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Sur f ac eI mpr ove me ntofNbbyAIMol t e nSal tEl e e t r ode pos i t i onandHi ghTe mpe r at ur e Oxi dat i onRe s i s t anc e

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全文

(1)

3 5

研 究 論 文

A

lの溶融塩電折 による金属

Nb

の表面改質 とその耐高温酸化性

久 ,* 良

, *

*原 基 *

Sur f ac eI mpr ove me ntofNbbyAIMol t e nSal tEl e e t r ode pos i t i onandHi ghTe mpe r at ur e Oxi dat i onRe s i s t anc e

Mi c hi hi s aFuKUMOT O†,Tos hi r oNAGAT AKI † †andMot oiHARA†

Thes ur f ac ei mpr ove me ntofNbt oi mpr ovet hehi ght e mpe r at ur eoxi dat i onr e s i s t anc ewas c ar r i e doutbyAle l e c t r ode pos i t i onus i ngt hemol t e ns al tasane l e c t r ol yt e . El e c t r ol ys i sofAIwas c onduc t e d us i ng pot e nt i os t at i cpo l ar i z at i on me t hod a tc ons t antpot e nt i al si n an e qui mol ar NaC1 ‑ KClme l tc ont ai ni ng1 ‑5m01 %AI F 3 atl O 2 3 K . Themas sofe l e c t r ode pos i t e dAli nc r e as e d wi t h ade c r e as ei n pol ar i z at i on pot e nt i a l . De pos i t sf or me dat ‑ 1 . 3‑‑ 1 . 6V( v s .Ag/Ag十( 0.

1))

c ons i s t e dofhe mi s phe r i c alAlphas eandl ame l l arNb‑ Alal l oyphas e . Theal l oyphas ec ons i s t e dof NbA

13

. Ni o bi um c ove r e dbyt heNbal umi ni dewasmor er e s i s t antt hanbar eni o bi um t ohi gh t e mpe r at ur eoxi dat i onat1 2 7 3Kf or1 0. 8ksi nai r.

Ke yWo l ・ d s: e l e c t r ode pos i t i on, hi gh t e mpe r at ur e oxi dat i on, mol t e n s al t , ni o bi um al umi ni de

,

al umi ni um

1 . 緒 言

金属 ニオ ブ

( Nb)

は密度

( 8. 6kg/m 3)

Ni( 8. 9kg/m 3)

と同程度 でかっ融点 は

2 7 41K

と高 く,資源的に も比較的恵 ま れている。従 って

,Nb

基合金 は次世代耐熱材料1)として注 目 されている。 しか し

,Nb

および

Nb

基合金 は耐酸化性 に劣 る とい う欠点

24)

があ るため,現在,酸化雰囲気での高温構造材 料 と して実用化 の段階 には至 って いない。 これ は

,Nb

酸化

4 )

が本質的に非保護性であることに起因す る。

金属

Nb

の耐酸化性 は

Cr,Al ,Si

の添加 によ り金属酸化物 の保護的スケールを形成す ることによって可能 となる。今 まで に, これ ら元素を単独 または複合添加する試みが行われてきた。

Doyc hak

5)

NbA

l。に

Cr

Y

を単独 または複合添加 した 合金 の耐酸化性 について調査 し

,Cr

添加合金で は

AI NbCr

が合金表面 に形成 して耐酸化性の向上 に寄与 していることを確 認 して い る。 一方

, Gr abke

6)

Nb‑ Al ‑ Ni

系 の

NbNi Al ‑ Ni Al ‑ NbA

lの

3

相合金が比較的優 れた耐酸化性 を示す ことを 報告 している。 また,林 ら

7)

NbA

13への

MgO

または

MgSi 2

の添加が耐酸化性の改善 に効果的であることを明 らかに してい る。最近,村上 ら

8 )

