153 223 199 325 343 339 273 294 319 224

米国登録特許

11 16 24 46 58 94 117 177 195 136

欧州公開特許

10 27 34 60 76 94 107 135 153 122

0 500 1000 1500 2000 2500

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 公開／登録年

公開／登録件数

日本公開特許

米国登録特許欧州公開特許

図 2.3.4.1 LCD 関連出願の日米欧の特許件数の年次推移

0 50 100 150 200 250 300 350 400

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 公開／登録年

公開／登録件数

日本公開特許米国登録特許欧州公開特許

図 2.3.4.2 PDP 関連出願の日米欧の特許件数の年次推移

(32)

表

2.3.4.3

に

LCD

に関する日本公開特許件数上位

10

社の件数推移を，表

2.3.4.4

に

PDP

に関する日本公開特許件数上位

10

社の件数推移を，それぞれ示す。また，図

2.3.4.3

，図

2.3.4.4

にそれぞれをグラフ化したものを示す。

LCD

の分野では松下，セイコーエプソン，シャープが上位

3

社であるが，これ以外の企業では，オプトレックス，三星電子が近年健闘し，件数を増やしている。

表 2.3.4.3 LCD に関する日本公開特許件数上位 10 社の件数推移

公開年

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 1

松下電器産業

49 45 83 106 116 111 132 278 287 51 2

46 47 49 76 104 114 146 182 259 191 3

シャープ

121 118 96 104 111 87 145 134 183 152

4

東芝

65 49 76 110 121 66 74 102 121 40

5

日立製作所

66 61 70 55 81 90 71 87 121 29

6

ソニー

48 92 63 134 151 81 59 79 91 62

7

オプトレックス

6 11 4 10 7 10 9 17 64 16

8

三洋電機

34 55 37 35 62 33 40 60 54 45

9

カシオ計算機

103 74 56 71 41 54 34 28 49 27

10

三星電子

2 6 12 5 9 8 10 43 40 52

0 50 100 150 200 250 300 350

1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 公開年

公開件数

松下電器産業セイコーエプソンシャープ東芝日立製作所ソニーオプトレックス三洋電機カシオ計算機三星電子

図 2.3.4.3 LCD 関連出願の日本公開特許件数上位 10 社の件数推移

次に，

PDP

の分野では松下が突出しており，パイオニア，富士通が続いている。（パイオニア，富士通は複数の企業に分かれており，これらを合算すると

2

位

3

位と見られる。）

90

年代後半に出願件数の多かった三菱は，やや後塵を配している。またエントリーの遅かった韓国企業のＬＧと三星がランクインしており，

件数を増やしている。

以上の結果から，

LCD

と

PDP

の両立戦略を取っている松下，

LCD

にシフトしたシャープ，セイコーエプソン，

PDP

に特化したパイオニア，富士通という構図が浮かび上がる。

光技術に関する特許動向調査報告書

2004FY-003-3