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シミュレーションによる集積回路設計 ーデバイスモデリングの重要性ー

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(1)

2.RF-MOSFETモデリング

群馬大学 大学院 理工学府 電子情報部門

客員教授 青木 均

2015/6/25(16:00~17:30)

(2)

アジェンダ

• クロックスピードと周波数の関係

• RF CMOS回路設計に要求される課題と技術

• RF CMOSデザイナのためのSパラメータの基礎

• RF MOSFETのSパラメータ測定

• 寄生素子のDe-embedding手法

• BSIM3 / 4によるマルチフィンガーMOSFETのモデ

リング

2

(3)

クロックスピードと周波数の関係

(4)

最近のプロセッサークロックスピード

Pentium 3GHz Celeron 2GHz PA RISC 1GHz PowerPC 1.5GHz UltraSPARC 1GHz Athlon 2.4GHz

GHz時代

RFの周波数帯

2GHzクロック例

4

(5)

DC, CVのみによる従来の

CMOSモデリング

RF対応CMOSモデリング

出力電圧[V]

時間[ns]

測定値

インバータ単体でのモデリング比較

5

(6)

DC, CVのみによる従来の

CMOSモデリング

RF対応CMOSモデリング

出力電圧[V]

時間[ns]

リングOSCでのモデリング比較

6

(7)

立ち上がり時間と周波数の関係

Fc

Trise

0 35

.

10%から90%までの 立ち上がり時間 Fc=350 MHz 3dB down Trise = 1 ns

1次RC回路を例

にとって解析

立ち上がり部に

最も高い周波数

成分が含まれる

7

(8)

サイン波形によるクロック波形の考え方

sin(ω⋅ t)

sin(ω⋅ +t) sin(3⋅ ⋅ω t) 3

sin(ω⋅ +t) sin(3⋅ ⋅ω t) + sin( ⋅ ⋅ω t) 3

5 5

実際の2GHzクロック例

(9)

フーリエ変換によるクロック波形の考え方

時間領域波形

フーリエ変換

周波数領域スペクトラム

( )

j

x

( )

t

e

dt

X

ω

jωt ∞ ∞ −

=

基本波 第3高調波 第5高調波 第7高調波

方形波

偶数の高調波が存在すると時間軸の波形はどうなるか?

9

(10)

クロックスピードと周波数の関係

• 実際のクロックスピードよりも高い周波数

成分まで評価する必要がある

• どこまでの周波数を評価するかは解析精

度、速度、アプリケーションに依存する

10

(11)

RF CMOS回路設計に要求される課題

と技術

(12)

RF CMOS回路の用途

無線LAN

Bluetooth

携帯電話

•CMOSプロセスを使えるため安価で小型

•微細化に伴い遮断周波数は50GHzを超えてきた

•50GHz動作も可能

5GHz帯無線LAN

回路例

12

(13)

RF CMOS回路設計に要求される課題と技術

Sパラメータ

測定、解析

回路シミュレーション

•周波数領域解析

•インピーダンスマッチング

•低雑音

•回路の安定化(発振防止)

•高精度設計

•設計の効率化

•低消費電力化

•小型化

•歩留まり向上

デバイスモデリング

RF CMOSモデリング

回路技術

13

(14)

RF CMOSに追加で必要な技術

• RF CMOS回路設計に要求される技術

• Sパラメータ測定と解析

• RF CMOSモデリング

(BSIM3 / BSIM4 / (BSIM6)など)

(15)

Sパラメータ測定と解析

(16)

Sパラメータ測定と解析

• Sパラメータの基礎

• 高周波MOSFETのSパラメータ測定例

• 寄生素子のDe-embedding手法

(17)

Sパラメータを使用する理由

• 周波数領域における代表的なパラメータ

• Y, Z, Hパラメータは開放、短絡条件のため発振しや

すく測定

が困難である

• 概念的に理解しやすい

• ベクトルネットワークアナライザにて測定が容易に

おこなえる

• パラメータ変換が容易におこなえる

• RFの設計、解析、評価において必要不可欠である

17

(18)

Sパラメータとは?

