• 検索結果がありません。

TCF の比較

ドキュメント内 目次 (ページ 38-44)

Coaxial cable

4.3 SiO 2 / LiNbO 3 構造 SAW フィルタの比較評価

4.3.2 TCF の比較

表4.2にTCFの比較に用いたSAWフィルタの仕様,図4.4にTCFの比較を示す.両SAWフィルタとも対数N

= 22, 伝搬路長L = 0.2 mmである.SiO2皮膜ありはTCFSiO2 = -13.1 ppm/℃となり皮膜なしTCFwithoutfilm =

-75.6 ppm/℃に比べてTCFが5.8倍改善した.また,4.5に示すように測定結果はTCFの計算値と一致している.

表4.2 TCFの比較に用いたSAWフィルタ

SAW

SiO2Thickness HSiO2(µm)

Al Thickness HAl(µm)

Wavelength λ(µm)

Overlap length W (mm)

without film —

0.12 15.6 7.8

SiO2 film 3.7

4.3 SiO2 / LiNbO3 構造SAWフィルタの比較評価 39

0 20 40 60 80

Temperature [ ° C]

-5000 -4000 -3000 -2000 -1000 0 1000 2000

F re q u e n cy S h ift D f/ f

0

[ p p m ]

without film -75.6 ppm/

°

C

-13.1 ppm/ h/

l

=0.237

°

C

図4.4 TCFの比較

0 0.1 0.2 0.3 0.4

Normalized Film Thickness h/  -80

-60 -40 -20 0 20 40 60

T C F (p p m /  C )

h/

=0.237 Calculated TCF

(Metallized surface)

without film

: Measured TCF

SiO2 film

図4.5 TCF計算値と基準温度における傾きより求めた測定値との比較

40 第4章 SiO2 /LiNbO3 構造SAWフィルタの基礎検討

4.3.3 遅延時間の比較

表4.3に遅延時間の比較に用いたSAWフィルタの仕様,表4.4に遅延時間の比較, 図??に出力波形の比較を示す.

両SAWフィルタとも対数N = 22,伝搬路長L = 0.2 mmである.

SiO2皮膜ありの遅延時間は皮膜なしと比較して26 ns増加したが出力波形はほとんど変化していない.一般的に SiO2皮膜したSAWフィルタの位相速度は遅くなるため,遅延時間は大きくなると予測される.しかしながら本測定 では,SAWフィルタの個体差ためSiO2皮膜したSAWフィルタの遅延時間の方が小さくなったと考えられる.

表4.3 遅延時間の比較に用いたSAWフィルタ

SAW

SiO2Thickness HSiO2(µm)

Al Thickness HAl(µm)

Wavelength λ(µm)

Overlap length W (mm)

without film —

0.12 15.6 7.8

SiO2 film 3.7

表4.4 遅延時間の比較

SAW Rise(ns) Fall (ns) Total (ns)

without film 66 76 142

SiO2 film 58 58 116

図4.6 出力波形の比較

4.4 まとめ 41

4.3.4 絶縁性能の比較

表4.5に絶縁性能の比較に用いたSAWフィルタの仕様,図4.7に絶縁性能の比較を示す.両SAWフィルタとも対 数 N = 22,伝搬路長L = 0.2 mmである.SiO2皮膜なしのSAWフィルタはVDC= 1090 VでIDTが絶縁破壊さ れ,SiO2皮膜ありのSAWフィルタはVDC= 1350 VでIDTが絶縁破壊された.したがって,SiO2皮膜により絶縁 性能は1.24倍向上した.これは,SiO2の絶縁破壊電界(200 kV/cm)が空気の絶縁破壊電界(30 kV/cm)よりも大 きいため,絶縁性能が向上したと考えられる.

表4.5 絶縁性能の比較に用いたSAWフィルタ

SAW

SiO2Thickness HSiO2(µm)

Al Thickness HAl(µm)

Wavelength λ(µm)

Overlap length W (mm)

without film —

0.12 15.6 7.8

SiO2 film 1.0

(b) SiO

2

皮膜あり (a) SiO

2

皮膜なし

図4.7 絶縁性能の比較

4.4 まとめ

本章では, 挿入損失, TCF, 遅延時間,絶縁性能の4点においてSiO2 / LiNbO3 構造SAWフィルタの基礎検討を 行った.挿入損失と遅延時間においてSiO2皮膜の有無はほとんど影響はなかった.TCFにおいては SiO2皮膜より 5.8倍改善し,絶縁性能においては1.24倍向上した.以上の結果より提案システムにSiO2/ LiNbO3 構造SAWフィ ルタを採用することは有効な手法であることを明らかにした.

43

5

SAW フィルタのパターン設計

44 第5章 SAWフィルタのパターン設計

5.1 まえがき

本章では提案システムにさらに適したSAWフィルタのパターン設計について述べる.提案システムの実用化に向け てSAWフィルタのさらなる性能向上は必須と考える.先行研究では使用する周波数帯域と伝搬路長について検討した が,未だ検討していない課題や第3章で述べた単相3レベルインバータの動作検証により新たに生じた課題がある.そ こで本研究では,各SAWフィルタの中心周波数間の狭小化,伝搬路長の短縮,インピーダンスマッチングの改善を検 討し新たなSAWフィルタのパターン設計を行った.

ドキュメント内 目次 (ページ 38-44)

関連したドキュメント