冷陰極型電子源

平成２７年度

特許出願技術動向調査報告書（概要）

冷陰極型電子源

平成２８年３月

特 許 庁

問い合わせ先

特許庁総務部企画調査課 _{知財動向班}

電話：０３－３５８１－１１０１（内線２１５５）

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第₁章 調査概要

第1節 調査目的

電子 原子 外部 出さ 電子源 冷陰極型電子源 熱陰極型電子源 あ 熱陰極型 出源 電子 出 陰極 ッ 加熱 電子 陰極 飛び出

え あ 冷陰極型電子源 陰極 陽極間 高電 印加

電子 陰極 飛び出 え あ 冷陰極型電子源 熱陰極型 電

子源 比 消費電力 さい 型化 応答速度 速い 出さ

電子 密度 高い 点 技術的 優 性

従来 電子顕微鏡 電子線露 装置 面型表示装置あ い X線装置 電子源

使用さ い ン 電 電子 出 冷陰極型電子

源 実証さ ン 新 用途 注目さ い

特許出願 件数 関 ₂₀₀₄ あ ₂₀₁₅ 時点 大幅 減少 い 熱陰極型電子源 比較 冷陰極型電子源 優 性 活 新 製品 開 電子顕微鏡 い 行わ い

今後開 さ あ う冷陰極型電子源 関 技術開 知的 産戦略 方向性 探 出願や論文 容 変化 検証 冷陰極型電子源 関 う 技術 国

い 蓄積さ 知 要 あ

本報告書 冷陰極型電子源 関 技術 い 市場環境 策動向 特許及び論 文 動向 調査 技術革新 状況 今後 展望 い 検討 報告

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第₂節 調査 象技術

冷陰極型電子源 関 技術俯瞰 _1-1 示 技術俯瞰 基 い 冷陰極型電子

源 技術概要 明 概要 明 際 参考 面 公開特許公報

抽出 出 明示 使用 い 面 示さ い 符号や番号 い 当 公開特許公報 参照 い

1-1 技術俯瞰

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1 ^型式

1 電界 出型電子源

ッ 表面 電界 集中さ ン 効果 ッ 真空中 電子 出 さ 電子源 あ 鋭化 ッ 用い 表面 電界 集中 電子 出

や い ッ 材料 ン ンや ン い 金属 他 ン

等 炭素材料 用い

1-2 ^{示 例 引 出 電極} 12 ^{用い ッ} 13 ^{表面 電界 集中}

さ ッ ₁₃ 電子 出

1-2 ^{電界 出型電子源 一例}

出 ：特開2003-016914^号公報

2 ^{半 体型電子源}

基板 基板 形 さ _p 型半 体層 _p型半 体層 形 さ _n型半

体層 基本構 _pn接合 電 印加 ン 増幅 利用

n^{層 電子 出さ 電子源 あ}

1-3 ^{半 体型電子源 一例}

出 ：特開2008-243676^号公報

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3 MIM Metal Insulator Metal ^型及び MIS Metal Insulator Semiconductor ^型冷陰 極型電子源

