粉体用ホルダー
装置コンセプト
Ｓ
粉体用
Ｄ装置
傾斜
回転
振動機構を装備し
お
粉体を撹拌す
こ
粉体全面へ
成膜を可能
した研究開発
用装置
す
コン
卓上設置可能
装置
サ
系統
蔵し
お
ます
装置価格
万
程度
お求
やすい価格
設定しました
SAL1000B
粉体用
ALD
装置
特徴
操作
ッ
ネ
成膜
セ
設定や駆動機器
動作確認
ます
ョン
ッ
取
つけ可能
す
粉体以外
φ
“ま
基板へ
成膜
可
性能及び仕様 ]
到達圧力
膜厚分布 φ ｍｍ A ± A A
成膜方向 ウン
粉体容器 銅製
処理粉体量
粉体容器加熱温度 ℃ Ｘ
サ ン 個 加熱温度 ℃
Ｄ A 開閉 加熱温度 ℃
機構
二― Ｆメ 付
排気 ン ン
設置 ]
本体 重量 面積 A × ×
ン 重量
用力 ]
電力 φ ± A
接地 種接地 Ω
～
圧縮空気 ～
ン 排気 ン
筐体排気 φ × ア
ョン ]
ッ
サ ン 加熱温度 ： ℃ A
評価機を
用意し
おりますの
サン
プルの作成も可能
す
ま
特注仕様にも対応い
しますの
気軽に
相談く
い
お問い合わせ先
東横化学株式会社
事業開発室
Tごl：044-435-5858
