Japan Advanced Institute of Science and Technology
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https://dspace.jaist.ac.jp/ Title スパッタ法による薄膜化技術の開発 Author(s) 和佐, 清孝 Citation 年次学術大会講演要旨集, 1: 63-64 Issue Date 1986-10-08 Type Presentation Text version publisherURL http://hdl.handle.net/10119/5168
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本著作物は研究・技術計画学会の許可のもとに掲載す るものです。This material is posted here with permission of the Japan Society for Science Policy and Research Management.
2 ,A 0 7 スパッタ法による 薄膜化技術の 開発 松下名器中央研究所 相仕清孝 はじめに テーマに掲げたスバッタ・ 薄摸 という表現は、 現在 平 群体および新素材分野 では基盤技術要素として 広く知られている。 しかし、 基礎研究に着手した 当初 は、 今日のようにこの 分野の研究が 広く実用されるかどうか 全く予想もつかな かった。 ここでは、 この研究の流れと 企業・社会に 及ぼした効果の 概略と基礎 研究の今後のあ り方についての 私見をのべる。 11 研究の流れ プラズマは第 4 の 物貫 として学術的に 興味があ るためこの分野の 基礎的な研
究
に若手したのは 26 年以前の事であ る ( 535)0 しか し この研究が ヱ レクトロ ニクスのどの 分野に応用きれるのか 全く予想もっかないまま 4 ∼ 5 年を経過し、 学術的な研究成果は 得られたものの、 新しい応用研究への 転向を余儀なくされ るようになった。 このとき、 輯然 にもプラズマを 発生させる 放穏皆 の 管壁が磁 界 中で異常にコーテンバ 汚染きれ、 これが直交接磁界中の 電極の異常スパッタ であ ることを発見した。 ここで、 プラズマ本来の 研究から、 スパッタ法による ヱ レクトロエクス 用 薄膜の研究へ 大きな方向転換をはかった ( 540)0 薄膜は将来のエレクトロニクス 材料としての 夢があ ったため、 企業内にお け る 研究テーマとしてはプラズマより、 よりニーズに 近く研究が一段とし 易くな った 0 とはいっても、 当時溥傑はまだまだ 実用にほど遠いものであ った。 この ような研究が 工業的に注目ざれたのは 昭和 40 年の後半になってからであ る。 その 1 っは 欧米における 半導体 I C 開発の急速な 進展にともない、 当初見付 けた異常スパッタが 米国で半群体 I C プロセス用に 実用化されたがで、 当初の 研究はこの分野の 草分け的研究として 欧米で評価ざれた ( 547)0 一方、 社内的 には当時ポストカラー T V としての長時間 V T R の実用化研究が 進められてい た 。 この 堺合 、 V T R の心臓部の磁気ヘッドのサ ブ ミクロン加工が 従来の技術 では生産が出来ないという 大きな問題に 直面していたが、 迎 よくこのスパッタ法
による薄膜化技術を 従来の工法に 変えて導入することによ り 離 なく生産に 成功し、 今日の V H S 長時間 ビヂオ の世界市場の 確保に大きな 役割をはたした。 この成功は新しいスパッタ 法による薄膜化技術が 工業的に如何に 立 要 であ るか を 社内外に広く 知らしめる効果をも 示した ( S 50)0 さらに、 この種の研究から 社会要諦に応じた 高趨度 カラー T V 用固体化フィ ルタ ( 551), 電子レンジ用 尚 " 温 センサ ( 551) などの特徴あ る開発がつづき、 研究メンパーも 自然増員されるようになった。 研究若手から 15 年以上を経過し ていた。 これまでの基礎研究の 成果は、 上述のごとく i ) 基幹商品の要素技術として 一 63 一
