PSによる中国特許調査2018

PATENTSCOPEによる中国特許調査

特許調査におけるPATENTSCOPEの活用

アジア特許情報研究会2018年度ワーキング資料

2018/12/12

アジア特許情報研究会

伊藤徹男

0

目

次

１．中国特許出願トピックス

２．PATENTSCOPE

1)検索と表示

2)検索（表記）異常例

3)IPCの欠落

4)出願人名、要約等の欠落

4)出願人名、要約等の欠落

３．中国特許調査まとめ

４．参考情報、参考資料

1

はじめに

アジアの特許情報がPATENTSCOPE(PS)に収録されたことを受け、

無料特許データベースとしてのPSが東アジアの特許調査ツールとして

商用データベースにどこまで迫れるか明らかすることを目的に検証

した。PSによるASEAN特許調査については別稿で紹介しているので

重複部分は極力除き、ここでは中国特許調査を続編として検証した。

PSでは、各国知財庁データベースには搭載されていないコマンド検索

（Advanced Search）も可能であり、履歴演算機能こそないが、各種演

2

（Advanced Search）も可能であり、履歴演算機能こそないが、各種演

算子を組み合せ、商用データベース同様、かなり複雑な検索も可能で

ある。

PSのページ内にはヘルプも用意され、WIPOから日本語マニュアルも

サポートされて初心者でも使いやすいものとなっている。

韓国特許その他の調査法も今回未解明に終わった機能と共に2019年

のワーキング事項としてペンディングとした。

１．中国特許出願トピックス

(CNIPA統計資料より作成)

800000 1000000 1200000 1400000 1600000 1800000 特許 実案 意匠

中国特許、実用新案の出願は急激な伸びを示しているが、

特許：内国出願件数の約２割は「公開」に至らない。

実用新案：内国出願件数の約３割は「登録」に至らない。

3 0 200000 400000 600000 出願年

出願番号の欠落

（特許）

中国の出願番号は出願日順に付与されている？

出願された全件が公開されていれば各セルは１００００件となるが、

方式審査不備などへのＯＡ未対応、公開前の自発取下げ（国内

優先権出願など）により１００００件にはならない。

異常にジャンプした番号付与もある。

出願密度

データベースから求めた公開・登録数を、異常ジャンプ分を除いて最大出

願番号を修正（仮出願数）して除したものを公開・登録収録率とした。

マーキング部は異常ジャンプ分修正年度。

出願番号付与ルールは？

分割出願

出願日順に番号が

付与されていない。

中国公開特許

法人共願個人は

法人に含む。

0 200,000 400,000 600,000 800,000 1,000,000 1,200,000 1,400,000 公開特許 法人 個人 7

内外国区別の

国省コード：

筆頭出願人のみ

公開年 0 200,000 400,000 600,000 800,000 1,000,000 1,200,000 1,400,000 公開年 公開特許 内国 外国

中国登録特許

0 200,000 400,000 600,000 800,000 1,000,000 1,200,000 1,400,000 登録特許 法人 個人 8 0 200000 400000 600000 800000 1000000 1200000 1400000 登録年 登録特許 内国 外国 登録年

中国特許・実案維持年限

内国人は３～６年

外国人は６～９年

満期まで維持は少ない

特許

中国特許庁 专利统计简报

内国人は１～４年

外国人は２～７年

満期まで維持は少ない

実案

http://www.sipo.gov.cn/tjxx/yjcg/201512/P020151231619398115416.pdf

9

出願数は膨大でも

権利維持されてい

る特許・実案は多く

ない。

中国早期公開特許

凡例中の数字は 出願から公開までの月数

_2018/6現在

出願から

6か月

以内公開

10

2012年8月～優先審査請求制度施行

2012年～2017年は出願総数の約半分が

出願から

6か月以内に公開となっている。

中国特許庁公表出願特許 2012年：652,777 2013年：825,136 2014年：928,177 2015年：1,101,864 2016年：1,338,503 全公開数 2012年： 595,413 2013年：735,319 2014年：823,448 2015年：967,753 2016年：1,069,614

