1
特定領域研究 核融合炉実現を目指したトリチウム研究の新展開
A01班総括
-核融合炉内複雑環境におけるトリチウム蓄積挙動の実験的研究-A01班代表:上田良夫 研究分担者:日野友明(北大)、田辺哲朗(九大)、大野哲靖(名大)、 高木郁二(京大)、永田晋二(東北大)、仲野友英(JAEA) 平成20年度特定領域「核融合トリチウム」成果報告会 平成21年3月5日-6日2
炉内トリチウム研究の背景
• 炉内のトリチウム蓄積量は安全性の観点から制限
(
700g
:
ITER)
• 核融合炉内のトリチウム蓄積環境
– トリチウム蓄積場所とそのメカニズム
• 壁材料中のトリチウム蓄積 – Tイオン入射 → 拡散 → 捕獲 • プラズマ対向面の再堆積層中のトリチウム蓄積 – 壁材料の損耗 → プラズマ中輸送 → Tとの共堆積 • タイルギャップの再堆積層中のトリチウム蓄積 – イオン反射や中性ラジカルの輸送 → Tとの共堆積 • ダスト中のトリチウム蓄積 – ダストの発生(Tの吸蔵) → 輸送 → 再堆積(Tの吸蔵)– 複合的照射環境
• イオン – 燃料イオン(D、T)、燃焼灰イオン(He)、希ガスイオン(Ne、Ar) 壁材料イオン(低Z:C、Beなど)(高Z:Wなど)、 不純物イオン(Oなど) • 核融合反応中性子3
A01班計画研究のテーマ
•
炉内トリチウム蓄積やその除去に関する基礎研究
① 水素同位体・ヘリウム・壁材料イオン同時照射環境における水素同位体蓄積・ 透過挙動 ② 照射損傷が水素同位体挙動に与える影響 ③ ダストの発生と水素同位体蓄積への影響 ④ 実機における壁材料の損耗・再堆積と再堆積層の水素同位体蓄積・放出挙動 ⑤ 再堆積層中の水素同位体除去 対象となる主な壁材料:W、C(単一材料、構造材との接合材)•
炉内トリチウム蓄積に関連する基礎過程シミュレーションのベンチマーク実
験(
A02班と連携)
•
トリチウム蓄積研究データベースの構築
•
ITERやDEMO炉の
炉内トリチウム蓄積量評価法の確立と蓄積量評価
(
A02班と連携)
→
→
A01班の最終目標
4
共同研究者(研究分担者)の役割
• 上田良夫(阪大) A01班代表
– イオン同時照射環境における水素同位体蓄積挙動 – 照射損傷(イオン)が水素同位体挙動に与える影響• 日野友明(北大)
– 水素同位体の壁材料中への蓄積と放電洗浄による除去• 大野哲靖(名大)
– 高密度プラズマ中でのダスト形成・輸送・水素同位体蓄積• 高木郁二(京大)、永田晋二(東北大)
– 照射損傷(イオン)が水素同位体挙動に与える影響• 仲野友英(原子力機構)
– JT-60Uトカマクにおける炭素壁の損耗・輸送と水素同位体蓄積への影響• 田辺哲朗(九大)
– トカマクにおける炭素材料の損耗・再堆積・水素同位体蓄積挙動5
各研究テーマの詳細1
①
イオン同時照射環境
における水素同位体蓄積・透過挙動
1. 重水素D+炭素C(イオン混合照射)
炭素堆積条件、堆積層中のD蓄積量(温度、エネルギー) 現状:温度依存性初期データ取得(第一壁条件) 透過実験装置(第一壁条件)整備済、透過実験(今後の研究)2. 重水素D+ヘリウムHe(イオン混合照射)
重水素蓄積量(温度、エネルギー、He割合、He照射量) 現状:He割合依存性初期データ取得(ダイバータ条件、第一壁条件)、透過実験(今後の研究)3. 重水素D+炭素C+タングステンW(共堆積)
重水素蓄積量(温度、W割合) 現状:堆積膜生成装置(マグネトロンスパッタ源)整備済、混合成膜実験(今後の研究)4. 重水素D+ベリリウムBe(イオン混合照射)(UCSDとの共同研究)
重水素蓄積量(温度、エネルギー) 現状:来年度より実験 第一壁条件:数100eV、~1020 m-2s-1 ダイバータ条件:数10eV、1022~1023 m-2s-16
炉内複雑環境について
• ITERでは、第1壁は
Be
、ダイバータは
CFC
と
W
の使用を想定
• 融点が高く、熱伝導率の大きい
W
と
CFC
は
ダイバータ材料の候補材
•
損耗
・
輸送
・
再堆積
を通じ、異なった材
料の
混合層
が形成
• 核燃焼
He
やエッジプラズマを冷却する
ための
Ne
や
Ar
が同時入射
• JET:ITER-like wall project(2010~)
•
複数イオン同時照射環境
下での水素同
位体挙動の研究が重要
7
複合的照射環境がトリチウム挙動に与える影響