金属 部電極 金属 MIM 型 又 半 体 MIS 型 部電極間

ン 絶縁層 形 部電極 部電極間 電 印加 面状

部電極表面 ン 効果 電子 出 面 出型 電子源 あ MIM型及 び_MIS型 電子源 素子 部 加速 電子 出 素子外部 強電界 必要

ッ 面状 あ ン化 留気体 ッ ン

ッ 破壊さ いう問 生 い

1-4 MIM型及びMIS型電子源 一例

出 ：特開2001-023511^号公報

4 ^{弾遈電子型電子源}

部電極 部電極間 強電界 層 部電極 部電極間 電 印加 多孔質半 体層 連 的 ン 効果 利用 電子 さ 疑似 弾遈電子 得 部電極 電子 出 あ 強電界 層

表面 ン郿化膜 形 さ ン微結晶 構 さ ン層

陽極郿化 多孔質 ン層 形 多孔質 ン層 熱郿

化 得 弾遈電子型電子源 電子 出効率 高い 出さ 電子 直進性 良い 真空 電子 出 能 い 特徴 持

1-5 弾遈電子型電子源 一例

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5 ^{表面伝 型電子源}

基板 形 さ 一 素子電極間 電膜 形 さ 電膜

ッ 構 さ 電子 出部 形 さ あ 一 素子電極間 電 印加 電子 出面 行 電界 形 電膜 行 電流 流 電子

出部 電子 出さ ッ 利用 電 電子 出

能 あ

1-6 ^{表面伝 型電子源 一例}

出 ：特開2003-323855^号公報

2 ^用途

1 ^{電子顕微鏡}

電子顕微鏡 電子線 試料 照射 出さ 透過電子 吸 電子

射電子 電子 電子 X線 ッ ン 像や様々

情報 得

電子顕微鏡 用い 電子源 ン 加熱 熱電子 出さ 熱電子 出型電子源 熱電子 出 効 起 温度 い温度 ～1800K ッ 加

熱 強電界 電子 出さ ョッ 型電子源 細

尖 陰極( ッ ) 端 超高真空 強い電界 電子

出さ 冷陰極型電子源 あ

冷陰極型電子源 陰極 端 微 部 電子 出さ 初速度 さ

い 生 電子 幅 犊い 微 源 作 能 あ

高 解能 電子顕微鏡 用い

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2 ^{電子線露 装置}

電子線露 装置 露 象 載 _X-Y 移動 同期さ 電子源

電子線 照射 所定 ン 画 露 行う あ

3 ^{樹脂 硬化装置}

電子源 生 電子 樹脂 照射 樹脂 硬化さ 装置 及び 電子源 生 電子 気体 励起 紫外線 生さ 紫外線 樹脂 硬化さ 装置 含 い

4 ^表示装置

表示装置 電界 出 _FED 表面伝 型電子 出 SED 弾遈電子面 出型 BSD 挙

5 ^{蛍 灯} CCFL

CCFL Cold Cathode Fluorescent Lamp LED ^{比 一般的 均一性 演} 色性 面 優 い 命 面 劣 い

6 CCFL^{以外 照明装置} 7 X線装置

X^{線装置 陽極 ッ 電子線 照射} X^{線 生} X^{線管 組 込} 装置 あ 体例 非破壊検査用機器 産業用機器や ン ン

療機器 挙 8 ^撮像装置

冷陰極型電子源 用い 撮像装置 型 あ 感度 高 耐環境性 高い点 優 性 一例 冷陰極_HARP撮像装置 挙

9 帯電装置

帯電装置 電子源 出さ 電子 象物 照射 象物 帯電さ 装置 あ 帯電装置 他 電気集塵装置 静電塗装装置 挙

10 ^真空計

真空計 真空度 測 装置 あ ₁種 陰極 出さ 電子 気体 電 さ 生 電流 真空度 測 電 真空計 あ

11 ^{他 用途}

冷陰極型 ン

ッ ン 素子

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第₃節 調査 象範囲 調査 解析 方法

1 調査 象範

本調査 特許動向 市場環境 策動向及び研究開 動向 ₄ 側面 調査 行 4 調査結果 あわ 総合 析 行う 国 目指 技術開 研

究開 関 言 出 技術動向調査委員会 設置 ン 実施

識者 助言等 調査 映

特許動向 関 日本及び海外 出願 録さ 冷陰極型電子源 特許出願 い 全体動向調査 出願及び 録 技術 別動向調査 出願人別動向調査 注目出願人 出願動向調査 注目特許 調査 行

研究開 動向 関 世界 表さ 非特許文献 論文 学会誌 以 論文 いう い 全体動向調査 技術 別動向調査 研究者所属機関 研究者別動向調査 注目論文 変遷 調査 行

2 調査 解析方法

特許動向調査 解析 あ 調査 象国際特許 類 調査 象国 調査 象期間 掛 合わ 検索式 作 細 資料編 参照 検索件数 ン

件数 _18,539 件 あ 特許 細解析 象文献 細解析 象文献 込調 査 行 結果 象外 特許出願 除 析 象特許出願件数 件数_10,943 件 中 含 出願件数 合計_23,218件

研究開 動向調査 解析 あ 冷陰極型電子源 関 各種 ワ 調査 象期間 掛 合わ 検索式 作 細 資料編参照 検索件数 6,783件 あ 論文 細解析 象文献 細解析 象文献 込調査 行 結果 象外