中国早期公開特許

_2018/6現在

200,000 250,000 300,000 350,000 1 2 3 4 5 6 公開のピーク 4か月 4か月 4か月 6か月 5か月

凡例の数値は、出願から公開までの月数

11 0 50,000 100,000 150,000 出願年 6 7 8 9 10 11 12

２．PATENTSCOPE検索と表示

Fields Search

各国横断検索が可能

フィールド内では、AND, OR, NOT, NEARなどの演算子と括弧が利用できる。

フィールド内の入力は演算子、スペースを含め、最大100バイトまで。

PS Search Fields

OF: Office Code（PCT含む） NPCC: National Phase Office Code

CTR: Country（内国出願のみ） DS: Designated State

LGF: Filling Language LGP: Publication Language

ALLNUM: All Numbers and IDs

AN: Application Number AD: Application Date

WO: WIPO Publication Number DP: Publication Date

GN: Grant Number

NP: Prior Number PI: Prior All Data

PRIORPCTAN: Prior PCT Application Number PRIORPCTWO: Prior PCT WO Number

PRIORPCTWO: Prior PCT WO Number

PCN: Prior Country PD: Prior Date

NPA: National Phase All Date NPAN: National Phase Application Number PN: National Publicaton Number

NPED: National Phase Entry Date NPET: National Phase Entry Type

ALLNAMES: AllNames

PA: Applicant Name PAF: Main Applicant Name

PAA: Applicant All Data

AAD: Applicant Address AADC: Applicant Address Country

ANA: Applicant Nationality ARE: Applicant Residence

IN: Inventor Name INF: Main Inventor Name

PS Search Fields

EN_TI: English Title EN_AB: English Abstract

EN_CL: English Claims EN_DE: English Description

EN_ALLTXT: English Text FP: Front Page

IC: International Class ICF: Main International Class

IC_EX: Exact IPC code

ICI: International Inventive ICN: International N-Inventive IPE: International Preliminary Examination

ISA: International Search Authority ISR: International Search Report RPA: Legal Representative All Date

RP: Legal Representative Name RPF: Main Legal Rep Name

RCN: Legal Representative Country RAD: Legal Representative Address LI: Licensing availabillty

SIS: Supplementary Internatinal Search TPO: Thied Party Observation

CHEM: Chemical

Field Searchの検索項目にはないが、原語検索はAdvanced Searchで可能。 検索式例：ZH_ALLTXT:("三维打印") and DP:[2014 TO 2017]

ZHは中国の言語コードであり、要約、請求項などのテキストを検索するには国コード ではなく、言語コードを使う（韓国：KO、日本：JAなど）。

Advanced Search

Stem ON（デフォルト）で表記ゆれも抽出

「三维打印」を抽出するには”三维打印”と検索。

三维打印と検索すると「三维 and 打印」検索となる。

英語圏以外の特許・実用新案は、原語で収録されているため原語検索が必要。

検索式例：中国における3D printerの検索式例

((EN_ALLTXT:("three dimension* print*" or "3D print*") or ZH_ALLTXT:(“三维打印” or “三维 印刷” or “三维印花” or “立体打印” or “立体印刷” or “立体印花” or “立体列印” or “立体图像”

or “3D打印” or “３D打印” or “三D打印” or “3D列印” or “3D印刷” or “3D印花”)) or ((EN_ALLTXT:("three dimension*" or 3D) or ZH_ALLTXT:(三维 or 立体 or ３D or 3D)) and IC:(B29C67* or B33Y*))) and CTR:CN and DP:[2000 TO 2017]

検索例

英語検索

（ワイルドカード(*)の機能）

EN_TI:(3D print*) and CTR:CN and DP:[2000 TO 2017]

6952件

「3D print*」 ⇒ 「3D and print*」となる。

フレーズ検索は、 「“3D print”」とダブルクォーテーションを付ける。

EN_TI:(“3D print*”) and CTR:CN and DP:[2000 TO 2017]

5901件

“3D print*” ⇒ “3D print” or “3D printer” or “3D printing ” を拾う。

EN_TI:("3D *print*"not "3D print*") and CTR:CN and DP:[2000 TO 2017]

⇒ 3D bioprintingなどを抽出

ワイルドカード(*)で前方一致、中間一致、後方一致、前後一致が機能する。

16

ワイルドカード(*)で前方一致、中間一致、後方一致、前後一致が機能する。

Stem ON OFF

EN_TI:(“3D print”) and CTR:CN and DP:[2000 TO 2017]