• 堆積層(deposition layer)
– Tの捕獲サイト
– Tの拡散障壁
• 混合層(mixing layer)
– Tの捕獲サイト
– Tの拡散障壁
– 表面再結合(障壁)
• ヘリウムバブル層
– Tの捕獲サイト
– Tの拡散障壁
• 照射損傷(中性子)
– Tの捕獲サイト
– Tの拡散(障壁)
C, Be D He Ne, Ar 堆積層 混合層 (カスケード混合) 混合層 (拡散混合) ヘリウムバブル 損耗 T T T T W T T T O w 拡散障壁 n 照射損傷 T8
ブリスタリングへのヘリウム同時照射影響
•
わずかな
Heの添加で、ブリス
タリングが抑制される
– He 割合 ~ 0.1%•
特に高温(
> 653 K)で効果が
顕著
–
Heバブルが水素の内部拡散を
抑制
He : 0.1% He : 0% 753 K 473 K 653 K 500 µm 500 µm 500 µm 500 µm 20 µm 20 µm 20 µm Energy :1 keV H3+ Carbon :~0.8% Fluence :~7.5 x 1024 m-2 Osaka University10
TITAN Task 1-1 WorkshopHe > Low D-retention at 573 K.
SRWM-3b D2 500 1000 1500 2000 2500 3000 P arti al P res su re (T orr) 10 -1 1 10 -1 0 10 -9 10 -8 Temperature (C) 500 1000 1500 He (Torr) D2 (Torr) SRWM-4b D2-He(20%) Time (s) 500 1000 1500 2000 2500 3000 Temperature (C) 500 1000 1500 He (Torr) D2 (Torr)Pure D
2plasma
~ 5
x10
25m
-2Γ
D~ 1
x10
22m
-2s
-1T
s~
573 K
E
i~ 60 eV
D
2–He plasma
~ 5
x10
25m
-2Γ
D~ 1
x10
22m
-2s
-1T
s~
573 K
E
i~ 50 eV
n
He+/n
e~ 20 %
11
定常高粒子束イオンビーム照射装置(
HiFIT)
60° ターボ分子ポンプ 四重極質量分析器 標準リーク フルレンジ真空計 3枚球面電極 外部磁場形成コイル マイクロ波 (2.45GHz) ガス導入ポート プラズマ拡散チャンバー 照射部 石英ロッド 赤外線ヒーターFlux:~1020 m-2, Energy: 0.1~3 keV
Æブランケット第一壁条件
透過実験装置 イオン混合照射(D + C、D + He)下での、
12
Osaka UniversityCイオン種の違いによる材料混合への影響
Gas puff position NRA測定(3Heイオンビーム)•
プラズマ炭素イオンの
堆積と混合
–
W板(
560℃
)に堆積し
ない
• 堆積層が化学スパッタリ ングで再損耗–
W板(
850℃
)にも堆積
しないが、部分的には
内部に拡散して蓄積
• 化学スパッタリングは無 視できる温度(?)•
ガスパフ(
CO)による
炭素の堆積と混合
– 低温W板(320℃)に堆積 するが、高温W板 (850℃)には堆積も内部 拡散もしない。13
D
C
D/C
50 40 30 20 10 0 原子 密度(10 16 at/cm 2 ) 440 400 360 320 280 温度(℃) 0.6 0.5 0.4 0.3 0.2 0.1 0.0 D /C 80 60 40 20 0 原子 密度(x10 16 at/cm 2 ) 700 600 500 400 温度(℃) 0.6 0.5 0.4 0.3 0.2 0.1 0.0D
D/C
C
6 4 2 0 YC D (1 0 -2 ) 700 600 500 400 300 200 温度(℃)C堆積量とD蓄積量の温度依存性
620℃ 360℃ ビームエネルギー ; 150eV フラックス ; 1.3×1020/m2sec 照射時間 ; 6600秒 炭素濃度 ; 6.4% 炭素材のスパッタリング率の温度依存性(Roth (1996)) 150 eV D○炭素堆積層形成と
化学スパッタリング率の
温度依存性は相関がある
14
0 100 200 300 400 500 600 700 温度(℃) H/C D/C既存データとの比較