S

cattering Parameter(散乱パラメータ)

a

1

b

1

b

2

a

2

反射波

伝送波

伝送波

反射波

入射波

入射波

回路網

50 Ω

75 Ω

50 Ω

75 Ω

反射係数

伝送係数

Γ = b a 1 1 Γ = b a 2 2

a

1

= 0

a

2

= 0

τ

= b a 2 1

a

2

= 0

τ

= b a 1 2

a

1

= 0

18

(19)

Sパラメータの関係式

S

i j

i : 出力ポート

j : 入力ポート

b

b

s

s

s

s

a

a

1 2 11 12 21 22 1 2

 =

 ⋅

s

b

a

12 1 2

=

s

b

a

21 2 1

=

s

b

a

22 2 2

=

a

2

= 0

a

1

= 0

a

1

= 0

s

b

a

11 1 1

=

a

2

= 0

19

(20)

SパラメータとZパラメータの関係

(

) (

)

(

) (

)

(

) (

)

(

) (

)

(

) (

)

(

) (

)

Z

S

S

S

S

S

S

S

S

Z

S

S

S

S

S

Z

S

S

S

S

S

Z

S

S

S

S

S

S

S

S

n n n n 11 11 22 12 21 11 22 12 21 12 12 11 22 12 21 21 21 11 22 12 21 22 22 11 12 21 11 22 12 21

1

1

1

1

2

1

1

2

1

1

1

1

1

1

=

+

+

=

=

=

+

+

正規化されたZパラメータ

Z

Z

Z

Z

Z

Z

Z

Z

Z

Z

Z

Z

n O n O n O n O 11 11 12 12 21 21 22 22

=

=

=

=

実際のZパラメータ

20

(21)

SパラメータとYパラメータの関係

(

) (

)

(

) (

)

(

) (

)

(

) (

)

(

) (

)

(

) (

)

Y

S

S

S

S

S

S

S

S

Y

S

S

S

S

S

Y

S

S

S

S

S

Y

S

S

S

S

S

S

S

S

n n n n 11 22 11 12 21 11 22 12 21 12 12 11 22 12 21 21 21 11 22 12 21 22 11 22 12 21 11 22 12 21

1

1

1

1

2

1

1

2

1

1

1

1

1

1

=

+

+

+

+

=

− ⋅

+

+

=

− ⋅

+

+

=

+

+

+

+

正規化されたYパラメータ

Y

Y

Z

Y

Y

Z

Y

Y

Z

Y

Y

Z

n O n O n O n O 11 11 12 12 21 21 22 22

=

=

=

=

実際のYパラメータ

21

(22)

SパラメータとHパラメータの関係

(

) (

)

(

) (

)

(

) (

)

(

) (

)

(

) (

)

(

) (

)

H

S

S

S

S

S

S

S

S

H

S

S

S

S

S

H

S

S

S

S

S

H

S

S

S

S

S

S

S

S

n n n n 11 11 22 12 21 11 22 12 21 12 12 11 22 12 21 21 21 11 22 12 21 22 22 11 12 21 11 22 12 21

1

1

1

1

2

1

1

2

1

1

1

1

1

1

=

+

+

+

+

=

+

+

=

− ⋅

+

+

=

+

+

正規化されたHパラメータ

H

H

Z

H

H

H

H

H

H

Z

n O n n n O 11 11 12 12 21 21 22 22

=

=

=

=

実際のHパラメータ

22

(23)

Yパラメータと接地条件の関係

(

)

(

)

Y

Y

Y

Y

Y

Y

Y

Y

Y

Y

Y

Y

Y

G S S S S G S S G S S G S 11 11 12 21 22 12 12 22 21 21 22 22 22

=

+

+

+

= −

+

= −

+

=

(

)

(

)