Nb 3 A 1 2 Si 5

が優れた耐酸化性 を有す るこ とを兄 いだ し, この

Nb

基合金を耐熱性 コーティング皮膜 とし て被覆す ることを提案 している。

金属

Nb

の耐酸化性 を向上 させ る添加元素 として,前述のよ うに

,Cr,Al ,Si ,Ni

等が挙 げ られ るが, これ ら元素 を多量 平成1

5

8

月1

5

日受付 ;平成1

5

年1

0

1

]受理

*秋 田大学工学資源学部

〒01 0‑ 85 02

秋 田市手形学園町

1‑1

**秋 田大学大学 院生

千De p a r t me n to fMa t e r l a l sS c l e n C ea n dEn g i n e e r i n g

,

Fa c u l t yo fEn g i n e e r l n ga n dRe s o u r c eS c i e n c e , Ak i t aUn i v e r s i t y

,

Ak l t a 01 0‑ 85 02

千千Gr a d u a t eS t u d e n t , Ak l t aUn l V e r S l t y

に添加す ることは

,Nb

基合金の機械的特性 に対 しては望 ま し いことではない。 このため,各種元素を添加することにより耐 酸化性 を改善す るのではな く,表面処理 によ り耐酸化性を改善 す ることが検討 されている。著者 らは安価 で大 きな面積 に処理 で きる表面処理 として電析法 に注 目し,電析法 により耐高温酸 化性表面 を作製す ることを検討 している。 これまで,溶融塩を 媒体 に した

Al

の電析法 によ り

Ni 9 ) ,Ti A

llO)およびステ ンレス

鍋ll)表面 に

Al

濃度 の高 いアル ミナイ ド層 を形成す ることによ り耐酸化性が改善 され ることを報告 して きた

。Nb

を基板試料 と して

Al

を竃析 させ た場合 に も

Al

濃度 の高 い

Nb

アル ミナ イ ド表面層の形成が予想 され, この層の形成 は

A 1 2 0

。皮膜 の形 成を促すため耐酸化性の向上が期待 され る。

以上 の背景 よ り本研究で は

,1 0 2 3K

NaCl ‑ KCl ‑ AI F 3

i容融 塩を用 いて

Nb

上 に

Al

の電折 を行 い,電折 と同時に進行す る

Nb

との合金化 によ り

Nb

アル ミナイ ド層 の作製 を試 みた。 と くに定電位電解 により電折を行 い,電析層形態に及ぼす分極電 位の影響 を調べた。 さらには

,Nb

アル ミナイ ド層を表面層 に もつ

Nb

試料 の耐高温酸化性を金属

Nb

と比較 して評価 した。

2.

実験方法

カソー ド基板試料 には厚 さ

1mm

の金属

Nb ( 9 9. 9mas s %)

板 を約

1 0mmXI Omm

の面積 に切断 した ものを使用 した。試 料表面 はエメ リ一紙

8 0 0

番 まで研磨 した後, アセ トン中で超音 波洗浄す ることによ り調整 した

。Nb

試料 の上端部 には内径

1mm

の穴 を開 け, リー ド線 として直径

¢0. 5mm

の白金線 を つないだ ものを試料極 とした。 この場合, 白金線が溶融塩 と接 す る部分 に被覆材の被覆 は行わなか った。 また

,Nb

試料 に も 被覆材 を被覆せず,試料全体が溶融塩 と接す るように した。対 極 のアノー ド電極 には,直径

¢6mm

,長 さ約

5 0mm

の黒鉛棒 を使用 した。電解浴 には,

1 ,3

.

5

および

5m01 %

AI F 3

を添 加 した等 モル組成の

NaC1 ‑ KC

l混合塩を使用 した

。NaCl ,KCl

(2)

3 6

福本倫久 ・長瀧俊郎 ・原

および

AI F 3

には市販 の特級試薬 を使用 し

,NaC

lおよび

KCl

については混合す る前 に

5 4 3K

8 6. 4ks

の真空乾燥処理を行 っ

Fi gur e

lに電解 セルの概 略図を示す。 セル容器 には内径

¢ 3 5mm

,高 さ

1 5 8mm

のアル ミナるつぼを使用 した。 このセル をさ らに外径

¢6 3mm

,高 さ

3 0 0mm

の石英製 の管 に入れ,樵 型電気炉中に設置 した。照合電極,熱電対用保護管を設置 した セル容器中に混合塩を入れ, これを昇温 した。塩が溶融 し,浴 温度が

1 0 2 3K

に達 した後,実験直前 に基板の試料極 な らびに 対極を浴中に浸潰 した。水冷 キ ャップを用いて電極を固定 し, 試料極 と対極 については上下 に移動で きるように した。電解浴 の量 は,溶融後 の液面が試料極 の上端 よ り約

