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JAIST Repository: 技術の市場価値形成に視点を据えた技術経営システム分析( イノベーションその計測・評価 (5))

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Academic year: 2021

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Japan Advanced Institute of Science and Technology

JAIST Repository

https://dspace.jaist.ac.jp/ Title 技術の市場価値形成に視点を据えた技術経営システム 分析(<ホットイシュー> イノベーションその計測・評 価 (5)) Author(s) 藤, 祐司 Citation 年次学術大会講演要旨集, 21: 1057-1060 Issue Date 2006-10-21

Type Conference Paper

Text version publisher

URL http://hdl.handle.net/10119/6509

Rights

本著作物は研究・技術計画学会の許可のもとに掲載す るものです。This material is posted here with permission of the Japan Society for Science Policy and Research Management.

(2)

技術の市場

形成に視点を 据えた技術経営システム 分析

0 藤 祐司

(

東工大社会理工学

) 資源に乏しい 日本の経済成長に 科学技術が重要な 役割を果 たしたことは 論を待たない。 しかし、 「失われた 10 年」とも 称される 1990 年代の不況期において、 日本の研究開発投資の 約 8 割を占める企業の 研究開発投資が 減少したとされる ( 科 学技術白書 ) 。 また、 80 年代から 90 年代 @ こ かけて、 日本は他 の OE ㏄諸国に比して 売上高研究開発 投 比率 ( 研究開発 強 度 ) が高まっているにもかかわらず、 生産性の上昇に 結びつ いていないとされる ( 内閣府 ) 。 こうした日本の 研究開発活動の 停滞は、 日本のハイテク 公 幸力にも影響を 与えている。 例えば、 1980 年代において 高い競争力を 持っていた半導体産業は、 現在で は米国の復調,アジアの 台頭により 急 以上の克服にぼ、 研究開発活動の 活性化による 技術の創造 およびそれにともな う 付加価値の創造がいっそ う 強く求めら れる。 しかし。 図 に 示すよ う に、 日本のハイテク 産業の主 導的役割を果たしてきた 電気機械産業において、 その研究開 発活動の停滞が 顕著に現れている。

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口目 口東芝

% 富士通 辞三菱 綾 ソニー ロキヤノン l 銭 6 lqq7 @ 殆 8 1999 % ㏄ 200@ 2 ㏄ 12 2003 2004 鱗 シャープ 繍 三洋 さらに、 図 2@ こ 示すそれら 10 社の研究開発強度の 推移を見 ると。 2000 年代に入り、 顕著に増大 ( 松下,キヤノン , ソニ 一等 ) と減少 ( 日立,東芝,№ c) する企業の 2 種 化が観察さ れる ( 國 鈴 。

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皿 図 3. 目 本の主要 電 鍵 企業の研究開発強度の これ ば 、 各企業の研究開発 投 に 対する戦略 [ 集中 と 選択, 技術の多角 化 … ) の 違いが現れたものと 考えられる。 例えば、 -- 一 """-- 。 " 。 - @" ご ' 支

: コ目て三 一 """ - 一 -- 。 " 。 一 " @ 。 一 "" *@- 。 @ 憾 C, 富士通のトレンドは、 総合電機の看板を 下ろし、 集中と 1980 1983 1986 @989 1992 1995 19gg 2001 2004 選択を行った 結果が一部表れているとも 推測できる。 しかし、 こうした研究開発動向がすべての 企業において 必 図 1 。 日本のハイテク 産業の研究開発強度の 推移 く ag ずしも競争力に 結びついているわけではない。 図 2 に示すよ う に、 日本の電気機械産業の R&D 活動の 8 割 鱒欝 年代以降。 経済の成熟化、 グローバル化の 進展等、 国際 は 、 上位 10 社によって占められている " 競争環境 は 大きく変化しており。 日本のハイテク 産業では、 そ の研究開発活動を 単なる量的な 活動から転換させていること

(3)

が 観察される。 そこで、 国際的競争力を 有する企業とそうでは ない大企業との 比較を通じ、 下記の仮説的見解を 検証する。 れ

)

高い競争力を 有する企業は、 適切な研究開発活動を 通 ㌍セ肘 理ぬ吋佃 じ 、 技術進歩の効果を 享受し、 競争力を強化 よぴェ キルギーそれそれの 通典 窟発按貞に (2) 一方、 競争力を低下させた 大企業は、 研究開発活動の 趣 十砿 Ⅰ - ア +0) ァ 群吏 接蓑 り肉 鞍番宰 タ硅究爵襄哲俺 のリービタイム 技篆 の 済 壊朽 卑 雲な リストラで、 技術力を低下きせたことが 原因 以上の傾向が、 競争力を有する 企業とそうではない 企 業それぞれの、 製品の代替関係に 表れる技術製品の 市 場価格形成に 反映 の