Y

Y

Y

Y

Y

Y

Y

Y

Y

Y

Y

Y

Y

D S D S S D S S D S S S S 11 11 12 11 12 21 11 21 22 11 12 21 22

=

= −

+

= −

+

=

+

+

+

ソース接地

ゲート接地

ソース接地

ドレイン接地

23

(24)

[S]

50

と任意の負荷インピーダンスとの関係

[ ]

50 22 21 12 11 50

=

s

s

s

s

S

Z

S

Z

L

Γ

S

Γ

IN

Γ

OUT

Γ

L ΓS S S Z Z = − + 50 1 50 1 ΓL L L Z Z = − + 50 1 50 1 Γ Γ Γ IN L L S S S S = + ⋅ ⋅ − ⋅ 11 12 21 22 1 Γ Γ Γ OUT S S S S S S = + ⋅ ⋅ − ⋅ 22 12 21 11 1

24

(25)

電力利得とSパラメータの関係

トランスデューサ利得

動作利得

有能利得

G S S S S G S S G S S T S S L OUT L S IN S L L P S IN L L A S S L OUT = − − ⋅ ⋅ ⋅ − − ⋅ = − − ⋅ ⋅ ⋅ − − ⋅ = − − ⋅ ⋅ − − ⋅ = − − ⋅ ⋅ ⋅ − − 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 2 11 2 21 2 2 2 2 2 21 2 2 22 2 2 2 21 2 2 22 2 2 11 2 21 2 2 2 Γ Γ Γ Γ Γ Γ Γ Γ Γ Γ Γ Γ Γ Γ Γ Γ Γ Γ

G

A

=

G

T

(

Γ Γ

L

=

OUT

)

*

G

P

=

G

T

(

Γ Γ

S

=

IN*

)

複素共役時に最もパワーが伝達される

25

(26)

極座標

反射特性

伝送特性

無反射

無伝送

全反射

利得=1

反射係数

伝送係数

位相=0

位相=0

26

(27)

インピーダンス直交座標

+ R

- R

+ jX

- jX

誘導性

容量性

負性抵抗

27

(28)

スミスチャート

Z - Smith

Y - Smith

定抵抗円

定コンダクタンス円 定リアクタンス円 定サセプタンンス円 1 50 1 50 + − = Γ L L L Z Z 正規化インピーダンス 正規化アドミッタンス

28

(29)

拡大スミスチャート

反射係数1のスミスチャート

負性抵抗領域

(30)

動作電力利得円(G

P

Γ

L 平面

G

P

=15 dB

G

P

=10 dB

G

P

=5 dB

(

)

G S S S S S S S S P L L L L = ⋅ − − − ⋅ − ⋅         ⋅ − ⋅ = ⋅ − ⋅ 21 2 2 11 22 2 22 2 11 22 12 21 1 1 1 1 Γ ∆ Γ Γ Γ ∆ 2 22 2 2 21 2 2 1 1 1 1 L L IN S P S S G Γ ⋅ − Γ − ⋅ ⋅ Γ − Γ − =

G

P

=

G

T

(

Γ Γ

S

=

IN*

)

ΓS S S Z Z = − + 50 1 50 1

Γ

Γ

Γ

IN L L

S

S

S

S

=

+

11 12 21 22

1

L

Γ

* IN S

=

Γ

Γ

30

(31)

有能電力利得円(G

A

G

A

=15 dB

G

A

=10 dB

G

A

=5 dB

(

)

G S S S S S S S S A S S S S = ⋅ − − − ⋅ − ⋅         ⋅ − ⋅ = ⋅ − ⋅ 21 2 2 22 11 2 11 2 11 22 12 21 1 1 1 1 Γ ∆ Γ Γ Γ ∆

Γ

S

平面

2 2 2 21 2 11 2 1 1 1 1 OUT L S S A S S G Γ − Γ − ⋅ ⋅ Γ ⋅ − Γ − =

G

G

A

=

T

(

Γ Γ

L

=

OUT

)

