ソースコード

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54 て座標データを書き込む

for (i = 66; i >0; i = i--) {

x = (x - 3);//x座標3マス戻る

fprintf(fp, "%d,%d¥n", (int)(x*factor), (int)(y*factor));//ピクセル値 に変換して座標データを書き込む

}//y軸に対してイオンドットを平行移動させる2マス刻み

fprintf(fp, "%d,%d¥n", (int)(x*factor), (int)(y*factor));//ピクセル値に変換し て座標データを書き込む

y = (y + 3);//y座標を下の段に移動 }

fprintf(fp, "%d,%d¥n", (int)(x*factor), (int)(y*factor));//ピクセル値に変換して座標デ ータを書き込む

for (i = 0; i < 66; i++) {

x = (x + 3);//x座標を3マス進める

fprintf(fp, "%d,%d¥n", (int)(x*factor), (int)(y*factor));//ピクセル値に変換し て座標データを書き込む

}//ｙ＝Y＋498.5の場合だけ残ってしまったので往復なしで追加 if (fclose(fp) != 0) {

perror("ファイルのクローズに失敗¥n");

} else {

printf("終了¥n");

}//座標の移動の仕方 return 0;

}

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謝辞

本研究を行うにあたり、丁寧且つ的確な助言で終始ご指導頂き、また、素晴らしい研究環 境を提供してくださった花泉修教授、加田渉助教に心より感謝致します。

本研究の審査を引き受けていただき、さらに多数のご指導をくださいました神谷富裕教 授および三浦健太准教授に心より感謝致します。

PBW 技術を用いた微細加工を行うにあたり、３MV シングルエンド加速装置をお借りさ せて頂いたQST高崎量子応用研究所の関係者各位に心より感謝致します。

鋳型作製の作製プロセスの指導や実験装置をお借りさせて頂いた本学SyncMEMS Labの 鈴木孝明先生に心より感謝致します。

最後に私の研究のサポートをしてくださった横澤茂行氏、三浦聡氏、高橋龍平氏、栗原諒 氏、および電子デバイス分野第３研究室の皆様に心より感謝致します。

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参考文献

[1] 横山浩 and 秋永広之, 電子線リソグラフィ教本,オーム社, 第1版. 2007.

[2] M. Kashiwagi, Y. Hoshi, and N. H. V Corporation, “電子線照射装置の技術とその利用,” pp.

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[4] W. F, A. B. A, A. V. K. J, J. T. E, and B. H. B. M, “ION BEAM LITHOGRAPHY AND NANOFABRICATION A REVIEW,” vol. 4, no. 3, pp. 269–286, 2005.

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[19] N. Xie, T.Hashimoto, and K.Utaka, “IEEE Photon. Technol. Lett., vol.24, no.24, pp.1861-1863, Dec. 2009No Title.”