1 0mm

高 くなる ように決定 した。電気化学測定 に際 しては,混合塩の昇温前 に, 高純度

Ar

ガスをセル中に導入 し,セル中を

Ar

雰囲気 に した。

混合塩 の昇温 中 な らびに電析実験 中には

Ar

ガスを流速

3. 3×

1 0 6 m 3 ・ S

1で セル中 に流 し込 んだ。 照合電極 には, 外径

¢6 mm

,長 さ

5 0 0mm

のムライ ト管 ((秩) ニ ッカ トー

,NC

保護 管) の中に

NaC1 ‑ KCl ‑ AgCl( 4 5:4 5:1 0m0 1 %)

混合塩 を入 れ, この中に

Ag

線を浸漬 した ものを使用 した。

カソー ド分極曲線の測定 は,基板試料の純

Nb

を試料極 とし, 電位掃 引法 によ り行 った。測定温度 は

1 02 3K

と し,掃 引速度

1 . 7× 1 0 3 v ・ S

1とした。電析実験 は, カソー ド分極曲線 よ り 明 らかにな った

Al

イオ ンの還元電位 に

0. 9ks

,定電位分極す ることにより行 った。定電位分極中, カソー ド電流の時間変化 を測定 し, カソー ド反応 における電気量を測定 した。 また,竃 析物質の質量を求めるため,定電位分極後 の試料質量を測定 し

( Na Cト K Cト A I F 3 )

Fi gur e1 El e c t r ol yt i cc e l lf ore l e c t r ode pos i t i one xpe r i me nt .

電析実験後,電解浴か ら試料を取 り出 し,試料表面 に付着 し た塩を水洗 いにより除去 した後,試料表面,断面を走査型電子 顕微鏡

( SEM)

な らびに電子線プローブマイクロアナライザー

( EPMA)

によ り観察,分析 した。 さ らに電析物 の同定を

,Ⅹ

線回折法 によ り行 った

Ⅹ線源 には

CuK α

線を使用 した。

電析処理後 の試料 の耐酸化性 を評価す るため,電析処理 した

Nb

試料 と未処理 の

Nb

試料 の酸化増量曲線を大気 中

,1 27 3K

で熱天秤を用 いて連続測定 した。

3 .