* ΓL L L Z Z = − + 50 1 50 1 Γ Γ Γ OUT S S S S S S = + ⋅ ⋅ − ⋅ 22 12 21 11 1

Γ

S * OUT L

=

Γ

Γ

31

(32)

雑音円(NF)

Γ

S

平面

NF=1 dB

NF=2 dB

NF=3 dB

(

)

NF F Rn S opt S opt = + ⋅ ⋅ − − ⋅ + min 4 1 1 2 2 2 Γ Γ Γ Γ

Γ

S

NF

32

(33)

安定円(信号源側)

Γ

S

平面

反射係数1のスミスチャート

10 GHz

5 GHz

1 GHz

(

)

Γ ∆ ∆ ∆ ∆ S S S S S S S S S S S − − ⋅ − = − = ⋅ − ⋅ 11 22 11 2 2 12 21 11 2 2 11 22 12 21 * * S11 2 − ∆2 >0

の場合

安定円の外側が絶対安定領域

入力側で安定化するには信号源側の安定円を使用

Γ

S

33

(34)

高周波MOSFETのSパラメータ

測定例

(35)

測定系

GPIB

ベクトルネットワーク アナライザ 半導体パラメータ アナライザ

RFケーブル

Triaxialケーブル

35

(36)

高周波用プローブ

GS ( Ground - Signal ) タイプ

G

S

GSG ( Ground - Signal - Ground ) タイプ

G

S

G

2導体線路構造

コプレーナ線路構造

コプレーナ線路の電磁界解析例

TEM ( Transverse Electro Mognetic)

厳密には準 TEM モード

(37)

2ポートキャリブレーションの種類

• SOLT ( Short-Open-Load-Thru )

• TRL ( Thru-Reflect-Line )

• LRM ( Line-Reflect-Match )

• LRRM ( Line-Reflect-Reflect-Match )

TRLのアドバンス的なキャリ

ブレーション

伝統的なキャリブレーション

導波管、高周波のマイクロ

ストリップ系での標準的な

キャリブレーション

LRMの応用キャリブレーション

キャリブレーションに使用するスタンダードの

電気的特性を高精度に定義する必要がない

37

(38)

実際のウェハ上でのスタンダード

ISS

(

I

mpedance

S

tandard

S

ubstrate)

(39)

半導体デバイスのRF測定手法

•プローブの先端でキャリブレーション

(CAL後の基準面はプローブ先端)

SOLT

TRL

LRM

LRRM

•De-embedding手法の選択

•De-embedding TEGの設計、製作

•De-embedding処理

デバイスの特性

•フィードパターンの先端でキャリブレーション

(CAL後の基準面はフィードパターン先端)

TRL on Silicon

シリコン基板上での

キャリブレーション

De-embedding処理

39

(40)

シールドグランドと基準面

S

D

G

Sub

ポート1

ポート2

ゲート基準面

ゲートリング

シールドグランド

シールドグランド

M1

M1

M2

ドレイン基準面

40

(41)

デバイス測定用TEGレイアウトの例

AC的に 基板GNDを強化する必要あり 基準面 基準面 デバイスを特性化しやすい GSGパターンの設計が必要

41

(42)

OPEN TEG(GSGパッドのみ)

(43)

OPEN TEG

(44)

SHORT TEG

GND CENTER

(45)

THRU TEG

(46)

De-embedding手法の種類

①測定データベース法

長所:理想的にパッド、フィード、基板部のSパラメータを測定できればベストな手法

短所:測定データに頼りすぎて、誤った特性化をおこなう危険性あり

(過剰De-embedding ->負性抵抗、逆位相まわりなど)

安易なTEG設計をおこないやすい

②等価回路法(集中定数、分布定数、周波数依存型)