需要との 好 循環関係に着目し、 watanabe and Zhu [ 工 ] による

最適研究開発強度計 関数を用いて、 以上の好循環構造を 検 証する。 生産開敷

。 " 。 確実 膵 "" 需要関数 需 要 ぎ 突 開発強度導出のフレームワータ 上記において「最適研究開発強度 @ ほ 。 研究開発投資とそ の成果としての 技術製品の関係を、 生産面 ( 割引率を考慮し た投資関数 ) と需要面 ( 製品の代替関係を 考慮した需要関 数 ) のバランスの 均衡点として 計測している。 以上のフレームワークをもとに、 各変数の導出および 分析 の手順を次に 示す。 (1@ 技術の限界生産性の 導出

図 5 に示す Watanabe and Zhu ll] の手法に則り、 技術の

内部収益率,技術のサービス 価格および技術の 限界生産性の 連立方程式を 解くことにより。 技術の限界生産性を 計測する。 五 G て ㎝ C 検統 コスト「 r 硅俺毎拮 @ および

(2)

最適研究開発強度の 導出 に 示すよ 刃こ 、 研究開発投資の 最適量 は ①技術の限界 生産性,②研究開発投資の 内部収益率。 および③研究開発 活動により得られる 製品の既存製品との 間の代替弾性 より定められる ( 渡辺地 [3]) 。 ここで、 本研究では、 需要 側 の 消費行動を簡略化し、 製品の研究開発 投 よび技術ストック 弾性 値 ㏄ 2) の 前 = l W 研究開発活動に 対 応 して製品が創造 ) を仮定している。 構め h 勒養酵 明帝 旨由舟 /" 一 - 一一 び - --- 虹 。 。 。 荻帝幸ム ク

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投入野菊そ技 輻 1 食費 @ 輌 @ q 螢 擦の触れ @ 迂桟 図 6, 額突 闘発投 海鼠選管

(3)

研究開発活動の 柔軟性分析 ⑫ ) により求められる 最適研究開発強度と 実際の研究開発 強度とを比較すると。 図 7 のような典型例が 考えられる。 ここで。 最適研究開発強度ほ、 図 4 に示す 下 式により表さ れる 0 R 一二

ざ 乙く アーク ) ㏄ ) 式において、 投入要素を技術に 割くことによる 生産の減 少分身 は 、 生産に対する 各投入要素の 弾性 値 の 和 として計測 される。

(4)

れ ) 式 より。 最適研究開発強度が 増加するのは、 次の条件の ときとなる。 ①技術の限界生産性㎏ ) 増 : 技術の生産への 貢献が向上 ②製品の代替弾性 値 ( 。 ) 滅 : 製品の代替がされにくくな る ( 製品の競争力が 向上 )

最適 田 S 実蹄の R ゐ 実即 の 麒 S 鼓 蕗田 s

過小な研究開発投資 過大な研究 睨俺 投資 - 技師の演算生産性の 週中許 俺 - 汝 桁の眼界生産性の 過大評価・みせかけの 投資 轟 選良ほ 実額の S 婁跨 の 爵 S 鍛選部 R @ と D 理 穏 窩への対応の 墳の変化 ( 技筋投 遅れ 負の重要性 櫛 ) 円 -

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魔境への 即 睡の対応 漬 壊の変化 ( 抜荻投寅 の重要性 培 ) 図 7 。 研究開発強度の 最適 以上のフレームワークをもとに、 日本のハイテク 産業。 持 城企業を対象に、 研究開発活動の 質の計測およ び最適研究開発強度との 比較を通じた 研究開発活動の 効率性 について検証する。 日本の高研究開発ハイテク 産業 ( 化学, - 般機械,電気機 械 ) の技術の限界生産性の 推移を図 に示す。

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' 恕蜂 。 ' 雙れ "" 男 "' 鍛 。 哩与授 " り " ⑨ 播ヰ態 " 目 本のハイテク 産業の技衛の 限界生産 図 8 より、 工 9 ㏄年代のバブル 崩壊以降。 日本のハイテク 産 業の技術の限界生産性が 急激に低下していることが 分かる " 特に、 バブル期において 隆盛を誇った 電気機械産業の 凋落が 激しく、 一方、 トヨタ自動車等の 国際競争力を 有する企業が 中心となる輸送機械産業 は 、 2000 年代の復調の 兆しが見られ る 。 日本のハイテ タ 産業の中でも、 電気機械産業に 商店を絞り。 その主要企業の 技術の限界生産性および 丁砕 ( 全要素生産性 ) 金葉の 技 鰯の限界生産 均の技術の限界生産性は 減 少傾向にあ ったが。 主要㈹企業においてほ 、 ㏄ 00 年代に入 り限界生産性 ご FP ともに総じて 上昇していることが 分かる。 特に近年国際競争力が 高いとされるキヤノン、 松下電器産業 といった企業の 限界生産性および℡ P の伸びが大きいことが 示された。 一方、 Ⅰ 990 年代より業績不振が 続く総合 く日 立,東芝等Ⅰのそれらは 相対的に小さな 伸びに留まっている。 企業の研究開発活動を 通じた競争力が。 株価によって 市場 に 正当に評価されていると 考え。 企業の時価総額を 企業の競 争力の指標として 用いる。 このとき。 主要電気機械企業の 競 争力と研究開発活動との 関係は。 次式 に示す、 時価総額と研 究開発活動との 関係によって 表される。 ぴ = 拝 ( 翅ガア,典 /5, ぢ ) (2 ノ M Ⅴ時価総額 MW: 技術の限界生産性 ; 紺田 研究開発強度 S: 売上

