φ 基板用 φ
装置コンセプ
A
Ａ Ｄ装置
成膜 ャン
制
御電源部を一体化す こ
小型軽
量化を実現したコン
ク
卓
設置可能
研究開発用
装置 す
φ
±
A
以
す
また 装置価格 コン
ク 化
部品
点数を抑え
万
以
買い求 や
すい価格を実現しました
特徴
前面 ッ
ネ
成膜 ロ
を設定
き 圧力や動作状況を確認 きます
真空排気
成膜ま 設定した ロ
を
自動 実施し 成膜終了後
ベン
ン
を押せば基板を取 出せます
サ
系統搭載し 対応基板
φ “ま
ます
性能及び仕様 ]
到達圧力 Ｖａｃ ｍ Ｐ ｅ ｅ
膜厚分布 φ ｍｍ A ± A A
成膜方向 ウン
基板サイ φ ｍｍ A
基板加熱温度
℃ ＡＸ 基板 温度
Ｔｅｍｐｅ ｅ ｅ
サ ン 個 加熱温度 ℃
Ａ Ｄ A 開閉 加熱温度 ℃
機構
二― Ｆメ 付
排気 ン ロ ン
設置 ]
本体 重量 面積 A × ×
ロ ン 重量
用力 ]
電力 φ ± A
接地 種接地 Ω
～
圧縮空気 ～
ン 排気 ン
筐体排気 φ × ク ア A
ョン ]
基板 回転機構
サ ン 加熱温度 ： ℃ A
お問い合わせ先
東横化学株式会社
事業開発室
Tごl：044-435-5858
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