論文 除 析 象論文件数 合計_3,710件

3 ^技術

本調査 特許解析 象文献 論文解析 象文献 以 象文献 いう い 技術 容 解析 _1-1 技術俯瞰 基 い 表_1-1 示 技術 設定

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表_1-1 技術 表

大分類 中分類 分類 細分類

A 型式 A01 電界 出型

A02 半 体型 pn接合を有 A03 面 垂直 電界を持

MIM型 弾道電子型

A04 面 行 電界を持 表面伝 型等

A05 そ 他

B 目的 課題 B01 電流特性 B011 電流 電流密度 向

B012 安定性

B013 空間的 均一性 低減 B014 集束

B015 低電 B016 長 命化 B017 高効率 省 B018 応答性 B019 そ 他

B02 構造 B021 短絡 破壊防止

B022 ^{大面積化 薄型化 軽 化 型化} B023 ^{低 製造容易}

B024 機械的強度 B025 ^{再現性 信頼性} B026 環境 策 B027 冷却構造 B028 そ 他 B03 そ 他

C 製 造 方 法 特 徴 あ

D 特 定 製 品 特 化 した

D01 電子顕微鏡

D02 電子線露 装置

D03 樹脂 硬化装置

D04 表示装置 D05 蛍 灯 CCFL D06 CCFL以外 照明装置

D07 X線装置 D071 産業用機器 例 非破壊検査用機器

D072 療機器 例 ン ン D073 そ 他

D08 撮像装置

D09 帯電装置 D091 ン 帯電装置

D092 ^{空気清浄機 帯電装置} D093 そ 他

D10 ^真空計

D11 そ 他 応用製品 D01～D10 い

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大分類 中分類 分類 細分類

E 電界 出型 細部 E01 ッ 材料 E011 金属 金属酸化物 W,W/ZrO等

E012 化物 LaB6等

E013 ン CNT

E014 CNT以外 炭素 E0141 ン

E0142 ン E0143 そ 他 E015 そ 他

E02 ^{巨視的形状 全体 形状} E021 ^{面基板 形成}

E022 そ 他

E03 ^{微視的形状} E031 ^{柱状 錐体}

E032 ^{繊維状 針状} E033 鋭部を有し い E034 そ 他 E04 駆動回路 制御回路

E05 冷陰極 ン ン 技術 E051 形状 再生

E052 脱 吸着

E053 そ 他 E06 そ 他

F 半 体型 細部 F01 電子 出面 坦 F02 電子 出面 鋭部を有 F03 基板 終端処理 F04 そ 他 G 面 垂 直 電 界 を

持

G01 MIM型 MIS型

G02 弾道電子型 BSD型 G03 そ 他

H ^{面 行 電 界 を}

持 ^{H01 面 形成した}

H02 斜面 形成した H03 そ 他

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第₂章 冷陰極電子源 市場環境調査

第1節 市場 概要

1 冷陰極型電子源市場全体 動向

1 ^{市場規模 冷陰極型電子源 関連 製品 市場}

冷陰極型電子源 主 電子顕微鏡 _X線装置 電子線露 装置 組 込

2015 ^{現 世界 冷陰極型電子源 関連 製品 市場規模} X^{線装置 約}8,500^億 電子顕微鏡 約1,800億 多 占 電子線露 装置 約400億 合計 1^{兆 以}

2 ^{冷陰極型電子源 関連 製品市場 拡大 減少傾向}

記 通 冷陰極型電子源 関連 製品 う _X線装置 電子顕微鏡 売 金 大 い _X線装置 民生用 療用 含 冷陰極 型化 市場 拡大 期待さ

電子顕微鏡 市場 冷陰極 解能 向 需要増大 期待さ 市場全体 拡大傾向 あ 推定さ

2 ^{冷陰極型電子源 関連 製品 市場動向}

1 ^{電子顕微鏡 市場規模}

冷陰極型電子源 含 走査型電子顕微鏡 _SEM 国 市場 _{2009 127}億 あ 2011 以降増加 2014 177億 2020 200億 到遉 測さ い ₂₀₁₄ 時点 ₂₀₁₅ 走査型電子顕微鏡や透過型電子顕 微鏡 _TEM 含 電子顕微鏡全体 国 市場 約 ₂₀₀ 億 到遉 測さ い