結果 お よび考察

3.1

カソー ド分極挙動

Fi gur e2

, 1 0 2 3K

NaC1 ‑ KC

li容融塩 中 と これ に

1 ‑5 m01 %

AI F 3

を添加 した溶融塩中における純

Nb

試料 のカソー

ド分極 曲線 を示す

。AI F 3

を添加 していない塩 中においては,

1 . 8V

付近 までは電位を低下 させて もほとん どカソー ド電流 は 流れなか った。

‑ 1 . 8V

以下 の電位域 で は

Na‑

あ るいはK+の 還元反 応 と推定 され るカ ソー ド電流 の上昇 が観察 され る。

AI F 3

を添加 した塩 で は,‑

1 . 3V

付近か らカソー ド電流 の上昇 が認 め られ る。 この場合

,AI F 3

の添加量 の増加 とともに分極 電位の低下 に伴 うカソー ド電流の上昇が大 きくなる。 したが っ

,AI F 3

を添加 した浴中で は,‑

1 . 3V

以下 の電位域 において

AI F 3

が関与 したカソー ド還元反応が起 こって いるもの と考 え

られ る。

3 .2

電析質量の分極電位 による変化

3. 5m01 %

AI F 3

を添加 した

1 0 2 3K

NaC1 ‑ KC

l溶融塩を電 析用 の浴 と し

,Fi gur e2

よ り

AI F 3

が関与 したカソー ド還元反 応 のみが起 こると推定 された‑

1 . 3‑‑ 1 . 6V

の各電位で

0. 9ks

電位 カソー ド分極 を行 い

,Nb

試料上への

Al

の竃折 を試みた。

Fi gur e3

に‑

1 . 3‑‑ 1 . 6V

の各電位 に定電位分極 した ときのカ

0 0 0 2 N'∈ ・

V

J \

!su

a Q

l

u

O

JL n

3

0 0 0 0 5 0 1 ■.1.

‑ 2. 5 ‑ 20 1 1. 5 ‑ 1. 0 ‑ 0. 5

Po t e n t i a l , ど / Vv s . Ag/ Ag CK 0. 1 )

Fi gur e2 Cat hodi cpol ar i z at i onc ur v e sofNbme as ur e dat

l O2 3Ki nt heNaCLKClme l twi t houtandwi t h1

,

3. 5and5m01 %AI F 3.

(3)

Al

の溶融塩竃折 による金属

Nb

の表面改質 とその耐高温酸化性

3 7

ソー ド電流密度 ‑時間曲線を示す。各分極電位 とも, カソー ド 電流密度 は分極の初期段階で大 きく,時間の経過 とともに減少 す るが

,0. 2 5ks

以降にはほぼ一定 となる。

電着反応の電流効率の分極電位依存性 を調べ るため,各電位 における電着物の質量を電気量 に変換 した。ただ し,電着物の 質量 を電気量 に変換す る場合 には,式 (1) の

3

電子反応 によ

Al

が電着す ると仮定 した。

A

13

+

+

3 e

‑ Al ( 1 )

また, カソー ド反応 に費や された全電気量 を

Fi gur e3

に示 し

よ り求めた

。Fi gur e 4( a)

に, このような電着

Al

の質量か ら 見積 もられた電気量 とカソー ド反応 に費やされた全電気量を と もに分極電位 に対 して示す

。Fi gur e4 ( b)

には,全電気量 に 対す る電着

Al

の質量か ら見積 もられた電気量の比,すなわち,

Al

の電着反応 における電流効率 を分極電位 に対 して示す。 こ れより,電着反応の電流効率が

8 0%

以上 と高 いことがわか る

電着反応 の電流効率が

1 0 0%

にな らなか った理 由 として は,以 下の ことが考え られ る。竃析温度 の

1 02 3K

で は

Al

は液体であ るため,電着 した

Al

は濡れ性 の悪 い箇所で一部電極か ら落下 す る。 このため実際に測定 された電着質量 は,電気量か ら見積 もられた電析質量 よ りも少 な くな り,電流効率が

1 0 0%

にな ら なか ったと考え られる

3 .3

電析層の形態および組成

Fi gur e5

に,各電位で分極 した後の試料の外観写真を示す。

各電位 とも試料表面 に円状の凸部が分散 して観察 され る。電極 電位の低下 にともない試料表面上の凸部の面積が大 きくな って いることがわか る。後で述べ るように,円状の凸部 は電析 した

Al

である。

Fi gur e6

に,‑

1 . 3

‑‑

1 . 6V

の各電位 に

0. 9ks

定電位分極を行 っ

0 0 0 ∩) 0 0 0 0 0 5 0 5 2 1 1 l [ L (

N . Lu ・ V

Jr^)!

S u a 凸 l u O

J

L

n

U

l ‑ 1 . 6V ー

l

/ ‑ . . 5V ̲ .. .V ̲ . . 3V /

i

0. 25 0. 5 0. 75 1

Ti me

,t

/k s

Fi gur e3 Cur r e ntde ns i t y‑ t i mec ur v e sdur i ngpot e nt i os t at i c pol ar i z at i onofNbc at hodea tv ar i o uspot e nt i al s i nt heNaCLKClme l tc ont ai ni ng3. 5m01 %AI F 3 at l O 2 3Kf or0. 9ks ,

た試料表面 の

SEM

写真 (後方散乱電子線像 :