1.マグネトロンスパッタリング によるSi上への共堆積層(D/C) (Alimovらによる) 2.メタンビームの照射~15eV (Von Kuedellらによる)~
0.28
0.05~0.1
本実験結果 ●炭素濃度:6.4~6.9% ●エネルギー:150eV ※1Alimov V.Kh. 2004 Phys .Scr.T 108 46 ※2Von keudell A./ Moller W.15
研究テーマの詳細2
②
照射損傷
が水素同位体挙動に与える影響
1. 拡散・蓄積を支配する基礎データの取得
・拡散係数、再結合定数、トラップ密度、平衡定数 (オーステナイト系ステンレス、フェライト鋼、タングステン) 現状:オーステナイト系ステンレス(ほぼ終了)、フェライト鋼(実施中)、W(実施中)2. 高エネルギーイオン照射損傷を与えたW中の重水素D蓄積・拡散
・水素イオン(~300 keV)による照射損傷(dpa、D照射量) 現状:初期データ取得済、dpa依存性研究中 ・タングステンイオン(~300 keV)による照射損傷(dpa、温度、D照射量) 現状:初期実験開始金属中のトリチウム蓄積量評価に必要なパラメータ
入射量 F
濃度
C
濃度
C’
拡散係数
D
再結合定数
Kr
再放出量 R
透過量 J
厚み
L
トラップ無し
トラップ有り
(固溶
T)
蓄積量
(捕捉
T)
トラップ密度
Co
平衡定数
f
濃度
C’t
(固溶
T)
濃度
Ct
蓄積量
高木(京大)より
18
高エネルギーイオンによる照射損傷実験(
高エネルギーイオンによる照射損傷実験(
W
W
)
)
タングステン試料 焼結圧延材(99.99 at.%) 0.01 μm 以下の鏡面研磨 エネルギー:300, 700 keV H - パルス幅:~1 sec (60 sec に1回の照射) 試料温度:473 K 以下 一次イオン:5 keV Cs+ 二次イオン:D - 核反応法(NRA)で絶対校正 エネルギー:1 keV (D+, D2+, D3+) 照射量: 5.0 x 1023 - 1.6 x 1025 D+/m2 試料温度:473 K 昇温速度:1 K/s 昇温範囲:R.T. ~ 1100 K 重水素注入実験 照射損傷形成実験 二次イオン質量分析法(SIMS) 昇温脱離測定(TDS)19 5 4 3 2 1 0 D is pl ace m ent ( dpa ) 2.5 2.0 1.5 1.0 0.5 0.0 Depth (μm) 1.4 1.2 1.0 0.8 0.6 0.4 0.2 0.0 D C oncent ra ti on ( x10 27 D /m 3 ) Displacement 5.0 x 1023D+/m2 2.0 x 1024D+/m2 5.0 x 1024D+/m2 8.0 x 1024D+/m2 1.6 x 1025D+/m2
W
W
中の
中の
重水素
重水素
および軽水素密度の変化
および軽水素密度の変化
60 50 40 30 20 10 0 In te n si ty R a ti o o f 1 H/ 18 4 W 2.5 2.0 1.5 1.0 0.5 0.0 Depth (μm) 5.0 x 1023 D+/m2 2.0 x 1024 D+/m2 5.0 x 1024 D+/m2 8.0 x 1024 D+/m2 D D D D D D D D D D D D D D D D D D D D D D D D D D D D D D D D D D H H H H H H H H H H H H H H H 捕獲サイトが空いている場合(表面付近) 捕獲サイトがHで埋まっている場合(~1µm付近) 軽水素密度の変化 重水素密度の変化20
得られたデータの位置づけ
得られたデータの位置づけ
Si照射による捕獲サイトの密度
と同程度のオーダー
14 MeV 中性子でも生成率に
は大きな違いがない可能性を
示唆
* W.R. Wampler et al., “The effect of displacement damage on deuterium retention in plasma-expose tungsten”,
9th International Workshop on Hydrogen Isotopes in Fusion Reactor Materials, Salamanca, Spain (2008).
