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JAIST Repository: スパッタ法によるゼオライト膜の作製

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Academic year: 2021

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Japan Advanced Institute of Science and Technology

JAIST Repository

https://dspace.jaist.ac.jp/ Title スパッタ法によるゼオライト膜の作製 Author(s) 亀井, 寛 Citation Issue Date 1996-03

Type Thesis or Dissertation Text version none

URL http://hdl.handle.net/10119/2241 Rights

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スパッタ法を用いたゼオライト膜の作製

亀井 寛 (五味研究室) 1.緒言 ゼオライトは数Åオーダーの規則配列した細孔を持つ結晶であり、量子サイズ効果を利用した 新しい光・電子デバイスへの応用が期待されている。このためにはゼオライト結晶の薄膜化が望 まれるが、従来結晶合成に用いられてきた水熱合成法での薄膜成長は達成されていない。本研究 では、熱的非平衡下での薄膜結晶成長の可能なスパッタ法を用いてゼオライト薄膜を作製するた め、ゼオライトを構成する重要元素であるNa 2 O、CaO成分を多量に含む膜の作製条件及びその 結晶性を評価し、ゼオライト薄膜合成の可能性を検討した。 2.実験方法 製膜には高周波スパッタ装置を用い、ターゲットの組成調整を行なうことでゼオライト組成の 薄膜を作製した。また非晶質の膜は結晶化のため気相輸送法により熱処理した。作製された薄膜 の結晶性および組成はXRD、SEM、EPMAにより評価した。 3.結果と考察 膜中に取り込まれ難いNaを多量に導入するためには、Na 2 CO 3 を主成分とする焼結ターゲッ トを用いることで、安定してNa 2 O成分が多量に含む膜が形成可能であることを見い出した。こ れによりSi:Al:Na = 1:1:1のゼオライトA類似組成の薄膜を作製できた。しかし、Ar+O 2 ( 10 %)およびAr中では、結晶化した薄膜は得られず、アモルファス膜であった。一方CaO系では CaCO 3 を主成分に含む焼結ターゲットを用いて製膜を行ない、 Si:Al:Ca= 2:2:1の組成の薄膜が 得られた。図1に示すようにAr 中においてTs = 400℃以上での製膜で Ca 3 Al 2 O 6 結晶膜が得 られた。しかし結晶成分にSiは含有されなかった。またアモルファス薄膜を作製後、TPAOH水 溶液雰囲気中で熱処理を行なったところゼオライト構造を持つZSM-5およびモルデナイトが基板 表面上に成長していることが見い出せた。図2に得られたZSM-5 の SEM 像を示す。基板上に ZSM-5結晶が成長している様子が判る。以上の結果は、スパッタ法等の熱的非平衡下での製膜法 を用いて細孔形成に必要な適当な気相中で製膜することにより、ゼオライト膜形成の可能性があ ることを示唆している。 10 30 50 Intensity (arb.units) ■ ■ ■ ■ ■ 2θ(deg.) 500400350200℃ ■ Ca Al O3 2 6 図1: Ar雰囲気中でのCa-rich膜 図2: 気相輸送法により作製した ZSM-5のSEM 写真 keywords ゼオライト膜, 量子サイズ効果, スパッタリング, 気相輸送法

参照

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