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ネマチック液晶中に分散されたシリカ微粒子の交流電場に対する直交運動

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Academic year: 2021

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ネマチック液晶中に分散されたシリカ微粒子の交流

電場に対する直交運動

著者

石田 祥之

(2)

2009 年度 修士論文要旨

ネマチック液晶中に分散されたシリカ微粒子の

交流電場に対する直交運動

関西学院大学大学院理工学研究科

物理学専攻 加藤研究室 石田 祥之

近年、医療・環境・健康の分野においての微小化学分析システムへの応用の観点から、溶媒中に分散 された微粒子の電場による運動現象が注目を集めている。それらの研究は大半が一般の等方性液体中で の古典的な電気運動現象によるもので、セルに精細な微小加工が求められる。そこで今回私は、制御性 の観点から異方性液体としての液晶中に微粒子を分散させた系に交流電場を印加して実験を行った。 本実験概要としては、液晶材料である5CB(4-pentyl-4-cyanobiphenyl)中に真球状のシリカビーズ微粒子 (直径 1 μm)を分散させた材料をラビング処理がパラレル、アンチパラレル型のサンドイッチセル (~5μm 厚)に注入し、交流電場(正弦波)印加による微粒子の運動を観測した。観測は CCD カメラ付き 偏光顕微鏡により行い、その際の温度は透明のホットプレートにより制御した。 10~500 Hz 程度の交流電場を印加すると、5CB の相状態に依存して、交流電場に対する直交運動を行 うことが観測された。等方相(40℃)の状態では、微粒子は見かけ上ランダム運動を行ったのに対して、 ネマチック(N)液晶相(30℃)の状態ではパラレル(P)セル、アンチパラレル(AP)セルで異なる運動が観 測された。P セル中では、微粒子がセル上下基板に施されているラビング処理方向と反対方向に、長距 離の等速直線運動を行い、AP セル中ではラビング方向に沿った、双方向性の運動が観測された。その 液晶相中での微粒子運動速度の電場強度依存性を測定すると、低電場強度領域において微粒子運動速度 が電場強度の2 乗に比例する傾向が観測された。 これら交流電場に対する直交運動、また微粒子運動速度が電場強度の 2 乗に比例するという点から、

Induced-Charge Electro-Osmosis (ICEO) [1]を基に、微粒子周りの液晶分子配向の非対称性による Induced Charge Electrophoresis (ICEP) [2]モデルを、微粒子運動の駆動メカニズムとして考察を行った。

1) M. Bazant, Phys. Rev. Lett, vol.92, pp.066101 (2004) 2) S. Gangwal, Phys. Rev. Lett. vol.100, pp.058302 (2008)

参照

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