長所:理想的にパッド、フィード、基板部の特性化をできれば①と同等の精度を得ることが

できる

パッド、フィード、基板部の特性化情報、特性化手法を他に有効利用できる

①でうまくいかない場合の解析、評価、検証が可能

短所:パッド、フィード、基板部の

特性化にノウハウが必要

シリコン基板損失の影響をうけにくい設計ノウハウが必要

TEG設計時に特性化手法を考慮する必要あり(

特性化手法により必要なTEGが

異なる

46

(47)

Y

OPEN

+ Z

SHORT

De-embeddingの手法による比較

(データベース法 vs 等価回路法)

周波数:100MHz-13.5 GHz バイアス:Vd = 1V, Vg = 0.7 ~ 1.3 V デバイス:マルチフィンガーNch MOSFET

dB(S

11

)

データベース法

等価回路法

Phase(S

11

)

47

(48)

集中定数のみで構成した等価回路

Y

OPEN

Z

SHORT R11p R22p C22p C11p R11f L11f L22f R22f L12f R12f C12p R12p

48

(49)

RF CMOSモデリング

(50)

BSIM3 / 4によるマルチフィンガーMOSFETのモデリング

• RFモデリングで重要なポイント

– 直流特性での着目点

– ゲート抵抗

– NQS (Non-Quasi-Static)効果

– Extrinsic容量

– 基板ネットワーク

– 寄生インダクタンス

– RFノイズ

• RFアプリケーションでのデバイスモデリングフロー

• Sパラメータによる効果的な解析

• マルチフィンガーMOSFETのスケーラブルモデル

• BSIM4の主な新機能(BSIM3からの改良内容)

– マルチフィンガー構造に対応

– 改良型NQS(Non Quasi Static)モデル

– IIR(Intrinsic Input Resistance)モデル

(51)

直流特性での着目点

コンダクタンス特性

• 伝達コンダクタンス(g

m

)と出力コンダクタンス

(g

ds

)を正確にモデリング

• ACのSパラメータ特性を無理に測定データと

合わせようとすると,直流特性がずれてしま

う?????

51

(52)

直流特性での着目点

ドレイン電流の高次微分特性

BSIM4

short vg [E+0] i d.s [E -3 ] 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 1.2 short vg [E+0] g m .s [ E -3 ] 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 0.0 0.5 1.0 1.5 2.0 short vg [E+0] gm 2. s [E -3] 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 -5 0 5 10 15 short vg [E+0] gm 3. s [E -3] 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 -150 -100 -50 -0 50 100 short vg [E+0] g m 4.s [E +0 ] 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 -2.0 -1.5 -1.0 -0.5 0.0 0.5 1.0

1次

0次

2次

4次

3次

RFアナログでは,

少なくとも3次まで

連続が望ましい

52

(53)

直流特性での着目点

ドレイン電流の高次微分特性

BSIM6

vg [E+0] i d. s [E -6 ] 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 0 50 100 150 200 250 vg [E+0] g m .s [ E -6 ] 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 0 100 200 300 400 vg [E+0] g m 2. s [E -3 ] 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 -0.5 0.0 0.5 1.0 1.5 2.0 vg [E+0] g m 3. s [E -3 ] 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 -15 -10 -5 0 5 10 15 vg [E+0]

g

m4

.s [

E-3

]

0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 -300 -200 -100 -0 100 200

RFアナログでは,

少なくとも3次まで

連続が望ましい

1次

0次

2次

4次

3次

53

(54)

ゲート抵抗

L

W

f

シングルフィンガー

マルチフィンガー

cont cont sh f f

N

R

R

N

L

W

RG

+

=

N

f

: フィンガー数

R

sh

: シート抵抗

R

cont

: コンタクト抵抗

N

cont

: コンタクト数

54

(55)

NQS(Non-Quasi-Static)効果

Elmore NQSモデル

QSモデル

QS(Quasi-Static)モデルはトランジットタイム(τ)を表現していない

(56)

Extrinsic容量

フリンジング容量

オーバーラップ容量

(CGSO, CGDO)

接合容量

オーバーラップ容量

(CGBO)

Masanori Shimasue, Yasuo Kawahara, Takeshi Sano, and Hitoshi Aoki,

"An Accurate Measurement and Extraction Method of Gate to Substrate Overlap Capacitance," Proc. IEEE 2004 Int. Conference on Microelectronic Test Structures, pp. 293-296, March 2004.

