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1%になった.独立したゲートを持つダブルゲートトランジスタは図 4-17(c)のトランジスタ及び電源/接地の縦幅は FinFET と同じであるが,2 入力の論理を 1

第 3 章 の参考文献

たパターン面積は 57. 1%になった.独立したゲートを持つダブルゲートトランジスタは図 4-17(c)のトランジスタ及び電源/接地の縦幅は FinFET と同じであるが,2 入力の論理を 1

つの

Fin

で実現できるために,

FinFET

よりもパターンレイアウト上の

Fin

の数が少なくな

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るためにトランジスタ及び電源/接地部分の横幅を縮小することができる.それによって配 線部分の横幅も縮小することができるためにパターン面積を

46.6%に縮小することができ

た.それに対して提案方式は

VDD

VSS

の配線の真下にレイアウトすることによりのト ランジスタ及び電源/接地部分の面積を大幅に縮小することができる.さらに回路の方向を 最適化(トランジスタを

90°回転)することによって FinFET

50%,独立したゲートを

持つダブルゲートトランジスタの

61%のパターン面積で実現することができる.

4-18

に検討に用いた

4bit multiplexer

の回路図を示す.

1bit-Full Adder

と対照的に論 理ゲート数と比較して入出力数が多い構成になっている.トランジスタのチャネル幅は

NMOS,PMOS

ともに

10F

とした.平面型で構成した場合のパターン面積を

100%とする

と,

FinFET

69.2%,独立したゲートを持つダブルゲートトランジスタは 68.2%,提案方

式は

32.0%で実現できることがわかった(図 4-19)

.ソース,ドレインに入力が入り,さら

に入出力数が多く,配線が複雑に入り組んでいるために配線領域のパターン面積が非常に大 きくなっている(図

4-16

1bit-Full Adder

は配線部分の面積が

20%であったが,4bit

multiplexer

では

38%).そのため,配線領域のパターン面積を縮小することが難しい

FinFET

や独立したゲートを持つダブルゲートトランジスタでは

1bit-Full Adder

の場合ほ どパターン面積を縮小することができなかった.また,

FinFET

と独立したゲートを持つダ ブルゲートトランジスタでパターン面積がほとんど同じになった.これは,独立したゲート を持つダブルゲートトランジスタは

2

入力の論理を

1

個の

Fin

で実現できるために図

16

の ような回路ではパターン面積縮小効果が高いが,図

4-18

のように入力数が

1

の論理のみで 構成された回路では,パターンレイアウトがほぼ

FinFET

と同じようになってしまうため である.それに対して提案方式は

PMOS

の上に

NMOS

を積層しているためにソース,ド レインへ入力するために配線を大きく迂回させる必要が無い.また

VDD

VSS

があるた めにゲート電極用のポリシリコンとメタルをつなぎかえるため必要だったコンタクトも不 要になるなどの特徴があるために

FinFET

や独立したゲートを持つダブルゲートトランジ スタの半分以下のパターン面積を実現できる.

4-18.4bit multiplexer

の回路図

- 50 - 4-19.4bit multiplexerのパターンレイアウト図

4-10.結論

従来提案されていたスタック型の

3

次元トランジスタと,独立したゲートを持つダブルゲ ートトランジスタの特徴を併せ持つ独立したゲートを持つスタック型の

3

次元トランジス タを今回新たに提案した.

NMOS

PMOS

を積層出来,素子分離部分のパターン面積が不 要となりシリコン柱の両側面に異なる信号を入力出来る特徴を併せ持つため,パターン面積 の縮小効果は非常に大きい.チャネル幅が

5F

のトランジスタを

1

つの提案方式で実現した 場合,インバータは従来の平面型の場合の

18%~30%,NAND、NOR

は平面型の場合の

21%~33%に縮小出来る事がわかった.チャネル幅の小さいトランジスタの割合の大きい通

信用システム

LSI

では側壁チャネル幅を最適化することによって

24%,チャネル幅の大き

いトランジスタの割合の大きい

DRAM

用バッファ回路では側壁チャネル幅を最適化する事

によって

13%にパターン面積を縮小できる.配線領域のパターン面積も考慮に入れた

1bit-Full Adder, 4bit multiplexer

では提案方式を

VDD

VSS

の配線の直下コンパクトに レイアウトする事が出来,それぞれ

28.5%,32.0%に縮小出来る.以上のパターン面積縮小

率は,従来提案されている

3

次元トランジスタ

FinFET,独立したゲートを持つダブルゲー

トトランジスタを用いた場合と比較して非常に大きい.提案方式はシステム

LSI

の性能を 犠牲にすることなくパターン面積が縮小できるために今後のシステム

LSI

の高密度化に極 めて有効である.

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