3654

168

EN_TI:(“3D *print*”) and CTR:CN and DP:[2000 TO 2017] 5912

5912

Stem ON（語幹処理）で“3D print”では、 “3D printer”や“3D printing ”は拾うが、

“3D printable”などは拾わないので、 “3D *print*”（中間一致）のように

ワイルドカードで検索すると網羅性が上がる。

EN_TI:(printer not print) and CTR:CN and DP:[2000 TO 2017]

8332件

部分一致検索はできない。

検索例

中国語検索

ZH_TI:(三维打印) and DP:[2000 TO 2017]

690件

ZH_TI:(“三维打印”) and DP:[2000 TO 2017]

475件

ZH_TI:(三维打印*) and DP:[2000 TO 2017]

0件

ZH_TI:("三维打印*") and DP:[2000 TO 2017]

0件

ZH_TI:(“三维打印机” not “三维打印*”) and DP:[2000 TO 2017] 480件

ZH_TI:(“打印机” not “打印*”) and DP:[2000 TO 2017]

0件

中国語検索ではワイルドカード(*)が機能しないこともある。 ・・検証継続

17

ワイルドカード(*)が機能しないのは、ハングル、日本語も（２バイト文字？）。 KO_TI:"삼차원 프린터" 42 (three-dimensional printer)

KO_TI:"삼차원 프린터*" 0 JA_TI:"3D プリンタ" 103

JA_TI:"3D プリンタ*" 0

（2019年度の「PATENTSCOPEの検証」で各言語についても詳細に確認予定）

ZH_TI:(三维打印机 not 三维打印) and DP:[2000 TO 2017]

453件

ZH_TI:(“三维打印机” not “三维打印”) and DP:[2000 TO 2017]

444件

部分一致検索できない。

検索例

EN_TI:((3D print*) not "3D print*") and CTR:CN and DP:[2000 TO 2017]

フレーズ（連語）検索するには、ダブルクォーテーションを使う。

ダブルクォーテーションを

使わないと

_{and演算となる。}

18

検索例

(ZH_TI:“三维打印” or ZH_AB:“三维打印” or ZH_CL:“三维打印” or

ZH_DE:“三维打印”) and DP:[2014 TO 2017]

2707件

ZH_ALLTXT:(“三维打印”) and DP:[2014 TO 2017]

2707件

ALL

では、出願人、発明者、代理人フィールドからも拾う。

ZH_

ALL

:(“三维打印”) and DP:[2014 TO 2017]

2767件

(ZH_

ALL

:(“三维打印”) not ZH_ALLTXT:(“三维打印”)) and DP:[2014 TO 2017]

60件

19

検索結果一覧

中国語

検索結果の翻訳

英語

21

１０８か国の原語に瞬時に翻訳できる。

(Google翻訳)

出願人名（発明者名）は

翻訳できない。

Analysis

検索式

検索数

CANON KK ≠ CANON KABUSHIKI KAISHA

HEWLETT-PACKARD DEV COMPANY L P ≠

HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L.P.

22

PSでは「B33Y」が検索できない。

出願人名（発明者）の

名寄せはされていない。

Analysisによる簡易ランキング

(CN)

CTR:CN and DP:([2005 TO 2017]) ・・・公報発行年

23 PS Analysis 英語検索 中国語検索 CNIPR STATE GRID （国家电网） 37347 52763 60754 100612 Huawei Technologies（华为技术） 18542 27341 40884 51834 ZTE Corporation（中兴通讯） 16614 31690 35151 46819 Samsung Electronics (三星电子) 15043 20069 26439 33973 Zhejiang University（浙江大学） 11120 29013 26819 36305

Koninkl Philips Electronics (皇家飞利浦电子) 11044 11872 14117 15702

Hongfujin Precision (鸿富锦精密) 10746 16183 16911 24055

Matsushita Electric (松下电器) 10670 12964 20257 23614

MIDEA GROUP (美的集团) 10442 11296 14440 25991

Analysis

ZTE（中兴通讯） の簡易解析における表記揺れ

CTR:CN and PA:(ZTE) and DP:[2005 TO 2017] 33,643件(2018/10/21)

Analysis 検索

ZTE Corporation

16,614 29,108

ZTE CORPORATION

8,272 29,108

ZTE Corporation.