(57)

基板ネットワーク

(a)

(b)

(c)

(58)

寄生インダクタンス

58

S

D

G

Sub

ポート1

ポート2

ゲート基準面

ゲートリング

シールドグランド

シールドグランド

M1

M1

M2

ドレイン基準面

寄生インダクタンス

(59)

RFノイズモデル

Correlation

Channel Noise

Induced Gate Noise

(60)

RFノイズ特性

Induced Gate Noise 特性

Channel Noise 特性

Noise Correlation 特性

(61)

RFアプリケーションでのデバイスモデリングフロー

61

モデリング用

TEG設計

モデリング用

TEG測定、評価

DC, CV測定

モデリング

Sパラメータ測定

De-embedding

小信号

ACモデリング

大信号

測定、評価

NG

DC, CV, AC

モデリング

OK

終了

(62)

Sパラメータによる効果的な解析

デバイス測定

De-embedding用

TEG測定

De-embedding

処理

デバイスのみの

Sパラメータ

マトリクス

変換

•トランジスタ動作時の高周波容量 •順方向拡散容量 •トランジットタイム •相互コンダクタンス •入力インピーダンス •出力インピーダンス •寄生抵抗 •基板抵抗 •自己発熱効果など

62

(63)

(

)

(

)

WR eff S bseff S gsteff DS

W

V

PRWB

V

PRWG

RDSW

R

+

+

=

6

10

1

φ

φ

DS R gsteff V 1

(

)

(

)

WR eff S bseff S gsteff DS

W

V

PRWB

V

PRWG

RDSW

RDSWMINI

R

+

+

+

=

6

10

1

1

φ

φ

BSIM3

BSIM4

rdsMod=0 Vgsteffに比例関係 Vgsteffに反比例関係 DS R gsteff V

高周波RDSモデリング精度

63

(64)

マルチフィンガーMOSFETの

構造と等価回路

M1:シールドGND

M2:ゲートリング

S G D G S G D G S

64

(65)

マルチフィンガーMOSFETのチャネル長

(66)

マルチフィンガーMOSFETの

スケーラブルモデル

.SUBCKT multi 11=D 22=G

RG 21 2 (-100.0m / finger^2) + (441.4 / finger) + (5.108)

RDS 31 3 ((49.23K / finger^2) + (7.692K / finger) + (115.5)) * 0.2e-6 / 0.18e-6

RSUB 4 0 1E-3

CGD 22 11 ( 1.00001E-019 * finger^2) + ( 1.091f * finger) + ( 1.00000E-019) CGS 22 3 ((-2.544a * finger^2) + ( 1.251f * finger) + (-1.102f)) * 0.2e-6 / 0.18e-6 CDS 1 31 ((-5.053a * finger^2) + ( 3.172f * finger) + (-10.00f)) * 0.18e-6 / 0.2e-6

LG 22 21 1E-012 LS 0 3 1E-13

LD 11 1 (-1.9291E-014 * finger) + (3.90408E-011)

M0 1 2 3 4 FingerDependency L=0.2e-6 W=2.5E-006 AD=1E-012 AS=2E-012 PD=3.3E-006 PS=6.6E-006