BE

I) お よび

Nb

Al

の特性 Ⅹ 線像 を示す

。SEM

写真 において円状 の黒 く見 え る部分 には

Al

が多 く含 まれ

,Nb

の含有が ほとん ど認 め られなか った。一方, これ以外 の部分 には

Al

Nb

両元素 の含有が認 め られた

。Al

か ら構成 され る円状 の部分 は

Fi gur e 5

の凸部分 に対応 してお り,後述す るよ うに竃析 した

Al

であ

る。分極前 の試料表面の研磨の際に生 じた研磨傷 は観察 されな か った。

Fi gur e 7

,Al

が多 く電析 された凸部分

( l ar geA1 ‑ de po s i t par t )

とその他 の

Al

Nb

の両元素 を含 む部分

( s mal lA1 ‑ de pos i tpar t )

の表面近傍断面 の

SEM

写真 (後方散乱電子線 倭) を示す

。Al

竃析量の少 ない凸部分以外 の部分

( s mal lA1 ‑ de pos i tpar t )

で は,基板

Nb

上 に層状 の電析物質 の生成が認

NILu ・

UVqJD(^1P

!J t U a 一山 ‑ 0

^

)! lu 雪 0

%

(

^3uaP!)1

山 lu a JJ n

U

0. 6

0 . 4

0.2

0 0 0 6 4 2

T o t a l

Es . i m b

MassofDeposi t

1 1. 7 1 1. 6 ‑ 1. 5 1 1 . 4 ‑ 13 ‑ 1. 2

Potentia

I , E/

V vs.Ag/AgCl(0.1)

Fi gur e4 Quant i t yofe l e c t r i c i t yf ore l e c t r o de pos i t i one s t i 一 mat e df r om t hemas sofde pos i t ,andt ot alquan‑

t i t y ofe l e c t r i c i t y pas s e ddur i ng po t e nt i os t at i c pol ar i z at i onf or0. 9ksi nt heNaCLKClme l tc o n‑

t ai ni ng3. 5m01 %AI F 3 ,( a)andc ur r e nte f f i c i e nc y f ore l e c t r ode pos i t i onr e ac t i onofal umi num,( b)

,

asaf unc t i onofpol ar i z at i onpot e nt i a l .

(4)

3 8

福本倫久 ・島瀧俊郎 ・原

notreatment

1.3V 1.5V

‑ 1 1 4V

1.6V

5mm

Fi gur e5 Sur f ac eappe ar anc eaf t e rpot e nt i os t a t i cpol ar i z a‑

t i onofNbc at hodeatvar i o uspo t e nt i al sf or0. 9ks i nt heNaCl ‑ KClme l tc ont ai ni ng3. 5m01 %A I F 3

.

BEl ̲At Nb

>8‑㌔̲

H 200日m Fi gur e6 Sc anni ng.e l e c t r on mi c r ogr aphs ( bac ks c a t t e r e d

e l e c t r on l mage: BEI ) andc har ac t e r i s t i cX‑ r ay i mage s ofAland Nb f or Nb s ur f ac e af t e r pot e nt i os t at i cpol ar i z a t i onat ‑ 1 . 3 ,‑ i . 4 ,‑ 1 . 5and

‑ 1. 6Vf or0. 9ksi nt heNaC1 ‑ KClme l tc ont ai ni ng 3. 5m01 %A I F 3.

Ta bl e1 Che mi c alc ompos i t i onsof( a)( b‑

1

),( b‑ 2 )and( C ) poi nt so n c r os s ‑ s e c t i onss hown i n Fi gur e7and phas e se s t i mat e df r om t hec he mi c alc ompos i t i ons .

Po t en t i alLo c a t i onont h e Comp Ch emi os c i t aJ i on Es t i ma t ed Cr os s ‑ s ec t i on ( mol ̲ %) Ph as e

Nb Al

‑ 1. 3V ( ( a) b ‑ 1 ) 0. 7 4. 0 5 25. 1 00. 5 0 Al Nb A l 3

( b ‑ 2) 75. 6 2 4. 4 Nb A l ,

( C ) 1 0 0. 0 0. 0 Nb

‑ 1 . 4V ( ( a) b ‑ 1 ) 0. 75. 0 5 1 2 4. 00. 5 0 Nb Al A l 3

( b ‑ 2) 75. 6 2 4

.

