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超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究

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Academic year: 2021

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図 3   超音波振動体型洗浄装置での洗浄の様子 図 4 に PSL 粒子 1µm を散布したサンプル基板を周波数 1MHz と 3MHz の超音波洗浄装置で洗浄した場合の出力 に対する PSL 粒子の除去率を示す。 1MHz 時も 3MHz 時 も超音波洗浄装置の出力(振幅)が大きくなるにつれて除 去率が高くなっていることが分かる。また周波数 1MHz と 3MHz を比較した場合、 1MHz の方が、洗浄力が高い傾向 にある。図 5 に PSL 粒子 0.2µm を散布したサンプル基板を周波数1MHzと

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