一次はじき出し原子の最大エネルギー
(タングステンの場合)
5.5 MeV
>
0.3 MeV >
6.5 keV
12 MeV Si+照射 14 MeV n照射 300 keV H-照射
0.01 2 4 6 0.1 2 4 6 1 2 4 6 10 T ra p D ei ns it y (a t. %) 0.001 0.01 0.1 1 10 Displacement (dpa) 12 MeV Si+ Wampler et al. 300 keV H This study
1 dpa for first wall at end of life in ITER
21
ITER
ITER
第一壁タングステンへのトリチウム蓄積
第一壁タングステンへのトリチウム蓄積
計算仮定
捕獲サイトの生成率: 1.4 %/dpa
捕獲エネルギー: 1.69, 2.08 eV
(7:3)
温度: 473 K
粒子束
: 5x10
20(D+T)/m
2s
ITERの運転が終了 中性子の照射損傷により
約
1桁蓄積量が増加
面積: 700 m2 厚さ: 1 cm 1023 1024 1025 1026 1027 R e ta ined A m ount ( T -a to m s) 102 103 104 105 106 107 Time (s) 700 g T limitNumber of 400s ITER Discharges
25 250 2500 25000
Roth et al.
Neutron Irradiation
J. Roth et al.
22
研究テーマの詳細3
③
ダスト
の生成・輸送と水素同位体蓄積に与える影響
1. 炭素ダスト形成メカニズム
・ 高密度Dプラズマ照射、リモートエリアでのダスト形成、パルス熱負荷影響 現状:定常プラズマ照射面でのダスト形成(ほぼ済)、他テーマ(研究中)2. タングステンダスト形成メカニズム
・ D-He高密度プラズマ照射、パルス熱負荷影響 現状:定常プラズマ照射面でのダスト形成(ほぼ済)、パルス熱負荷効果(研究中)3. ダスト中の重水素蓄積量評価
・ダスト種類(炭素、タングステン)、形成過程との対応、温度依存性 現状:昇温脱離装置整備(ほぼ済)、蓄積量測定(今後の研究)23
24
研究テーマの詳細4
④
実機における
壁材料の
損耗・再堆積
と再堆積層の水素同位体蓄
積・放出挙動(主に、
JT-60Uトカマク装置)
1. 炭素の発生と輸送、及びその粒子バランスに与える影響
・ グローバルな粒子バランスに対する壁温度とプラズマ密度の影響 現状:JT-60Uトカマク装置での研究(済) ・13Cパフ実験による炭素の輸送と重水素吸蔵 現状:13C再堆積量分布測定(今後の研究)2. JT-60Uトカマクでの炭素再堆積層の形成と水素同位体蓄積
・ プラズマ対向面での堆積 現状:プラズマ対向面(ほぼ済み) ・ タイルギャップやリモート領域での堆積 現状:タイル分析(実験中)3. タングステンの損耗・輸送・再堆積(炭素と共堆積)
現状:再堆積分布測定実験(研究中)、炭素・タングステン再堆積層中のD蓄積(今後の研究)25 2.0 1.5 1.0 0.5 0.0
Wall retention / pulse
( 10 23 particles ) 2.0 1.5 1.0 0.5 0.0 Wall retention ( 10 24 particles ) ne / neGW~0.55 ne / neGW~0.7 ne / neGW~0.8 13 CH4 injected 4 3 2 1 0 ( 10 18 ph / sr m 2 s ) 49880 49875 49870 49865 49860 49855 Shot # CD intensity