4 Nb A l 3

( C ) 1 0 0. 0 0. 0 Nb

‑ 1. 5V ( ( a) b ‑ 1 ) 0. 73. 0 6 26. 1 0 0. 4 0 Nb Al A l 3

( b ‑ 2) 7 4. 5 25. 5 Nb A l 3

( C ) 1 0 0. 0 0. 0 Nb

‑ 1. 6V ( ( a) b ‑ 1 ) 76 0. 0

.4

23. 1 00. 6 0 Al Nb A l 3

( b ‑ 2) 7 4. 5 25. 5 Nb A l 3

smaHAトdeposi tpar t t ar geAトdepos叩 ar i l

ぐ つ

㍗ i 塞( こ )▲

>

l ∫ ) L i Z L J ‑ 隻 ̲I

rI O 、 ( C ) ▲ ・ = 三 一 三

H 5 i t m Fi gur e7 Bac ks c at t e r e d e l e c t r on i mage s of t he c r os s ‑

s e c t i onso fc at hode saf t e rpot e nt i os t at i cpol ar i z a‑

t i ona t ‑ 1 . 3 ,‑ 1 . 4 ,‑ 1 . 5and‑ 1 . 6V f or°. 9ksi nt he NaCl ‑ KClme l tc ont ai ni ng3. 5m01 %A I F 3

.

1 Al

,●

Nbal umi ni de

,▲

Nb

(5)

Al

の溶融塩電折 による金属

Nbの表面改質 とその耐高温酸化性 3 9

め られ る

。Al

が多 く電析 した凸部分 で は,厚 い

Al

層 と基板

Nb

の間 に層状 の物質 が観察 され た。 この物質 の厚 さは

2‑4

〟m

程度 であ り,電位低下 によ り厚 くなる傾向が認 め られた。

Tabl e

lに

,Fi gur e7

に示 した各電位で生成 した竃析物質中, 写真上 に示 した

( a) ,( b‑

1)

,( b‑ 2 )

の箇所 と下地 の

( C )

の箇 所 の

EPM

A, エネルギー分散型分析器

( EDS)

による定量分 析の結果 を示す。 また, この表 には化学組成 より推定 され る相 を合わせて示す

。( b‑

1) な らびに

( b‑ 2 )

に対応す る層状物質 とも

Al

Nb

によ り構成 され,化学組成 よ りこれ らの層状物 質 は

NbA

13であることがわか る。 また

,Al

が多 く電析 された 凸部の

( a)部分 は Al

により構成 されることが確認 され る。

各電位 で定電位分極 した際 に生成 した竃析物質 を Ⅹ 線回折 によ り相 の同定 を行 った。結果 を

Fi gur e8

に示すo この図か ら,各電位で

Al

NbA

13が同定 される

。Al

は,凸部 の

( a)

部分 に対応 し

,NbA

1

3

( b‑

1) および

( b‑ 2 )

部分の層状物質 に対応す る。

これまで述べて きたよ うに

,Nb

上への

Al

電折 においては, 局部的 に

Al

の析 出が認 め られ

,NbA

13台金屑 の厚 さは

2‑4

2

2

?

not 「 2 eat men 2 t

n W O n A k b b ̲ n N N A U 1 2 3

つ・

( l !

un.q

L

e)A)!Sualul

l

l?

2 3 1 1 2 2 ̲ 1. 3 2 3V

2

l l

?

1 3 ̲ 1

.

4V 2

1

3

2

1 ?

3 3

1

? 1

2 3

1

2 2 ‑ 1. 5V

2

l

l

?