2 X^{線装置 市場規模}

大半 _X線装置 熱陰極 使わ 冷陰極 特 用途以外 使用さ い い 冷陰極型電子源 例 国立研究開 法人産業技術総合研究所 _X線技術 使用

開 さ 型X線 生装置 あ 乾電池 電源 型 冷陰極X線装置 注目さ い

3 電子線露 装置 市場規模

半 体 産 ン 製作 _CAD 付 電子線露 装置

使わ 微細化 応 直 必要性 増 考え 益々電子線 画装置 要

4 ^{照明装置 市場規模}

冷陰極型電子源 用い 照明 CCFL 含 照明機器 市場 い LED 爆 的 長 い いう 市場 一般的 見方 あ

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第₃章 冷陰極電子源 策動向調査

冷陰極型電子源 関 科学技術 策 産業 策 例え 国家 及び 算

等 各種 策 い 把握 あ 材料 含 調査

第₁節 技術戦略 ッ ₂₀₁₀ 応関

技術戦略 ッ 日本 研究開 効果的 展開 産学官 門家 作

さ 経済産業省 技術 ッ あ _{2010 6} 表 技術戦

略 ッ ₂₀₁₀ 象技術 情報通信 材料 新製造

環境 融合戦略領域 8 領域

さ 冷陰極型電子源 材料 置付 推察さ

い _IT 情報通信 環境

ン 計測評価装置 多 産業 科学技術 進歩や課 解決 献 産業振興や人間 豊 暮 安全 安心 快適 社会 実現 要 技術 捉

え 全体 技術 ッ 表現 3-1 示 う

ッ 冷陰極型電子源 _3-1 示 う 領域

ン CNT ン ン 領域 ン

ッ 伝 計測 ョン 領域 電子顕微鏡

走査型 顕微鏡 関連性 深い 推察さ

3-1 技術 ッ

出 ：技術戦略 ッ 2010 新 産業技術開 現状 将来 / 犉 新 産業技術総合開 機構

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第₂節 冷陰極型電子源

国 科学技術基本計画 基 集中投資 点 一

挙 基礎研究 含 幅広 支援 冷陰極型電子源 研究開 国や自治体等 支援 実例 あ

表_3-1 科学技術振興機構 支援 概要

事業 策 組 容 事業実施機関

予 算 復興 進

成24～27 度

大線 射線を発生 冷 陰極式X線管 開発

産業用X線照射装置 大線 冷陰極X線管 開発

電子 射特性 優 た ン 構造体 を用い 予熱無し 簡便 動作 こ

大面積 照射範囲 大 大線 照射 長 命 従来 X線管を超え

性能を持 射線照射装

置用X線管を開発 こ を目指

独 産業技術総合研究所

株 ン ン

8,000万 4 間合計

A－STEP 本格研 究開発

実用化挑戦

技術移転支援 成24～28 度

型 軽 可搬型X線検査装 置

超 型 高 X線装置 高い 画質 高速 撮像可能 ン

加え 大容 伝送無線技術 さ

最 端 技

術開発 配管用 型軽 可搬型X線 検査装置を実現

独 産業技術総合研究所

く 株

3億 5 間合計

研究成果展開事 業

端計測分析 技術 機器開発 成21～23 度

世代IMS ン 用 増強型 軸 筒 ン化 ン 開発

悪臭計測や 策 ンサ へ

応用 期待さ い ン

分析装置 IMS 検出限界を 現 市販さ い 10³倍向 さ こ を目的 し 軟X線励起

ン化 電子 現象を併用し

た高出力 ン化 ン 開発を行う

近畿大学 株 ッ ョン

6,000万 3 間合計

研究成果展開事 業 端計測分 析技術 機器開 発

端計測分析 技術 機器開発

成21～22 度

材料創成 資 動的そ 場解析 た X線吸収測定 装置 関 調査研究

実験室 び く 現場 動的そ 場 解析 可能 X線吸収分 測定 XAFS 装 置 開発を目的 し 動的そ 場解析 た 測定系 各要素開発

開発 製品化 可能性 びそ 応

用分 関 調査研究を 外

射 施設や大学 研究所等 最 端 技術動向調査や予備実験 を通し 行 う

独 産業技術総合研究所 株

1億 2 間合計

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事業 策 組 容 事業実施機関

予 算 端計測分析技

術 機器開発事 業 要素技術

成17～20 度

X線源 開発

積層構造を観察 解析 手法 開発 半 体産業 い 緊急 課題 あ また 生体細胞 部 微 領域可 視化 生体機能 解明 不可 あ こ

課題へ 決定策 微細構

造 元可視化 あ こ た 電子 ン型 高輝度 極微 焦点型X線源 を開発し い そ を基幹要素 微 細組織X線断層撮影法 仮称

開発を目指

古屋工業大学 東芝

東京大学

2.8億 4 間合計

端計測分析技 術 機器開発事 業 要素技術

成20～23 度

構造制御LaB6 世代電 界 射電子銃 開発

電界 射特性 い 構造LaB6 電子 源 し 従来 い高輝度 大電流密度 長時間安定性 特性を こ を明

し た 本開発 LaB6を 構 造制御 冷電界 射点電子源 し

使用可能 し 最適化し こ 1nm 空間分解能を 世代高輝度 高分解 能電子銃を開発 こ 電子銃開発

電子顕微鏡 電子銃を使用 計 測 分析機器 性能 飛躍的 向 こ

期待さ

独 物質 材料研究機構

8,000万 4 間合計

戦略的創造研究 推進事業 端 的低炭素化技術 開発 ALCA

成24～28 度

超高耐 高効率 型真空

ワ ッ

真空 高耐 ン 持 固有

物性を利用し 発送電領域向け 超高耐 高効率 型真空 ワ ッ を開発 従来技術 遠隔地 発電した電力 送電 巨大 装置を要 こ

ワ ッ 送 電装置を 型化

し 新た 送配電 ッ 網構築 貢献 こ 技術 膨大 洋 風力 未使用再生可能 を日本全体

有効活用 実現 期待さ

独 産業技術総合研究所

1.5億 5 間合計

1 ^{炭素系高機能材料技術 関 体例}

国 産業科学技術研究開 業 一環 ₁₀ ～ ₁₄ 度 ₅ 間 亘 新規 炭素系材物質等 合 技術 開 行う 産業利用 展さ 材料化 技術 開 行い 従来材料 い優 電気的特性 電子 出 特性 摺動特性等 及び機械的機能 炭素系高機能材料 産業化 基盤技術