2,322 29,108

ZTE Corp.

2,284

2,582

Shenzhen ZTE Corporation

953

957

24

Shenzhen ZTE Corporation

953

957

ZTE CORPORATION.

882 29,108

ZTE Communication Co., Ltd.

494

494

SHENZHEN ZTE MOBILE TECH CO., LTD.

460

539

ZTE Corp

215

2,582

法人格「 Corp. 」のドットの有無、ドットの半角/全角表記、社名の大文字/

小文字など、わずかな違いにより自動的にランキングされてしまう。

検索ではZTE Corp. とZTE Corp は同じと見做される。

法人格を無視して「ZTE」で検索すると「SHENZHEN ZTE MOBILE TECH」

などのグループ企業も抽出される。

書誌・要約

出願人、発明者、代理人の 中国語表記がないものあり。 25 発明の名称、要約は バイリンガルのものも 次第に増えてはいるが。

英語情報がない書誌・要約

発明者、代理人 の中国語表記が重複

英語情報のみの書誌・要約

収録

28

EN_CL:(“3D print*”) and CTR:CN and DP:[2005 TO 2017]

0

ZH_CL:("3D打印") and CTR:CN and DP:[2005 TO 2017]

7361

請求の範囲等、詳細情報

原語ではあるが「請求の範囲」、 「全文」、「全図面」が表示される。

請求の範囲等、詳細情報がないもの

「請求の範囲」、「全文」 などのタブがない。

2)検索（表記）異常例

出願人のスペルミス、誤訳検証例

CNIPRのスペルミス、誤訳を受け継いでいる（修正されていない）

出願人スペルミス

CNIPR PS 出願番号

PA:“Fuji Photo Eilm” 1 1 CN00136219.4

PA:“Fuij Photo Film” 5 5 CN01123602.7他

PA:“Fuij Film” 1 1 CN01115779.8

PA:“Fujii Film” 1 1 CN01141810.9

PA:“Fuji Phont Film“ 1 1 CN01120304.8

PA:“Fuji Photo Fiolm” 1 1 CN02107177.2

PA:“Fuji Filim” 1 1 CN00133643.6

PA:“Fuji Fiml” 2 2 CN03143658.7他

31

PA:“Fuji Fiml” 2 2 CN03143658.7他

PA:“Fujfilm Corporation” 7 7 CN201210315799.4他

PA:“Fumi Photo Film” 2 2 CN96107417.5他

出願人誤訳

誤訳英表記

出願番号

中国語（英語）

CNIPR ＝ PS

CN02103504.0 马渊马达(Mabuchi Motor) Mazda Motor

CN200510112501.X 本田技研(Honda Giken) Mazda Motor

CN03158533.7 三星电机(Samsung Electric) LG Electronics

CN201110119349.3 索尼公司(Sony Corp) Microsoft

CN98109459.7 三井化学(Mitsui Chemical) Mitsubishi Chemical CN01806818.9 日本油脂(Nippon Oils & Fasts) Nippon Paint

英用語のスペルミス、誤訳検証例

誤訳

脱字

(PD=2000 TO 2017) CNIPR PS Polyethylene 58009 45384 ployethylene 3 3 polythylene 104 75 polyetylene 4 4 polyethlene 369 248 polyethyene 7 6

誤字

(PD=2000 TO 2017) CNIPR PS Northylen 2 2 Ployethylene 3 3 Polyethelene 30 34 Polyethylane 29 15 Polytene 11 13 32

誤訳

出願番号

中国語 CNIPR

PS

正しい表記

CN200610044459.7 聚乙烯 polystyrene polystyrene polyethylene

CN200910272723.6 聚乙烯 polypropylene polypropylene polyethylene

CN201310343520.8 聚乙烯 polyolefin polyolefin polyethylene

CN201410676694.0 聚乙烯 polyester polyester polyethylene

CN201010125416.8 聚乙烯亚胺 polyethylene polyethylene polyethyleneimine

CN200410031459.4 聚乙烯醇 polyvinyl acetal polyvinyl acetal polyvinyl alcohol

CN200610067855.1 聚乙烯醇 polyethylene polyethylene polyvinyl alcohol

CN02127269.7 聚酯 polyurethane polyurethane polyester

CN200610006298.2 聚硅氧烷 polyurethane polyurethane polysiloxane

CN200410065242.5 聚氨酯 polyamide polyamide polyurethane

「

not」演算が機能していない？

(EN_TI:("three dimension* print*" or "3D print*") not ZH_TI:("三维打印" or "三维印刷" or "三维 印花" or "立体打印" or "立体印刷" or "立体印花" or "立体列印" or "立体图像" or "3D打印 " or "３D打印" or "三D打印" or "3D列印" or "3D印刷" or "3D印花")) and CTR:CN and DP:[2000 TO 2016]