3 ‑ 1. 6V

1 2 2

l l

? 3 2

l l

? 3 2

20 o 300 400 500 60O 70o 80 0 90

o

D肝r ac t i onAng一 e,20

Fi gur e8 Ⅹ‑ r aydi f f r ac t i onpr of i l e sobt ai ne df r om t hes ur ‑ f ac eo fc at hode saf t e rpot e nt i os t at i cpol ar i z at i on at‑ 1

.

3 ,‑ 1

.

4 ,‑ 1 . 5and‑ 1 . 6Vf orO. 9ksi nt heNaC1 ‑ KClme l tc ont ai ni ng3. 5m01 %AI FSatl O 2 3 K.

〟m

程度 と薄か った。一方, これまで報告 して きた

N

i

9 ) ,Fe l l )

上への

Al

竃桁 において は,電析 された

Al

がすべて合金層 を 形成 し

,Al

の析出は認 め られなか った

。Nb

上への

Al

の電折 において合金層厚 さが薄 く, さ らに

Al

の析 出が認 め られたの

,Nb

中における

Al

な らびに形成 された

NbA

13中における

Al

の拡散が遅 いことに起因す ると考え られる

3.4

電析試料の耐高温酸化性

Fi gur e9

,l l . 6V

0. 9ks

定電位分極す ることによ り

NbAl 。

層 を被覆 した

Nb

試料 な らびにこれを被覆 していない

Nb

試料 を大気中

,1 2 7 3K

で酸化 した時の酸化増量曲線 を示す。被覆

o ・ 6 0

4

0 ・ 2 N . ∈ ・ 6

WゝミV

(u !

t2

9 S S e

m

0 2. 5 5 7, 5 1 0 1 2.

Ti me . t /k s 5 Fi gur e9 Mas sgai n‑ t i mec ur ve sofNbs pe c i me nswi t hand

wi t houtNbal umi ni del aye roxi di z e dat1 2 7 3Ki n ai r.

bef or eoxi dat i on af t eroxi dat i on

也)

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a

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壬10mm

Fi gur e1 0 Sur f ac ea ppe ar anc e sofNbaf t e roxi dat i onwi t h

andwi t houtNbal umi ni del aye roxi di z e df or

l O. 8ksat1 2 7 3Ki nai r.

(6)

4 0

福本倫久 ・長瀧俊郎 ・原 して いない

Nb

試料 に比べ被覆 した

Nb

試料 の酸化増量 は極 め

て小 さ く

,NbA

1

3

層 を表面 層 と して形 成 す る ことによ り耐酸 化性が著 しく向上 した ことがわか る。

Fi gur e l

Oに酸化前 と酸化後 の試料 の外観写真 を示す。 これ より未処理材では厚 い酸化物 スケールが形成 され,酸化物 スケー ルの剥離が観察 され る。一方,竃析処理 を施 した試料 で は形成

(

a

)

wi t h o u t

A

垂 d ep o s i t

lier

Fi gur el l Bac ks c at t e d e l e c t r on i mage s of t he c r os s ‑ S e c t i onsofNbwi t handwi t ho utNbal umi ni de l a ye raf t e roxi da t i onf or 1 0 . 8 ksi nai rat 1 2 7 3 K.

( a)wi t houtAl deposi tl ayer

()!

u

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・q J

e)

su

a t u ] (l !u

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Lt2 )A )!

S

ua lu L

され る酸化物 は薄 く,酸化物 の剥離 は観察 されなか った。 また, 竃折 を施 した試料 の酸化試験前 に観察 され る

Al

部分 は酸化試 験後 に消失 して いた。 これ は, 酸化温 度 が

Al

の融点

( 9 3 3 . 2

K)に比べか な り高 い ことか ら,酸化試験 中 に液体化 した

Al

が蒸発 したことによると考 え られ る

Fi gur e l

lに

,Fi gur e 1 0

に示 した試料 の断面写真 (後方散乱 電子線像) を示 す。 図 中

( a)

NbA

13層 を被覆 して い ない

Nb

試料 の結果であ り

,( b)