ン ン 確立 目的 炭素系高機能材料技術

ン ン 実施さ

2 炭素材料 関 体例

新 産業技術総合開 機構 _NEDO 様々 技術 支援

材料 技術 う 冷陰極型電子源 関連 材料 部

材 い 以 表_3-2 概要 示 支援 行わ い

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表_{3-2 NEDO} 炭素材料 関 概要

事業 策 組 容 事業実施機関

予 算 炭素材料 実用化技術

開発助成事業

炭素材料 応用基盤技 術開発委 事業

成22～28 度

低炭素社会を実現 炭素材料実用化

新しい単層 ン 等高い省 効果を 有 炭素材料 実用化 推進 た 幅広い製品 実用

技術 開発 実証 高 品質 産技術 確立 安全性評 価 た 計測技術等 基盤 技術開発を行う

技術研究組合単層CNT融合 新材料研究開発機構

独 産業技術総合研究所 日本電気 株

日本 ン 株 17.5億

成27 度

第₃節 冷陰極型電子源 応用製品 関

冷陰極型電子源 高輝度 広 さ 微少 源 作

能 あ 電子顕微鏡用途 い 極 大 優 性 さ い

冷陰極型電子源 望 応用製品例 一 電子顕微鏡 関 国 海外 抽出 整理

1 国 電子顕微鏡 関 体例

最近 最 端研究開 原子 解能 電子顕微

鏡 開 応用 総 算50億 計 さ さ 強化 算 12億 追加さ い 総 算₅₀億 う 高輝度電子銃 要素開 ₂億 算 計 さ 更 ₂ 千万 追加さ 本 参画機関 株式会社日立製作所 理化学研究所 科学技術振興機構 ₃機関 あ

2 海外 電子顕微鏡 関 体例

科学技術動向_{No.116 2010 11} 号 科学技術動向研究 ン 行 電子 顕微鏡 差補 技術開 世界的動向 日本 現状 世界 主 差補 電子顕微鏡 一覧 掲載さ い 世界各国 高性能 電子顕微鏡 研究

開 行わ い わ

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第₄章 冷陰極型電子源 特許動向調査

第1節 全体動向調査

1 出願人国籍別 出願件数推移及び出願件数比率

出願人国籍別 出願件数推移及び出願件数比率 _4-1 示 _{1990 2013} 出願人国籍別 特許出願件数比率 日本 _52.6% 倒的 高 い 韓国 _20.7% 米国 _14.2% 欧州 _7.3% 中国 _3.3% い 件数推移 い ₂₀₀₄ ～₂₀₀₆

韓国 急増 時期 除 日本 出願 倒的 多い わ

4-1 [^{出願 ：日米欧中韓}][^特許]^{出願人国籍 地域} 別特許出願件数推移及び出願件数比率 優 主張 ：_1990-2013

注 ₂₀₁₂ 以降 ベ 録 遅 _PCT出願 各国移行 等 全 映 い い 能性 あ

378 366 ³⁹⁹ 622

862

1,089 1,084 1,107 1,095 1,451

1,117 1,168 1,171 1,295

1,721 1,630

1,244 865

622 418 ₃₃₁

258 ₂₂₅ 107 0

200 400 600 800 1,000 1,200 1,400 1,600 1,800 2,000

1990 1991 1992 1993 1994 1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 2005 2006 2007 2008 2009 2010 2011 2012 2013

日本国籍 米国籍 欧州国籍 中国籍 韓国籍 その他 合計

出 願 件 数

優 権主張 1990-2013

出願 優 権主張 出願人国籍 地域

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2 ^{出願 国 地域 出願人国籍 地域 別出願件数 支}

出願 国―出願人国籍別 出願件数 支 _4-2 示 各国 出願人国籍 比率 示 矢印 太さ 各国 出願 比率 相 的 示 い 韓国 出 願 除 日本 米国 欧州 中国 出願 日本国籍 出願人 一番多い わ