結果一覧の「発明の名称」

には「三维打印」はないが、

33

「

not」演算が機能していない？

(EN_TI:("three dimension* print*" or "3D print*") not

ZH_TI:(三维打印)) and CTR:CN and DP:[2000 TO 2016]

34

詳細情報の「発明の名称」には「三维打印」がある。

しかし、検索では、三维打印

≠

三维打印机なので

「三维打印机」が抽出される。

B33Yが検索できない！

35

B33Yがランキングトップなのに、

何故、IC:B33Y*, IC:B33Y30*, “IC:B33Y 30*”では検索できない？

B33Yは中国だけでなく、ワールドワイドでも検索不可。

出願番号がおかしい？

KR出願番号形式のCN出願番号！！！

PATENTSCPE

36

正しい出願番号

CNIPR

言語コードではなく国コード

CNもある

中国の言語コードはZHで

ZH_TI:3D打印 のように検索

37

数こそ少ないがCNもある。

2005-2017年出願分では、発明の名称と要約で1437件存在

3)ＩＰＣ欠落

Field Searchでの検索

38

Advanced Searchでの検索

OF:CN!IC:[* TO *] AND PA:HUAWEI AND DP:[2000 TO 2017]

フィールドを選択し、ラジオボタンを

「

Yes」にすれば他のフィールド情報の

不存在も確認できる。

IPC欠落

(CN)

2018/9/15現在

中国の

_{IPC欠落が顕著}

39 出願年

IPC欠落検索式

CTR:CN!IC:[* TO *] AND AD:(2005)

CTR：PCT出願は含まない内国出願

数値は、いずれも特許・実案含む 中国では、特許公開も実案登録もほぼ

１年以内に収録されるので2017年出願 での収録落ち込みは小さい。

IPC欠落の改善

40

出願年2005～2014年の収録数がわずかにCNIPRを上回っている点は不明である。

（収録はPS（内国出願）に合わせて、いずれも特許＋実案数である）

IPC欠落とされた2005～2017年の各200件をランダムに抽出し、CNIPRのIPC

収録を調べた結果、計2600件のすべてにIPCが収録されていることを確認した。

その結果、PSでIPC欠落とされたものはPSデータベースにIPCが収録されていない、

だけであることがわかった。

2か月でIPC欠落大幅改善

IPCの欠落

(PS CN)

IPC 欠落

41

National Biblo. Data

IPCの欠落

(CNIPR)

IPC収録あり

IPC欠落

(KR参考情報)

2018/9/15現在

CNに比べて極めてわずか

43

IPC欠落検索式

CTR:KR!IC:[* TO *] AND AD:(2005)

出願年

2017年出願分が落ち込んでいるのは、 特許公開が出願～１８か月以上かかる ため。

IPCの欠落

(PS KR)

CTR:KR!IC:[* TO *] and AD:(2005)

IPC 欠落

44

National Biblo. Data

IPCの欠落

(KIPRIS)

IPC 収録あり

IPC欠落

(JP参考情報)

2018/9/15現在

CNに比べて極めてわずか

46

IPC欠落検索式

CTR:JP!IC:[* TO *] AND AD:(2005)

出願年 2017年出願分が落ち込んでいるのは、 特許公開が出願～１８か月以上かかる ため。 数値は、いずれも特許・実案含む 出願年

PS IPC欠落検証例

CN IPC検索比較

PS

CNIPR

IC:(B29C67 or “B29C 67”) and CTR:CN and DP:[2000 TO 2016]

5745

6750

IC:(B33Y) and CTR:CN and DP:[2000 TO 2016]

0

5083

IC:(A61K7 or “A61K 7” or A61K8 or “A61K 8” or A61Q)

and CTR:CN and DP:[2000 TO 2016]