(5)

(2) 式を回帰した 結果は 、 表 ? に示される。 表 1 より、 比較 的競争力の高いとされる 企業 ( キヤノン,松下等 ) は、 時価 総額と技術の 限界生産性とが 正の相関を有しており、 時価総 額の向上に技術の 限界生産性の 貢献が高いことが 伺われる。 一方。 総合電機 メ 一力 ( 日立,東芝等 ) は、 研究開発強度や 売上高といった 量的な側面のみが 時価総額に貢献しており 研究開発の質的な 貢献が見られないことが 分かる。 表 1 日本の主要電気 企業の時価総額と 研究開発活動との 相関 ㎞

アニメ + 口 nA

Ⅴ + ら ㎞ R/ S+cln,s+ 。 は ㎞ NZ て 卍 ㌣ ア 丘パざ ⅣⅠ ガ afi ょ ア クア t&@ T@ 3.55@ -5.26@ -4.85@ 0.58@ 0.@395@ 1,22 (2. ㏄ @ (-2. 13) キヤノン 1.46 l. 26 0 84 0 85 0 . 959 1 61 く 2.04 Ⅰ く Ⅰ. 90) B@ A@ -11.2@ 12.72@ 24.98@ -0 22@ 0 411@ 1.48 ( 一 2.40) (2.32) (2. 72@ 三 菱 -7.33 14.82 20.2 0.684 1.67 ( 一 1.46j (1.47) く 2.26) 一 1.41 2. 0S 0. 773 (-1.531 (1.46) 富士通 -2.82 5.56 1.35 0.813 1.37 (-2.62) く 3.27) ⅤⅤ時価総額 ; Ⅴ

技術の眼界生産性 紺宝 研究開発強度 s: 売上 N Ⅸ日経平均株価 主要 且 0 社についてめ 90 年代と 2000 年代の平均の 最適研究 開発強度と実測値との 比較を行った 結果 は、 図 であ る。 0 ・ fIK o.G7

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0: ひ 4 0.05 卸 ㏄ 0 ・ 67 O ・ OS 図 ㈹. 日本の主要電気機械産業の 最適研究開発強度と 実際の研 究 開発強度の比較 ( Ⅰ 990 年代と 2000 年代 ) 松す ,キヤノンの 研究開発強度は 最適 値 よりも高い値で 推 移しているが、 他の企業は総じて 2000 年代にぼ最適 値 に比し て 実測値が過小となっていることが 分かる。 また、 松下の実 測値が最適 値 に比して過大になっているのに 対し、 キヤノン は最適 値 と実測値とが 優れて良好なバランスを 有しながら、 研究開発活動を 拡大していることが 分かる。 これより。 最適 投資レベルの 向上 ( 技術の限界生産性の 向上と製品の 代替弾 性値の減少による 製品の競争力の 向上 ) に、 実際の研究開発 活動が対応し、 それがさらなる 企業の競争力の 強化にっなが る構図が伺われる。

結論

。 工

総括

日本のハイテク 産業および主要電気 械 企業を対象に、 研究 開発投資最適管理モデルを 用いて、 下記を示した。 ( 五 ) 高い競争力を 有する企業は。 適切な研究開発活動を 通じ、 技術進歩の効果を 享受し、 競争力を強化 (2) 一方、 競争力を低下させた 大企業は、 技術力を低下させ たことが原因 (3) 競争力を有する 企業は、 技術の貢献が 製品の代替関係に 表れる技術製品の 市場価格形成に 反映。 対応し、 競争力 を強 4% 。 2 今後の (1) 需要関数の精微化による 供給サイドと 需要サイドの 相互 作用の計測 佗 ) 技術製品の代替関係と 企業競争力の 関係の明示的計測

参考 文

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に 3@ 渡辺千悔、 朱兵 、 藤 祐司、 l 研究開発投資の 最適軌道管理に 関す る理論的,実証的分析」、 研究技術計画 騰 , N 。 ) 佗 (200 いお 。 t0@ K4@ 渡辺千個 編 、 て 技術革新の計量分析 " 研究開発の生産性。 収益性 の分析の評価』 ( 日 科技連出版社,東京, 200 五 ) 翻 内閣府,「経済財政白書」,国立印刷局,各号 [6l 文部科学 省 , r 科学技術直書 @ ,国立印刷局,各号

図 5 に示す  Watanabe  and  Zhu  ll]  の手法に則り、 技術の 

参照

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