日本 自国出願人比率 85%近 韓国 自国出願人比率 70%近 い

4-2 [^{出願 ：日米欧中韓}][^特許]^{出願 国 地域 出願人国籍 地域 別出願件数 支 優} 主張 ：_1990-2013

日本国籍 1,145件

43.9%

米国籍 500件 19.2% 欧州国籍

642件 24.6% 中国籍

7件 0.3%

韓国籍 295件 11.3%

その他 20件 0.8%

欧州への出願

日本国籍 754件 40.2%

米国籍 161件

8.6% 欧州国籍

85件 4.5% 中国籍

521件 27.8% 韓国籍

318件 16.9%

その他 38件 2.0% 中国への出願

日本国籍 1,813件

41.4%

米国籍 1,265件 28.9% 欧州国籍

273件 6.2% 中国籍

109件 2.5%

韓国籍 739件 16.9%

その他 184件 4.2% 米国への出願

日本国籍 772件 22.0%

米国籍 229件

6.5% 欧州国籍

78件 2.2% 中国籍

2件 0.1% 韓国籍

2,427件 69.0%

その他 9件

0.3% ^{韓国への出願}

日本国籍 5,753件

84.9% 米国籍

355^件 5.2% 欧州国籍

211件 3.1%

中国籍 16件 0.2%

韓国籍 414件 6.1%

その他 31件 0.5%

日本への出願

273件 355件

16件

211件

1,813件 414件

2件

1,145件

7件

295件

229件

772件

85件

318件 161件

4,383件

1,877^件

6,780件

3,517件 2,609件

754件 109件

78件 500件

739件

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第₂節 技術 分別動向調査 1 技術 別出願件数推移

1 技術 A 型式 別出願件数推移

4-3 ^技術 A^{型式 別出願件数推移 示 わ う} A01^電界 出型 出願件数 倒的 あ _{1999 2006} 間 出願 多 冷陰極 型電子源 出願件数推移 傾向 _A01電界 出型 出願件数推移 依存 い わ A04 ^{面 行 電界 持 出願件数推移 早} 1993

出願さ い わ 2005 境 急激 減 い A02

半 体型 全体 件数 少 い _A03 面 垂直 電界 持 件数 少 い 最

近 出願さ い わ

4-3 [出願 ：日米欧中韓][特許]技術 A 型式 別出願件数推移 優 主張 ：1990-2013

A01 電界放出型

301 _{275 340}

424 617 802 837 862 799 1,079 1,032 981 1,052 1,237 1,597 1,522 1,181 788 591 356 ^{305 262 229 110}

A02 半 体型 pn接合を有するもの

19 22 14 7 11 20 16 32 42 36 19 42 4 17

9 21

1 5 5 3 7 5

A03 面垂直電界を持つもの

MIM型、弾道電子型

13 20 5 18 15 38 37 103 90 89 31 123 126 77 110 89 100 69 7 52 36 9 ₁₅ 7

A04 面 行電界を持つもの

表面伝型等

58 58 43 203 263 308 275 185 286

362 ^{158 176 157 166 218 150 88 82 114 49 22 11 2}

A05 その他 ^{7 7 9 2 4 2 1 3 7 6 15 13 7 17 4 1}

1990 1991 1992 1993 1994 1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 2005 2006 2007 2008 2009 2010 2011 2012 2013

技 術

分

優 権主張1990-2013

出願 優 権主張

本

編

目

要

約

第

部

第

部

第

部

第

部

第

部

第

2 ^技術 C ^{製造方法 特徴 あ} D ^{特定 製品 特化 別出願件数} 推移

4-4 技術 C製造方法 特徴 あ D特定 製品 特化 別出 願件数推移 示 _C製造方法 特徴 あ 示 い 特定 製品 特 化 D い D01～D10 製品 別 出願件数推移 示 D011 記

別さ い新規 用途 関 出願 _D012 製品 用途 列挙 あ 体的 記述 い _D04表示装置 関 出願 非常 多 い D05,D06 ^{含 照明関 出願 多い 近} D01^{電子顕微鏡} D071

～_D073 含 _X線関 出願件数比率 高 _D02電子線露 装置 増

え い

4-4 [出願 ：日米欧中韓][特許]技術 C 製造方法 特徴 あ D 特定 製品 特化 別出願件数推移 優 主張 ：1990-2013

C ^{製造方法特徴があるもの} 226 180 240 400 553 699 682 704 775 988 699 728 671 675 845 725 591 437 328 195 202 148 195 66

D01 電子顕微鏡 ^{10 24} 35 58 35 39 35 75 68 51 61 33 43 45 46 98 54 61 31 24 26 45 24 19