35379

37264

47

and CTR:CN and DP:[2000 TO 2016]

35379

37264

IC:(B32B27 or "B32B 27") and CTR:CN and DP:[2000 TO 2016]

38211

41171

4)出願人名、要約等の欠落

PS 「発明の名称」欠落

48

「発明の名称」欠落

PS 「要約」の欠落

「要約」欠落

49

PS 「出願人名」の欠落

CTR:CN!PA:[* TO *] AND PD:[2005 TO 2017]

「出願人名」欠落

50

PS 出願人名、発明者名欠落

0 5,000 10,000 15,000 20,000 25,000 30,000 35,000 40,000 45,000 50,000 PA欠落 IN欠落 出願年 51 出願年 0 5000 10000 15000 20000 25000 CNIPR/P CNIPR/U PS/P PS/U 不公告発明人 公報発行年

中国では2007年出願以降、公報に

発明者を明記しなくてもよい制度を

利用した出願が出始め、最近では

20000件以上もの「不公告发明人」

があり、実案より特許が圧倒的に

多い。

PSでの件数が少ないのは、「不公告

发明人」収録の欠落である。

出願人欠落情報に関連して

３．PSによる中国特許調査まとめ

PATENTSCOPEは従来、PCT特許のみを収録していたこともあり、未だに

「PCT特許データベース検索ツール」として捉えている方も多い。

2017年8月にASEAN各国知財庁が有する特許・実案データの基本的な

情報のほぼすべてがPSに収録され、さらに中国などアジアの情報も

逐次収録され、2018年9月時点では不充分な収録であった中国情報も

毎月のように更新改善されている状況はすばらしい。

無料でありながら各種フィールドコマンドと演算子（近接演算子も含む）を

52

無料でありながら各種フィールドコマンドと演算子（近接演算子も含む）を

組み合わせた複合検索機能もあり、しかもかなり長い検索式にも対応で

き、商用データベースにも匹敵するほどである。

英語と中国語のハイブリッド検索ができることから、CNIPRのように部分

一致検索はできないが、英語用語から中国語を抽出することもできる

点も見過ごせない。

今後ますますの改善で商用データベースを利用できない企業の調査ツー

ルとして活用できることは喜ばしい。

PATENTSCOPEの利点

①Advanced Search で近接演算子などを利用し、」複雑な検索も可能

2000バイトを超える長い検索式でも検索可能（上限未確認）

②中国語＋英語のハイブリッド検索である程度網羅な検索も可能

③英語ではワイルドカード(*)で前方一致、中間一致、後方一致、前後

一致が機能するが（Stem ONでの語幹処理より有効）、中国語では

53

ワイルドカード(*)は機能しない。

④検索結果は108国の原語に即座に翻訳可能（Google翻訳）

WIPO翻訳では10言語

⑤書誌・要約だけでなく請求項、全文もデジタル情報で確認できる。

但し、その収録は若干の欠落もある。

⑥簡易解析(Analysis)で出願人、IPCなどのランキングを表示

(出願人名、発明者名の名寄せはされていない)

⇒ この情報を基に検索式を再構成すればよい。

PATENTSCOPEの問題点

①

IPC、出願人、要約、請求の範囲が収録されていないデータが存在

する。

②検索結果の簡易解析では、出願人名、発明者名が名寄せされず

に解析されるので注意

③英語でも中国語でも部分一致検索しない。

異表記を網羅するにはワイルドカード

(*)を使う。

但し、中国語の場合には利用できない場合もある。

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但し、中国語の場合には利用できない場合もある。

参考文献

1)PATENTSCOPEの使い方(WIPO 2018/5版)

https://www.wipo.int/export/sites/www/about-wipo/ja/offices/japan/pdf/patentscopex.pdf

2) PATENTSCOPE HELP

https://patentscope2.wipo.int/search/en/help/users_guide_summer2018.pdf

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2019年度の検証

化学構造検索については別途検証されているので割愛したほか、

多言語検索（CLIR）機能なども異表記を網羅できる訳ではないので

扱わなかったが、ワイルドカード(*)の使い方など未解明の部分も

ある。

アジアでは韓国など、その他の新興国の収録を含め、活用の可能

性を見極めたい。

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また、同じ無料データベースであるespacenetと検索や表示機能

などの比較も確認したい。