JT-60Uの30秒Hモード放電における粒子バランスより求めた
容器内重水素リテンション
(粒子バランス:
Φ
wall=
Φ
gas+
Φ
NB–
Φ
pump)
• 低密度放電(ne/neGW~0.55): 1ショットあたりのリテンション はショット毎に減少して一定値に。 (ショット間に放出される量を考 慮すればほぼゼロになる。よって 飽和状態に近い) • 高密度放電(ne/neGW~0.7): 飽和状態であったにもかかわらず リテンションが増加。 同時にダイバータでのCD発光強度 も増加。 =>化学スパッタリングで発生した 炭素と水素の供堆積が再びリテン ションを増加させたことを示唆。 高密度放電(ne/neGW~0.7)では、ダイバータより13CH 4を入射 今後、取り出したタイル上の13C堆積層中に含まれる重水素数を測定し、粒子バラ ンスより求めた重水素リテンションと比較して、化学スパッタリングのリテンショ ンに対する効果を定量的に明らかにしてゆく予定 高密度放電(ne/neGW~0.7)では、ダイバータより13CH 4を入射 今後、取り出したタイル上の13C堆積層中に含まれる重水素数を測定し、粒子バラ ンスより求めた重水素リテンションと比較して、化学スパッタリングのリテンショ ンに対する効果を定量的に明らかにしてゆく予定
仲野(
JAEA)より
26
研究テーマの詳細5
⑤ 再堆積層中の
水素同位体除去
1. グロー放電洗浄による水素同位体除去
・ 壁材料(SS、炭素、タングステン)、放電ガス種 現状:SSでのD吸蔵と希ガスプラズマによる除去(ほぼ済み)、炭素及びタングステンで の実験(今後の研究)2. 同位体交換反応による水素同位体置換
・ 壁材料(タングステン、炭素)、温度、イオンエネルギー 現状:予備実験のみ(今後の研究)27
今年度の結果
(グロー放電洗浄)
Glow discharge apparatus
28
(1)
Dグロー放電によるHリテンションの低減
H
2放電後
D
2放電を実施→
2時間で約90%を除去
(
3.4x10
16H/cm
2, 4.6x10
16D/cm
2, Removal ratio:86%)
H2グロー放電(H2) 0.0 1.0 2.0 3.0 4.0 5.0 6.0 7.0 8.0 0 2000 4000 6000 Time[s] 分圧 [Pa ]During glow discharge
D2グロー放電
0.0
2.0
4.0
6.0
8.0
0
2000
4000
6000
Time[s]
分圧
[Pa
]
0.0
0.5
1.0
1.5
2.0
分圧
[Pa
]
During D
2glow discharge
D
2HD
H
2D2 discharge well removes H retention !
29
(4)
D
2
放電後
He 放電でD除去
H除去まで含めると45%減
D2グロー放電(HR-QMS) 0.0E+00 4.0E-05 8.0E-05 1.2E-04 0 2000 4000 6000 Time[s] 信号値 0.E+00 2.E-05 4.E-05 6.E-05 8.E-05 During glow dischargeD2 HD H2 Heグロー放電(HR-QMS) 0.0E+00 1.5E-06 3.0E-06 4.5E-06 6.0E-06 7.5E-06 10500 12500 14500 16500 Time[s] 信号値 0.0E+00 6.0E-07 1.2E-06 1.8E-06 During glow discharge
H2 He D2 HD Preliminary