D02 電子線露装置

10 12 15 12

52 35 35 22 46 47 49 38 38 39 49 94 29 35

13

20 20 40 21 ⁶

D03 樹脂レ 硬化装置

1 5 13 5 ^{1 7 1 1} 1

26 ^{10 3 4}

D04 表示装置 142 170 261 453 692 838 797 852 919 1,144 932 819 902 980 1,331 1,117 1,006 526 404 210 143 79 100 38

1990 1991 1992 1993 1994 1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 2005 2006 2007 2008 2009 2010 2011 2012

D05 蛍灯CCFL ⁹

1 ₁₅

12 6 18 11 18 4 ^{24 26 50 33 56 119 123 75 109 84 36}

18

30 ^{3 5}

D06 CCFL以外の照明装置 ¹²

8 34 ₂₃

89 125 63 185 118 101 78 103 117 134 217 255 237 230 142 144 109 55 34 34

D071 産業用機器(X線装置) ^{1 2} 21 20 ^{1 14 9 1 3 1 4}

D072 療機器(X線装置) ^{2 7 2 1 3 8} 22 21 ⁵ 29 ^{3 12 9}

2 8 ₈

D073 ^その他X^{線装置 2 1 12 1} 24 ^{10 1} 26 26 20 31 22 16 31 44 23 30 32 27 43 12

D08 撮像装置 ^{2 5 5 2 5 8 15} 33 ^{10 14 10 11 2} 20 ^{6 14 7 5 15 7 4 9 5}

D091 ｰﾌﾟﾘﾝﾀの帯電装置

4 2 2 3 7 9 5 8 12 4 17 4 4

29 ^{13 2 1 4}

D092 空気清浄機の帯電装置 ^{1 1}

D093 ^{その他帯電装置}

11 1 _{3 8} 4 2 3 1

D10 真空計 ^{11 2 10 7 13 12 11 12 12 7 8 6 11 1 3 1 9}

3 3

D11 その他新規特殊用途 77 98 58 50 65 84 52 36 56

29

50 67 89 94 58 50 44 62 58 33 28 58 51 ²³

D12 その他応用製品列挙の 69 49 41 87 56 90 113 147 92 125 56 70 83 85 37 86 61 74 39 28 ²³ 48 ^{21 16}

2013 優 権主張1990-2013

出願 優 権主張 技

術 分

本

編

目

要

約

第

部

第

部

第

部

第

部

第

部

第

部

2 ^{技術 別 出願人国籍 地域 別出願件数}

1 技術 A 型式 別 出願人国籍 地域 別出願件数

4-5 A^{型式 い 出願人国籍別 出願件数 示} A01^{電界 出型 い} 全 出願人国籍 い 一番多 出願 い 日本 出願 A04面 行 電界

持 _A03面 垂直 電界 持 い 他 国籍 出願 比較 多 出願 行 い 件数 少 い 韓国 出願 日本 似 う 傾向

4-5 [出願 ：日米欧中韓][特許]技術 A 型式 別 出願人国籍 地域 別出願件数 優 主張 ：1990-2013

本

編

目

要

約

第

部

第

部

第

部

第

部

第

部

第

2 ^技術 C ^{製造方法 特徴 あ} D ^{特定 製品 特化 別 出願人} 国籍 地域 別出願件数

4-6 製造方法 製品別 出願人国籍 地域 別出願件数 示 D04表示装置 関 出願 非常 多 い _D05,D06 含 照明関 出願 多い い 電子顕微 鏡 関 出願 多い 他 日本 出願 D02電子線露 装置 関 出願 多

米欧韓 い _X線 関 出願 多い

4-6 [^{出願 ：日米欧中韓}][^特許]^技術 C ^{製造方法 特徴 あ} D ^{特定 製品 特化} 別 出願人国籍 地域 別出願件数 優 主張 ：_1990-2013