は被覆 した

Nb

試料 の結果である。

末被覆

Nb

試料 において は,生成 スケールは約

4 4 0/ Jm

と厚 く, スケール と下地

Nb

と界面近 くにおいて クラックの生成が観察 され る。 この クラックは酸化実験過程 で生 じた もので はな く, 実験終了後 の冷却過程 で酸化物 と金属

Nb

の熱膨張係数 の違 い によ り生 じた もの と思われ る。一方, アル ミナイ ド層 を被覆 し た試料で は,厚 さ

1pm

程度 の薄 いスケールの形成が認 め られ る。 このよ うな生成 スケールの違 いが, アル ミナイ ド層被覆試 料 と未被覆試料 の酸化増量 の違 いに対応 して いる。

Fi gur e 1 2

に酸化後 の試料 の Ⅹ 線回折 の結果 を示す。未処理 材 において は

Nb 2

0

5

の回折 ピークが認 め られ,形成 した酸化 物 は

Nb 2 0

5で あ る ことがわか った。一方,竃析処理 を施 した 試料 で は

,NbA 1 3 ,Nb

の ピー クの他 に

a‑ A1 2 03

の ピークが観 察 された。 したが って,形成 された酸化物 は

A

1

2

0

3

であること が確 認 され る。 また, 処理 材 にお いて は, 酸 化 前 と同様 の

NbA

13の ピー クが観察 され た。 したが って

,1 2 7 3K,1 0 . 8 ks

の酸化過程 において

NbA

13は

Al

濃度 の低 い

NbA

12や

Nb 3 Al

に変質 しない ことがわか った。

4

4 4 4 4

( b)wi t hAl deposi tl ayer

2 1

1 1 1 3 1 23 3

1: NbAl 3 2: N b

3:α‑ Al 2 0 。

4 :Nb 2 0 5

200 300 400 500 600 7 00 800 900 Di f f r act i onAng一 e,20

Fi gur e 1 2 Ⅹ‑ r aydi f f r ac t i onpr o f i l e so bt ai ne df r om t hes ur f ac eofNbwi t h

andwi t houtNbal umi ni del aye raf t e roxi dat i onf or

10.8

ksi nai r

at 1 2 7 3 K.

(7)

Al

の溶融塩竃折 による金属

Nbの表面改質 とその耐高温酸化 陸 41

4 . 緒言

A I F 3

を含 む

NaCl ‑ KC

l溶融塩 中

,Nb

基板上 に

Al

を電析 さ せ ることによ り

,Nb

アル ミナイ ド表面層 の形成 を試み, さら に,その耐酸化性を調べた。得 られた結果 は以下 のとお りであ

(1)電着 した

Al

の質量 は,分極電位 の低下 に伴 うカソー ド電 気量 の増加 とともに増加 し,電着反応の電流効率 は

8 0‑9 0%

と高か った。

( 2 )

竃析後 の試料表面 には,半球状 の

Al

が分散 し, この

Al

層 と下地

Nb

界面 に層状 の合金相 が形成 された。 合金相 は

NbA

13であ り, これは基板

Nb

を均一 に被覆 し,基板

Nb

の密着性 は良好であった。

( 3 )NbA

13で被覆 された

Nb

試料を

1 2 7 3

K,大気中で酸化 した 結果, 酸化増量 は極 めて小 さか った。 この場合

,NbA

13層 表面 には保護的な

A 1 2 03

皮膜の形成が認 め られた。

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l

l ,5 1 0

.

l l )

福本倫久,原 基,藤盛

剛 ( 2 0 0 3 )

:溶融塩竃析法 によ

Tabl e lに ,Fi gur e7 に示 した各電位で生成 した竃析物質中, 写真上 に示 した ( a) ,( b‑ 1 ) ,( b‑ 2 ) の箇所 と下地 の ( C ) の箇 所 の EPM A, エネルギー分散型分析器 ( EDS) による定量分 析の結果 を示す。 また, この表 には化学組成 より推定 され る相 を合わせて示す 。( b‑ 1 ) な らびに ( b‑ 2 ) に対応す る層状物質 とも Al と Nb によ り構成 され,化学組成 よ りこれ らの層状物 質 は N

参照

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