M1 1 2 3 4 FingerDependency L=0.2e-6 W=2.5E-006 AD=1E-012 AS=1E-012 PD=3.3E-006 PS=3.3E-006 M2 1 2 3 4 FingerDependency L=0.2e-6 W=2.5E-006 AD=1E-012 AS=1E-012 PD=3.3E-006 PS=3.3E-006 M3 1 2 3 4 FingerDependency L=0.2e-6 W=2.5E-006 AD=1E-012 AS=1E-012 PD=3.3E-006 PS=3.3E-006 M4 1 2 3 4 FingerDependency L=0.2e-6 W=2.5E-006 AD=1E-012 AS=1E-012 PD=3.3E-006 PS=3.3E-006 M5 1 2 3 4 FingerDependency L=0.2e-6 W=2.5E-006 AD=1E-012 AS=1E-012 PD=3.3E-006 PS=3.3E-006 M6 1 2 3 4 FingerDependency L=0.2e-6 W=2.5E-006 AD=1E-012 AS=1E-012 PD=3.3E-006 PS=3.3E-006 M7 1 2 3 4 FingerDependency L=0.2e-6 W=2.5E-006 AD=1E-012 AS=2E-012 PD=3.3E-006 PS=6.6E-006

.ENDS

(67)

H

21

モデリング結果

Vd = 1 V

Vg = 0.6 ~ 1.4 V

32フィンガー

64フィンガー

Measured

Modeled

8フィンガー

67

(68)

BSIM4の主な新機能

(BSIM3からの改良内容)

 ストレスモデル

 Well近接効果(Proximity Effect)モデル

 酸化膜厚(<3nm)以下のゲート・トンネル電流モデル

 Gate Induced D/S Leak(GIDL/GISL)電流モデル

 HaloドープまたはポケットインプラントによるDITS(Drain Induced

Threshold Shift)モデル

 高誘電体ゲート絶縁膜構造

 新モビリティモデル

 D/S非対称抵抗モデル

 D/S非対称接合ダイオード・モデル

 チャネル熱雑音モデルの改良

 マルチフィンガー構造に対応

 改良型NQS(Non Quasi Static)モデル

 IIR(Intrinsic Input Resistance)モデル

(69)

BSIM4 NQSモデル

•Elmore NQSモデル

BSIM3 v3.2 NQS Model改良版

NQSMOD

•IIRモデル

BSIM4で新しく追加

RGATE

MOD (0~3)

TR

NQSMOD (ON,OFF)

AC

NQSMOD (ON, OFF)

どちらもNQS効果を表

現するため同時には使

えない

マルチフィンガー対応

( )

( )

ωτ

j

t

Q

t

Q

nqs qs

+

=

1

69

(70)

BSIM4 IIRモデル(1)

ゲート抵抗無し

(RGATEMOD:OFF)

ジオメトリ依存型

ゲート抵抗モデル

IIR(Intrinsic Input Resistance)

(71)

BSIM4 IIRモデル(2)

ジオメトリ、バイアス依存型

ゲート抵抗モデル

ジオメトリ、バイアス依存

ノード分離型

ゲート抵抗モデル

71

(72)

BSIM4 基板ネットワークモデル

RBODY

MOD=0 (OFF)

RBODY

MOD=1 (ON)

フィンガー依存無し

(73)

BSIM4 D/S抵抗モデル

R

s

(V)

R

d

(V)

R

ds

(V)

RDS

MOD=0 (Internal R

ds

モード)

RDS

MOD=1 (External R

d

, R

s

モード)

73

(74)

BSIM4 接合ダイオードモデル

CV, IVモデル共、個別にパラメータ定義可能

•CVモデル

マルチフィンガー対応以外はBSIM3と同じ

•IVモデル

ブレークダウンモデルが追加

DIOMOD=1(BSIM3と同じ、収束性が良い)

74

(75)

BSIM4 チャネル雑音モデル

TNOI

MOD=0

BSIM3と近似

TNOI

MOD=1

Holistic Model

Induced Gate Noise同様,

部分的にチャネルノイズと相関

(76)

演習問題4

MOSFET

C

g

L

s

R

s

C

d

L

d

R

d

L

g

R

g

各寄生コンポーネントの値が既知で,全体のSパラメータが測定されたとき,

回路図中にある“MOSFET”のYパラメータを求めよう.ただしS<->Y<->Zの

変換は単にZ->Yのように表現する.

11

12

21

22

S

S

S

S

測定したSパラメータ

76

参照

Outline

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