C 製造方法 特徴があるもの 6,260 1,844 974 523 2,129 222

D01 電子顕微鏡 554 250 ^{150 23} ₄₃ ²⁰

D02 電子線露 装置 541 ^{124 41 16 48 7}

D03 樹脂レ 硬化装置

54

22 2

D04 ^表示装置 7,634 2,223 851 480 3,383 284

日本 米国 欧州 中国 韓国 その他

D05 蛍 灯CCFL 546 ₇₁ ^{145 26}

82

15

D06 CCFL以外の照明装置 1,344 235 294 ⁵¹ 669 ⁵⁴

D071 産業用機器(X線装置) ^{30 39 6} 1 ¹

D072 ^療機器(X^線装置) ^{46 52 26 3 15}

D073 その他(X線装置) ^{111 122 104 13 73 11}

D08 撮像装置 ^{146 33 30} 3 ²

D091 ｰﾌﾟﾘﾝﾀの帯電装置

125 2 3

D092 空気清浄機の帯電装置 ²

D093 その他 ^{7 6}

20

D10 真空計 ^{34 11 72 25}

D11 その他新規特殊 用途 636 414 201 ^{36 67 16}

D12 その他応用製品列挙の 887 366 195 ^{18 108 22}

技 術 分

出願人 国 籍 地 域

本

編

目

要

約

第

部

第

部

第

部

第

部

第

部

第

部

3 ^技術 E ^{電界 出型 細部 別 出願人国籍 地域 別出願件数}

4-7 A01^{電界 出型 関 細部}E ^{い 出願人国籍 地域 別出願件数 示} 中国 除 各国 特 E021 面基板 形 関 出願 多い 中国

韓国 い ン 関 出願比率 高い

4-7 [^{出願 ：日米欧中韓}][^特許]^技術 E ^{電界 出型 細部 別 出願人国籍 地域 別出願} 件数 優 主張 ：_1990-2013

E011 金属金属酸化物W,W/ZrO 等

2,592 734 418 82 572 69

E012 ^化物LaB6^{等 236 12}

21 5 14

E013 ン ノ CNT) 1,767 697 285 462 2,246 171

E0141 グラ ン 101 ^{20 14} 158

E0142 イ ン 507 390 150

11

888

39

日本 米国 欧州 中国 韓国 その他

E0143 その他CNT以外の炭素 858 370 198

30

1,100

53

E015 その他 ミッ 材料

750

304 ₁₇₄ ^{20 548 34}

E021 面基板 形成

5,529

2,527 1,062 280 3,603 325

E022 その他

1,457

383 417 150 184 ⁴⁰

E031 柱状錐体

2,273

1,245 531

51

910 123

E032 繊維状針状 1,243 587 325 151 1,258 78

E033 鋭部を有し いもの 748 283 149 ³⁵ 697 59

E034 その他 587 328 103 65 268

49

E04 駆動回路制御回路 520 179 89

4

179

13

E051 形状の再生

37 _{8 6} ⁷

E052 脱 吸着 106

57 38 7 58 ³

E053 その他冷陰極ンテ ン 技術

28 21 14 ²⁰

E06 その他電界放出型の細部 120 ³⁵ 60 58

技 術 分

出願人国籍 地域

本

編

目

要

約

第

部

第

部

第

部

第

部

第

部

第

4 ^技術 F ^{半 体型 細部 別 出願人国籍 地域 別出願件数}

4-8 A02^{半 体型 細部}F ^{い 出願人国籍 地域 別出願件数 示} わ う 日本 欧州 出願人 出願 大部 占 い わ

4-8 [出願 ：日米欧中韓][特許]技術 F 半 体型 細部 別 出願人国籍 地域 別出願件 数 優 主張 ：1990-2013

F01 ^{電子放出面が 坦 もの} 128 37 48 8 23

F02 ^{電子放出面 鋭部} を有するもの

53 5 18 3 8

F03 ^{基板終端処理} 10 5 2

F04 その他 3

日本 米国 欧州 中国 韓国 その他

出願人国籍 地域 技

術 分

本

編

目

要

約

第

部

第

部

第

部

第

部

第

部

第

部

3 ^{技術 別}-^{出願人国籍 地域} 別出願件数推移及び出願件数比率

1 技術 A01電界 出型 -出願人国籍 地域 別出願件数推移及び出願件数比率 4-9 A01^{電界 出型 い 出願人国籍 地域} 別出願件数推移及び出願件数比 率 示 出願件数 日本 出願 半数近 占 い い 韓国 米国 順

い _A01電界 出型 出願件数推移 ₁₉₉₀ 代半 増加 ₂₀₀₄

減少 い 日本国籍 出願 全体傾向 似 出願推移 持 い 米国 2000 ^{早期 出願 減少 い}

4-9 [出願 ：日米欧中韓][特許]技術 A01電界 出型 -出願人国籍 地域 別出願件数推移 及び出願件数比率 優 主張 ：1990-2013

注 ₂₀₁₂ 以降 ベ 録 遅 _PCT出願 各国移行 等 全 映 い い 能性 あ

301 275

340 424

617

802 ^{837 862} 799

1,079 1,032

981 ^1,052 1,237

1,597 1,522

1,181

788

591

356 ₃₀₅

262 229 110 0

200 400 600 800 1,000 1,200 1,400 1,600 1,800

1990 1991 1992 1993 1994 1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 2005 2006 2007 2008 2009 2010 2011 2012 2013

日本国籍 米国籍 欧州国籍 中国籍 韓国籍 その他 合計

出 願 件 数

優 権主張 1990-2013

出願 優 権主張

出願人国籍地域